專利名稱：液晶顯示裝置公共電極的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置制造方法，尤其涉及一種液晶顯示裝置中公共電極的制造方法。
背景技術：
液晶顯示裝置，是平面顯示裝置中的一種，其經過幾十年來的發(fā)展，不僅在筆記本計算機領域得到廣泛應用，還在監(jiān)視器、電視及桌上型計算機領域占據越來越大的份額。
液晶顯示裝置包括上基板、下基板及設置于兩基板間的液晶層，其利用位于下基板的像素電極與位于上基板的公共電極間產生的電場控制液晶層中的液晶分子的偏轉，以達到使液晶顯示裝置顯示圖像的目的。一般的公共電極為一平面電極，其制造方法僅需要于玻璃基板上覆蓋一透明導電層，該透明導電層為ITO(氧化銦錫)層或IZO(氧化銦鋅)層。
請參閱圖1，為液晶顯示裝置的上基板制造方法的流程圖。該液晶顯示裝置的上基板即為彩色濾光片基板，其制造方法包括以下步驟步驟一提供一玻璃基板；步驟二涂覆黑矩陣；步驟三涂覆彩色濾光片；步驟四濺鍍一透明導電層，以作為公共電極。
為精確地控制液晶分子的偏轉，該透明導電層會存在多個缺口，即該透明導電層具有多個斷裂處。則，對于上述步驟四所形成的透明導電層應具有多個斷裂處。因此，該公共電極的制造方法具體如圖2至圖7所示，其中圖2為該公共電極制造方法的流程圖，圖3至圖7為該公共電極的具體制造方法示意圖。該公共電極的制造方法包括以下步驟步驟一濺鍍一透明導電層；請一并參閱圖3，在玻璃基板10上依次形成黑矩陣11(BlackMatrix，BM)、彩色濾光片12(Color Filter，CF)及保護層13(OeCota，OC)，該保護層13采用丙烯基樹脂或環(huán)氧樹脂材質制成。在此基礎上，濺鍍上一層透明導電層14，該透明導電層14采用氧化銦錫或氧化銦鋅材質。
步驟二涂覆一光阻層；請一并參閱圖4，在透明導電層14上涂覆一光阻層15，該光阻層15采用正光阻材質。
步驟三光罩顯影；請一并參閱圖5，利用激光在透明導電層14需要斷裂處照射該部位，使該處的光阻層15鍵結被打斷，再利用酸性溶液顯影，去除該處的光阻層15，形成開口部16。
步驟四蝕刻；請一并參閱圖6，采用干蝕刻或濕蝕刻工藝蝕刻開口部16處的透明導電層14，使透明導電層14于此處斷裂，形成斷裂處17。
步驟五光罩顯影；請一并參閱圖7，光罩顯影剩余的光阻層15，去除剩余的光阻層15，形成具有斷裂處17的公共電極。
但是，此種制造液晶顯示裝置中公共電極的方法需要兩道光罩工序及一道蝕刻工序，制程較為復雜，且光罩及蝕刻工序成本較高，因此該種制造方法成本也偏高。

發(fā)明內容為克服現有的制造液晶顯示裝置中公共電極的方法制程較為復雜，成本較高的問題，提供一種制程更為簡單，成本較低的液晶顯示裝置中公共電極的制造方法實為必要。
解決該技術問題的一種技術方案是提供一種液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其包括以下步驟提供一基板；在該基板多個部分區(qū)域上涂覆一光阻層；形成一透明導電層，該透明導電層部分區(qū)域形成于光阻層之上；去除光阻層，同時去除覆蓋于光阻層上的透明導電層部分。
與現有的液晶顯示裝置公共電極的制造方法相比，由于該技術方案液晶顯示裝置公共電極的制造方法是先涂覆光阻，再濺鍍透明導電層，在去除光阻的同時可去除覆蓋于光阻上的透明導電層，即可形成具有多個斷裂處的公共電極。該種制造方法不需要蝕刻工序，且可以減少光罩工序，因此，該種制造方法更為簡單，且可以大大降低制造成本。

圖1是一種現有技術液晶顯示裝置彩色濾光片基板的制造方法流程圖。
圖2是一種現有技術液晶顯示裝置公共電極的制造方法流程圖。
圖3至圖7是上述現有技術液晶顯示裝置公共電極的具體制造方法示意圖。
圖8是本發(fā)明第一實施方式液晶顯示裝置公共電極的制造方法流程圖。
圖9至圖11是本發(fā)明第一實施方式液晶顯示裝置公共電極的制造方法示意圖。
具體實施方式請一并參閱圖8至圖11，為第一實施方式液晶顯示裝置的公共電極的制造方法示意圖，其中，圖8為該第一實施方式液晶顯示裝置的公共電極制造方法流程圖，圖9至圖11為該第一實施方式液晶顯示裝置的公共電極具體制造方法示意圖。
該液晶顯示裝置的公共電極的制造方法包括以下步驟步驟一涂覆一光阻層；請一并參閱圖9，于玻璃基板100上依次形成黑矩陣110、彩色濾光片120及保護層130，該保護層130采用丙烯基樹脂或環(huán)氧樹脂材質制成。在此基礎上，涂覆一光阻層150，且該光阻層僅涂覆于公共電極需要斷裂的區(qū)域，該光阻層150采用正光阻材質，該光阻層150具有一定的厚度，因此該光阻層150為一梯形結構，且該梯形結構坡度較大，即該梯形結構的下底角角度較大，趨近于90°。
步驟二濺鍍一透明導電層；請一并參閱圖10，在步驟一的基礎上濺鍍一透明導電層140，該透明導電層140采用氧化銦錫或氧化銦鋅材質，且該濺鍍過程采用一定的速率均勻濺鍍一層透明導電層140。在涂覆光阻層150處，該透明導電層140覆蓋光阻層150，由于該光阻層150為梯形結構，該梯形結構坡度較大，且濺鍍過程采用固定的速率，該梯形結構的斜邊較長，因此，對于此區(qū)域，該透明導電層140的厚度應比其它區(qū)域的厚度要薄許多，且由于透明導電層140本身的厚度就極薄，一般小于1微米，則，該梯形結構的斜邊區(qū)域處所濺鍍上的透明導電層140的厚度極小，且易出現斷裂的部分141及142。
步驟三光罩顯影；請一并參閱圖11，用激光照射該光阻層150，由于覆蓋該光阻層150的透明導電層140厚度極小，且易出現斷裂的部分141及142，因此，該光阻層150受激光照射后，其鍵結被打斷，顯影時利用酸性溶液即可溶解該光阻層150，且可以去除掉覆蓋于光阻層150上的透明導電層140，使透明導電層140形成斷裂處160，則形成具有多個斷裂處160的公共電極。
由于該種制造液晶顯示裝置的公共電極方法僅需要一道光罩工序，與先前技術相比較，可省掉一道蝕刻及一道光罩工序，因此，該制造方法較為簡單，且成本較低。
第二實施方式制造液晶顯示裝置公共電極的制造方法與第一實施方式大致相同，其不同在于光阻層150采用負光阻材質，因此在上述第三步驟中，不需要激光照射，利用酸性溶液即可去除該光阻層150，形成具有斷裂處的公共電極。則，該實施方式可省掉一道蝕刻及兩道光罩工序，因此，該制造方法更為簡單，成本更低。
權利要求
1.一種液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其包括以下步驟提供一基板；在該基板多個部分區(qū)域上涂覆一光阻層；于該基板上形成一透明導電層，該透明導電層部分區(qū)域形成于光阻層之上；去除光阻層，同時去除覆蓋在光阻層上的透明導電層部分。
2.如權利要求1所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于該基板上還依次設置有黑矩陣、彩色濾光片及保護層。
3.如權利要求1所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于該透明導電層采用濺鍍方式形成于基板上。
4.如權利要求3所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于濺鍍該透明導電層的速率在濺鍍過程中為一定值。
5.如權利要求1所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于該透明導電層采用氧化銦錫材質。
6.如權利要求1所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于該透明導電層采用氧化銦鋅材質。
7.如權利要求1所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于該光阻層采用正光阻材質。
8.如權利要求7所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于去除光阻層時，利用激光照射該正光阻層，使其鍵結打斷，再利用酸性溶液溶解去除該光阻層。
9.如權利要求1所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于該光阻層采用負光阻材質。
10.如權利要求9所述的液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其特征在于直接利用酸性溶液溶解該光阻層，去除該光阻層。
全文摘要
本發(fā)明提供一種液晶顯示裝置公共電極的制造方法，其包括以下步驟提供一基板；在該基板多個部分區(qū)域上涂覆一光阻層；形成一透明導電層，該透明導電層部分形成于光阻層之上；去除光阻層，同時去除覆蓋于光阻層上的透明導電層部分。
文檔編號H01L21/02GK1831618SQ20051003364
公開日2006年9月13日 申請日期2005年3月12日 優(yōu)先權日2005年3月12日
發(fā)明者劉妘詩, 謝朝樺, 葉圣修 申請人:群康科技(深圳)有限公司, 群創(chuàng)光電股份有限公司