專利名稱：系統(tǒng)lcd制造用正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在一個(gè)基板上形成有集成電路和液晶顯示部分的LCD制造用正型光致抗蝕劑組合物以及使用該正型光致抗蝕劑組合物的抗蝕圖案的形成方法。
背景技術(shù)：
以往，作為用于薄膜晶體管(TFT)等液晶顯示元件(LCD)的制造的抗蝕材料，大多使用的是以酚醛清漆樹脂作為堿溶性樹脂、以含有苯醌二疊氮基的化合物作為感光成分的酚醛清漆-萘醌二疊氮系正型光致抗蝕劑組合物，這是因?yàn)樗m合ghi線曝光且比較廉價(jià)，而且具有高感度(如專利文獻(xiàn)1～4)。
在制造LCD時(shí)，在基板上只形成顯示器的象素部分，因此該正型光致抗蝕劑組合物只要具有能夠形成非常粗糙的圖案(如，3～5μm左右)的程度的分辨力即可。因此作為光源不需要使用短波長的光，用ghi線曝光已足夠，PAC也是適合該ghi線曝光的物質(zhì)即可使用。作為如上所述的PAC，因?yàn)槠淞畠r(jià)，主要被使用的是二苯甲酮系的酚化合物和1，2-萘醌二疊氮基-5-磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物(二苯甲酮)。即，在與半導(dǎo)體元件的情況相比基板的尺寸較大，并以提高生產(chǎn)能力(每單位時(shí)間的處理數(shù)量)和低成本化作為大前提的LCD制造領(lǐng)域中，第一優(yōu)選考慮的是對于ghi線曝光具有高感度并且是廉價(jià)的材料。因此，至今一直用于LCD制造的是含有二苯甲酮系PAC的正型光致抗蝕劑組合物。
目前，作為下一代的LCD，對于在1張玻璃基板上同時(shí)形成驅(qū)動(dòng)器、DAC(數(shù)字模擬轉(zhuǎn)換器)、畫像處理器、錄像控制器、RAM等集成電路部分和顯示部分的、被稱作為所謂“系統(tǒng)LCD”的高功能LCD的技術(shù)開發(fā)非?；钴S(例如，非專利文獻(xiàn)1)。
在以下的本說明書中將如上所述的在1個(gè)基板上形成有集成電路和液晶顯示部分的LCD簡稱為系統(tǒng)LCD。
以往的LCD的基板中一直使用無定形硅，而作為如上所述的系統(tǒng)LCD的基板，低溫多晶硅，特別是在600℃以下的低溫處理中所形成的低溫多晶硅，因與無定形硅相比其電阻小并且遷移率高而被認(rèn)為較合適，對將低溫多晶硅用于基板的系統(tǒng)LCD的開發(fā)研究非?；钴S。
因此，要求提供適合于使用低溫多晶硅的系統(tǒng)LCD制造的抗蝕劑組合物的開發(fā)，但直到現(xiàn)在還沒有有關(guān)系統(tǒng)LCD用的抗蝕劑材料的報(bào)道例。
專利文獻(xiàn)1特開2000-131835號公報(bào)專利文獻(xiàn)2特開2001-75272號公報(bào)專利文獻(xiàn)3特開2000-181055號公報(bào)專利文獻(xiàn)4特開2000-112120號公報(bào)非專利文獻(xiàn)1Semiconductor FPD World 2001.9，pp.50-67在系統(tǒng)LCD中，例如，顯示部分的圖案尺寸為2～10μm，而與之相對，集成電路部分卻以0.5～2.0μm的微細(xì)尺寸形成。因此，要求系統(tǒng)LCD制造用的抗蝕劑組合物具有能夠同時(shí)以良好的形狀形成微細(xì)的圖案和粗糙的圖案的能力(高分辨力及線性)。若要形成該微細(xì)的抗蝕圖案，以往適合于ghi線曝光的二苯甲酮系PAC很難適用，因此推測適合于i線曝光的非二苯甲酮系PAC有可能能適用于此。
可是，據(jù)本發(fā)明者所見，盡管非二苯甲酮系PAC在分辨力方面沒有問題，但感度卻是其難點(diǎn)?？刮g劑組合物中感度的下降將會導(dǎo)致嚴(yán)重的生產(chǎn)能力下降，因此認(rèn)為將非二苯甲酮系PAC應(yīng)用于重視生產(chǎn)能力的LCD制造領(lǐng)域比較困難。一般抗蝕劑組合物的感度和分辨力處于折衷選擇(trade-off)關(guān)系，很難同時(shí)滿足，而若要按照商業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制造系統(tǒng)LCD，急切希望開發(fā)出感度和分辨力兩者均優(yōu)良，而且適合于i線曝光等的抗蝕劑組合物。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的課題是提供能夠?qū)⒂糜谥圃煸?個(gè)基板上形成有集成電路和液晶顯示部分的系統(tǒng)LCD時(shí)所要求的高感度和高分辨力同時(shí)滿足的正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法。
本發(fā)明人等為了解決所述課題經(jīng)過專心研究發(fā)現(xiàn)，作為PAC使用非二苯甲酮系的多酚化合物和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物的正型光致抗蝕劑組合物是可以同時(shí)滿足高感度和高分辨力的材料，可適用于系統(tǒng)LCD的制造，從而完成了本發(fā)明。
即，本發(fā)明提供在一個(gè)基板上形成有集成電路和液晶顯示部分的LCD制造用正型光致抗蝕劑組合物(以下簡稱為本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物)，其特征是含有(A)堿溶性樹脂、(B)萘醌二疊氮基酯化物、(C)分子量為1000以下的含酚性羥基化合物、以及(D)有機(jī)溶劑，所述(B)成分中含有下述通式(I)所表示的化合物和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物， [式中，R1～R8各自獨(dú)立地代表氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、碳原子數(shù)1～6的烷氧基、或碳原子數(shù)3～6的環(huán)烷基；R10、R11各自獨(dú)立地代表氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基；R9可以是氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，這時(shí)，Q1為氫原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、或下述化學(xué)式(II)表示的殘基，
(式中，R12及R13各自獨(dú)立地代表氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、碳原子數(shù)1～6的烷氧基、或碳原子數(shù)3～6的環(huán)烷基；c表示1～3的整數(shù))，Q1還可以和R9的末端結(jié)合，這時(shí)，Q1和R9以及Q1和R9之間的碳原子一起表示碳鏈3～6的環(huán)烷基；a、b代表1～3的整數(shù)；d代表0～3的整數(shù)；a、b或d是3時(shí)，R3、R5或R8分別不存在；n表示0～3的整數(shù)]。
另外，本發(fā)明還提供一種抗蝕圖案的形成方法，其中包括以下工序(1)在基板上涂布所述正型光致抗蝕劑組合物，形成涂膜的工序；(2)對形成有所述涂膜的基板進(jìn)行加熱處理(預(yù)烘干)，在基板上形成抗蝕劑被膜的工序；(3)使用描繪有2.0μm以下的抗蝕圖案形成用掩膜圖案和超過2.0μm的抗蝕圖案形成用掩膜圖案這兩者的掩膜，對所述抗蝕劑被膜進(jìn)行選擇性曝光的工序；(4)對所述經(jīng)選擇性曝光后的抗蝕劑被膜實(shí)施加熱處理(曝光后烘干)的工序；(5)對所述加熱處理(曝光后烘干)后的抗蝕劑被膜進(jìn)行采用堿水溶液的顯影處理，在所述基板上同時(shí)形成圖案尺寸為2.0μm以下的集成電路用的抗蝕圖案和超過2.0μm的液晶顯示部分用的抗蝕圖案的工序。


圖1為了評價(jià)低NA條件下的線性，將正型光致抗蝕劑組合物涂布在玻璃基板上，烘烤并干燥，進(jìn)行圖案曝光后，用帶有狹縫涂布機(jī)的顯影裝置將顯影液從基板的端部X鋪設(shè)至Z的說明圖。
具體實(shí)施例方式
以下詳細(xì)說明本發(fā)明。
《LCD制造用正型光致抗蝕劑組合物》
<(A)成分>
(A)成分是堿溶性樹脂。
對(A)成分沒有特別限制，可以從在正型光致抗蝕劑組合物中通常被用作被膜形成物質(zhì)的物質(zhì)中任意地選擇1種或2種以上來使用。
例如可舉出使酚類(苯酚、間甲酚、對甲酚、二甲苯酚、三甲基苯酚等)和醛類(甲醛、甲醛前體、丙醛、2-羥基苯甲醛、3-羥基苯甲醛、4-羥基苯甲醛等)以及/或酮類(甲基乙基酮、丙酮等)在酸性催化劑存在下縮合而得到的酚醛清漆樹脂；羥基苯乙烯的均聚物、以及羥基苯乙烯和其它的苯乙烯系單體的共聚物、羥基苯乙烯和丙烯酸或甲基丙烯酸或其衍生物的共聚物等羥基苯乙烯系樹脂；丙烯酸或甲基丙烯酸和其衍生物的共聚物即丙烯酸或甲基丙烯酸系樹脂等。
特別是使含有至少2種選自間甲酚、對甲酚、3，4-二甲苯酚和2，3，5-三甲基苯酚的酚類和含有甲醛的醛類縮合反應(yīng)得到的酚醛清漆樹脂，適合于感度高并且分辨力良好的抗蝕劑材料的調(diào)制。
(A)成分可以按照常法制造。
(A)成分的通過凝膠滲透色譜法測定的聚苯乙烯換算重均分子量根據(jù)其種類而不同，從感度和圖案形成方面考慮，優(yōu)選2000～100000，更優(yōu)選3000～30000。
<(B)成分>
(B)成分是萘醌二疊氮基酯化物，含有特定的非二苯甲酮系PAC即所述通式(I)所表示的酚化合物和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物(以下稱作4-醌PAC)。含有該4-醌PAC的正型光致抗蝕劑組合物具有高感度和高分辨力。而且適合于使用i線的光刻法，在線性、焦深(DOF)等特性方面也較理想。
通式(I)中，R1～R8各自獨(dú)立地代表氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1～6的直鏈或支鏈烷基、含有碳原子數(shù)1～6的直鏈或支鏈烷基的烷氧基、或碳原子數(shù)3～6的環(huán)烷基；R10、R11各自獨(dú)立地代表氫原子或碳原子數(shù)1～6的直鏈或支鏈烷基；R9可以是氫原子或碳原子數(shù)1～6的直鏈或支鏈烷基，這時(shí)，Q1為氫原子、碳原子數(shù)1～6的直鏈或支鏈烷基烷基、或所述化學(xué)式(II)所表示的殘基，Q1還可以和R9的末端結(jié)合，這時(shí)，Q1和R9以及Q1和R9之間的碳原子一起表示碳鏈3～6的環(huán)烷基；a、b代表1～3的整數(shù)；d代表0～3的整數(shù)；n表示0～3的整數(shù)。
另外，Q1和R9與Q1和R9之間的碳原子一起形成碳鏈3～6的環(huán)烷基時(shí)，Q1和R9結(jié)合，形成碳原子數(shù)2～5的亞烷基。
作為該通式(I)所表示的酚化合物，例如可舉出以下的化合物·Q1不與R9的末端結(jié)合，R9表示氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，Q1為所述化學(xué)式(II)所表示的殘基，n表示O的三酚型化合物；·Q1不與R9的末端結(jié)合，R9表示氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，Q1表示氫原子、碳原子數(shù)1～6的烷基，n表示1～3的整數(shù)的線型多酚化合物；·Q1不與R9的末端結(jié)合，R9表示氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，Q1表示氫原子、碳原子數(shù)1～6的烷基，n表示O的雙酚型化合物；·Q1不與R9的末端結(jié)合，R9表示氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，Q1為所述化學(xué)式(II)所表示的殘基，n表示1的多核分支型化合物；·Q1與R9的末端結(jié)合，n表示O的縮合型酚化合物等。
作為三酚型化合物具體可列舉如下三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2，3，5-三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3，5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3，5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3，5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2，5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2，5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2，5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3，5-二甲基苯基)-3，4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2，5-二甲基苯基)-3，4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2，5-二甲基苯基)-2，4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲烷、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3，4-二羥基苯基甲烷等。
作為線型多酚化合物具體可列舉如下2，4-雙(3，5-二甲基-4-羥基芐基)-5-羥基苯酚、2，6-雙(2，5-二甲基-4-羥基芐基)-4-甲基苯酚等線型3核體酚化合物；1，1-雙[3-(2-羥基-5-甲基芐基)-4-羥基-5-環(huán)己基苯基]異丙烷、雙[2，5-二甲基-3-(4-羥基-5-甲基芐基)-4-羥基苯基]甲烷、雙[2，5-二甲基-3-(4-羥基芐基)-4-羥基苯基]甲烷、雙[3-(3，5-二甲基-4-羥基芐基)-4-羥基-5-甲基苯基]甲烷、雙[3-(3，5-二甲基-4-羥基芐基)-4-羥基-5-乙基苯基]甲烷、雙[3-(3，5-二乙基-4-羥基芐基)-4-羥基-5-甲基苯基]甲烷、雙[3-(3，5-二乙基-4-羥基芐基)-4-羥基-5-乙基苯基]甲烷、雙[2-羥基-3-(3，5-二甲基-4-羥基芐基)-5-甲基苯基]甲烷、雙[2-羥基-3-(2-羥基-5-甲基芐基)-5-甲基苯基]甲烷、雙[4-羥基-3-(2-羥基-5-甲基芐基)-5-甲基苯基]甲烷、雙[2，5-二甲基-3-(2-羥基-5-甲基芐基)-4-羥基苯基]甲烷等線型4核體酚化合物；2，4-雙[2-羥基-3-(4-羥基芐基)-5-甲基芐基]-6-環(huán)己基苯酚、2，4-雙[4-羥基-3-(4-羥基芐基)-5-甲基芐基]-6-環(huán)己基苯酚、2，6-雙[2，5-二甲基-3-(2-羥基-5-甲基芐基)-4-羥基芐基]-4-甲基苯酚等線型5核體酚化合物等。
另外，作為除了三酚型化合物和線型多酚化合物以外的通式(I)所表示的酚化合物，還有雙(2，3，4-三羥基苯基)甲烷、雙(2，4-二羥基苯基)甲烷、2，3，4-三羥基苯基-4′-羥基苯基甲烷、2-(2，3，4-三羥基苯基)-2-(2′，3′，4′-三羥基苯基)丙烷、2-(2，4-二羥基苯基)-2-(2′，4′-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4′-羥基苯基)丙烷、2-(3-氟-4-羥基苯基)-2-(3′-氟-4′-羥基苯基)丙烷、2-(2，4-二羥基苯基)-2-(4′-羥基苯基)丙烷、2-(2，3，4-三羥基苯基)-2-(4′-羥基苯基)丙烷、2-(2，3，4-三羥基苯基)-2-(4′-羥基-3′，5′-二甲基苯基)丙烷等雙酚型化合物；1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1，1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]-4-[1，1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙基]苯、等多核分支型化合物；1，1-雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷等縮合型酚化合物等。
它們可以1種或2種以上組合使用。
其中，以三酚型化合物為主成分時(shí)，在高感度化和分辨力方面較理想，特別優(yōu)選雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3，4-二羥基苯基甲烷[以下簡稱為(B1′)]、雙(4-羥基-2，3，5-三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷[以下簡稱為(B3′)]。另外，若要調(diào)制分辨力、感度、耐熱性、DOF特性、線性等抗蝕特性在總體上達(dá)到優(yōu)良均衡的抗蝕劑組合物，最好將線型多酚化合物、雙酚型化合物、多核分支型化合物以及縮合型酚化合物等與所述三酚型化合物并用，特別是并用雙酚型化合物，其中并用雙(2，4-二羥基苯基)甲烷[以下簡稱為(B2′)]時(shí)，能夠調(diào)制出總體特性達(dá)到優(yōu)良均衡的抗蝕劑組合物。
另外，以下將所述(B1′)、(B2′)、(B3′)各自的萘醌二疊氮基酯化物簡稱為(B1)、(B2)、(B3)。
對于1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔餂]有特別限定，從容易購買并且廉價(jià)方面考慮，優(yōu)選1，2-萘醌二疊氮基-4-磺酰氯。
本發(fā)明中，作為(B)成分含有用1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔飳⑼ㄊ?I)所表示的化合物的酚性羥基的全部或一部分酯化后形成的萘醌二疊氮基酯化物。
將通式(I)所表示的化合物的酚性羥基的全部或一部分進(jìn)行萘醌二疊氮酯化的方法可以按照常法實(shí)施。
例如可以使1，2-萘醌二疊氮基-4-磺酰氯和所述通式(I)所表示的化合物進(jìn)行縮合而得到。
具體可以通過下述方法調(diào)制將一定量的所述通式(I)所表示的化合物和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺酰氯溶解于二噁烷、n-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺、四氫呋喃等有機(jī)溶劑中，向其中加入1種以上三乙基胺、三乙醇胺、吡啶、碳酸堿金屬鹽、碳酸氫堿金屬鹽等堿性催化劑，使它們反應(yīng)，將得到的生成物水洗并干燥。
作為(B)成分除了如上所例舉的優(yōu)選的萘醌二疊氮基酯化物之外，還可以使用其它的一般用作正型光致抗蝕劑組合物中的感光性成分的萘醌二疊氮基酯化物，例如多羥基二苯甲酮以及沒食子酸烷酯等酚化合物和萘醌二疊氮基磺酸化合物的酯化反應(yīng)生成物等。上述的其它萘醌二疊氮基酯化物可以任意選擇1種或2種以上使用。
上述其它的萘醌二疊氮基酯化物的使用量在(B)成分中為80質(zhì)量％以下，從提高本發(fā)明效果方面考慮，特別優(yōu)選在50質(zhì)量％以下。
本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物中(B)成分的配合量，以(A)成分和下述(C)成分的總量為基準(zhǔn)時(shí)是20～70質(zhì)量％，優(yōu)選25～60質(zhì)量％。
將(B)成分的配合量設(shè)定為所述下限值以上，能夠得到忠實(shí)于圖案的圖像，提高轉(zhuǎn)印性。而設(shè)定為所述上限值以下，可以防止感度變差，提高所形成的抗蝕劑膜的均質(zhì)性以及分辨力。
本發(fā)明所使用的1，2-萘醌二疊氮基-4-磺酰化合物和其異構(gòu)體1，2-萘醌二疊氮基-5-磺?；衔镆黄鹉軌蛱峁└卸攘己玫腜AC，這在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中是公知的，例如特開平6-27655號公報(bào)、特開平6-51507號公報(bào)、特開平7-92669號公報(bào)中記載了使用1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔锏目刮g劑組合物。
可是，上述的1，2-萘醌二疊氮基磺?；衔镌谧⒅氐统杀净腖CD制造領(lǐng)域中幾乎沒有被使用，即使使用，也主要用較廉價(jià)的1，2-萘醌二疊氮基-5-磺?；衔?。
另外，系統(tǒng)LCD制造領(lǐng)域中對抗蝕劑組合物所要求的特性，與半導(dǎo)體制造時(shí)相比在很多方面不同，上述公報(bào)中完全沒有有關(guān)系統(tǒng)LCD的記載。
例如，在包括系統(tǒng)LCD在內(nèi)的LCD制造領(lǐng)域中，從生產(chǎn)能力的提高以及處理控制性方面考慮，需要具有30～50mJ范圍內(nèi)的感度的抗蝕劑材料。
另外，半導(dǎo)體元件的制造中，最大也就使用直徑為8英寸(約200mm)～12英寸(約300mm)的圓盤型硅片，而與之相對，在LCD的制造中，最小也要使用360mm×460mm的四方型玻璃基板。因此，從生產(chǎn)能力提高的觀點(diǎn)來看，希望使曝光面積盡可能地大，至少大到100mm2左右，LCD的制造一般優(yōu)選使用NA(鏡頭的數(shù)值孔徑)較低條件下的曝光處理。其中制造系統(tǒng)LCD時(shí)，為了在基板上除了顯示部分以外還形成集成電路部分，基板有進(jìn)一步大型化的傾向，要求比通常的LCD制造時(shí)更低的NA條件下進(jìn)行曝光，優(yōu)選使用NA為0.3以下，特別優(yōu)選使用0.2以下的低NA條件下的曝光處理。
再有，在系統(tǒng)LCD中，例如顯示部分的圖案尺寸為2～10μm，而與之相對，集成電路部分以0.5～2.0μm的微細(xì)尺寸形成。因此，優(yōu)選能夠形成0.5～2.0μm的微細(xì)的抗蝕圖案?？墒窃谌缟纤龅牡蚇A條件下進(jìn)行曝光處理時(shí)存在著分辨力差的問題。
另外，系統(tǒng)LCD制造中所使用的正型光致抗蝕劑組合物，要求具有良好的能夠同時(shí)并正確地形成尺寸差異較大的顯示部分和集成電路部分的抗蝕圖案的線性特性，而且因使用與硅片相比表面平滑性較低的玻璃基板，所以還要求焦深幅(DOF)特性良好。
根據(jù)本發(fā)明，通過作為(B)成分使用通式(I)所表示的特定的酚化合物和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物，能夠獲得即使在低NA條件下也能同時(shí)滿足高感度和高分辨力，而且線性和DOF等特性也良好的正型光致抗蝕劑組合物。
<(C)成分>
(C)成分是含酚性羥基化合物。通過使用該(C)成分可以獲得感度提高效果優(yōu)良\在低NA條件下的i線曝光處理中也具有高感度和高分辨力并且線性良好的適合于系統(tǒng)LCD的正型光致抗蝕劑組合物。
從所述效果方面考慮，(C)成分的分子量(M)為1000以下，優(yōu)選700以下，實(shí)質(zhì)上在200以上，優(yōu)選300以上。
(C)成分是通常作為改善感度劑或增感劑用于抗蝕劑組合物的含酚性羥基化合物，優(yōu)選滿足所述分子量條件的物質(zhì)，沒有特別限制，可以任意地選擇1種或2種以上來使用。其中，下述通式(III)所表示的酚化合物顯示出良好的上述特性，因而較理想。
[式中，R21～R28各自獨(dú)立地代表氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、碳原子數(shù)1～6的烷氧基、或碳原子數(shù)3～6的環(huán)烷基；R30、R31各自獨(dú)立地代表氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基；R29可以是氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，這時(shí)，Q2為氫原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、或下述化學(xué)式(IV)所示的殘基
(式中，R32及R33各自獨(dú)立地代表氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、碳原子數(shù)1～6的烷氧基、或碳原子數(shù)3～6的環(huán)烷基；g表示0～3的整數(shù))，Q2還可以和R29的末端結(jié)合，這時(shí)，Q2和R29以及Q2和R29之間的碳原子一起表示碳鏈3～6的環(huán)烷基；e、f表示1～3的整數(shù)，h表示0～3的整數(shù)，e、f或h為3時(shí)，R23、R26或R28分別不存在；m表示0～3的整數(shù)]。
具體而言，除了所述(B)成分中所列舉的、萘醌二疊氮基酯化物中使用的通式(I)所表示的酚化合物以外，還優(yōu)選以下化合物雙(3-甲基-4-羥基苯基)-4-異丙基苯基甲烷、雙(3-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(2-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(3-甲基-2-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(3，5-二甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(3-乙基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(2-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、雙(2-叔丁基-4，5-二羥基苯基)-苯基甲烷等三酚型化合物。其中，優(yōu)選雙(2-甲基-4-羥基苯基)-苯基甲烷、1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1，1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯。
從效果考慮，(C)成分的配合量以(A)成分為基準(zhǔn)時(shí)為10～70質(zhì)量％，優(yōu)選20～60質(zhì)量％。
<(D)成分>
(D)成分只要是用于抗蝕劑組合物的一般的有機(jī)溶劑就可以使用，沒有特別限制，可以選擇1種或2種以上，其中含有丙二醇單烷醚乙酸酯或/和2-庚酮的物質(zhì)從涂布型優(yōu)良、以及在大型玻璃基板上的抗蝕劑被膜的膜厚均勻性優(yōu)良方面考慮較理想。
另外，可以同時(shí)使用丙二醇單烷醚乙酸酯和2-庚酮這兩者，不過分別單獨(dú)或與其它有機(jī)溶劑混合使用時(shí)，在利用旋轉(zhuǎn)涂布法等涂布時(shí)的膜厚均勻性方面通常較理想。
丙二醇單烷醚乙酸酯在(D)成分中優(yōu)選含有50～100質(zhì)量％。
丙二醇單烷醚乙酸酯是具有如碳原子數(shù)1～3的直鏈或支鏈狀的烷基的物質(zhì)，其中使用丙二醇單甲醚乙酸酯(以下簡稱為PGMEA)時(shí)，大型玻璃基板上的抗蝕劑被膜的膜厚均勻性非常良好，因而特別理想。
另一方面，對2-庚酮的使用沒有特別限定，如上所述當(dāng)作為(B)萘醌二疊氮基酯化物的非二苯甲酮系的感光性成分組合時(shí)是較為適宜的溶劑。
2-庚酮與PGMEA相比，耐熱性優(yōu)良、具有能得到浮渣(scum)較少的抗蝕劑組合物的特性，是非常理想的溶劑。
2-庚酮單獨(dú)或與其它有機(jī)溶劑混合使用時(shí)，在(D)成分中最好含有50～100質(zhì)量％。
另外，上述優(yōu)選溶劑中可以混合其它溶劑使用。
例如配合乳酸甲酯、乳酸乙酯等(優(yōu)選乳酸乙酯)等乳酸烷酯時(shí)，能夠形成抗蝕劑被膜的膜厚均勻性優(yōu)良并且形狀良好的抗蝕圖案，因而較理想。
混合使用丙二醇單烷醚乙酸酯和乳酸烷酯時(shí)，以丙二醇單烷醚乙酸酯為基準(zhǔn)，乳酸乙酯的配合量以質(zhì)量比計(jì)為0.1～10倍量，優(yōu)選1～5倍量。
另外，還可以使用γ-丁內(nèi)酯和丙二醇單丁醚等有機(jī)溶劑。
使用γ-丁內(nèi)酯時(shí)，以丙二醇單烷醚乙酸酯為基準(zhǔn)，按質(zhì)量比計(jì)配合0.01～1倍量，優(yōu)選在0.05～0.5倍量的范圍內(nèi)配合。
另外，其它可以配合的有機(jī)溶劑具體可列舉如下即，丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、甲基異戊基酮等酮類；乙二醇、丙二醇、二甘醇、乙二醇單乙酸酯、丙二醇單乙酸酯、二甘醇單乙酸酯、或它們的單甲醚、單乙醚、單丙醚、單丁醚或單苯基醚等多價(jià)醇類及其衍生物；如二噁烷等環(huán)狀醚類；以及醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯等酯類等。
使用上述溶劑時(shí)，在(D)成分中優(yōu)選含有50質(zhì)量％以下。
在無損本發(fā)明目的的范圍內(nèi)，還可以根據(jù)需要使本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物含有具有相容性的添加物，例如用于改良抗蝕劑膜的性能等而附加的樹脂、增塑劑、保存穩(wěn)定劑、表面活性劑、使顯影的圖像更加清晰的著色料、使增感效果更加提高的增感劑以及降暈用的染料、粘附性增加劑、等慣用的添加劑。
作為防暈用染料可以使用以下紫外線吸收劑，如2，2′，4，4′-四羥基二苯甲酮、4-二甲基氨基-2′，4′-二羥基二苯甲酮、5-氨基-3-甲基-1-苯基-4-(4-羥基苯基偶氮基)吡唑、4-二甲基氨基-4′-羥基偶氮苯、4-二乙基氨基-4′-乙氧基偶氮苯、4-二乙基氨基偶氮苯、姜黃色素等。
表面活性劑可以為了防止條痕的產(chǎn)生等而添加，例如可以使用如下表面活性劑フロラ-ドFC-430、FC431(商品名，住友3M(株)制)、エフトツプEF122A、EF122B、EF122C、EF126(商品名，ト-ケムプロダクツ(株)制)等氟系表面活性劑、メガフアツクR-08(商品名，大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制)等。
本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物的優(yōu)選的調(diào)制方法是將(A)成分、(B)成分、(C)成分以及根據(jù)需要使用的其它成分溶解于(D)有機(jī)溶劑中。
為了溶解(A)～(C)成分和根據(jù)需要使用的其它成分，能夠得到均勻的正型光致抗蝕劑組合物，可以對(D)成分的使用量進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整。固體成分濃度[(A)～(C)成分和根據(jù)需要使用的其它成分]優(yōu)選為10～50質(zhì)量％，更優(yōu)選20～35質(zhì)量％。
本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物優(yōu)選被調(diào)制成該抗蝕劑組合物所含有的固體成分的Mw(以下稱為抗蝕劑分子量)在5000～30000的范圍內(nèi)，更優(yōu)選的Mw是6000～10000。通過將該抗蝕劑組合物的固體成分的Mw設(shè)定為上述范圍，能夠在不使感度下降的情況下實(shí)現(xiàn)高分辨力，同時(shí)能夠獲得線性和DOF特性優(yōu)良而且耐熱性也優(yōu)良的正型光致抗蝕劑組合物。
抗蝕劑分子量低于上述范圍時(shí)，分辨力、線性、DOF特性以及耐熱性變得不足，而超過上述范圍時(shí)，感度的下降明顯，抗蝕劑組合物的涂布性有可能受到損害。
再有，本說明書中抗蝕劑分子量可通過下面的GPC系統(tǒng)測定。
裝置名SYSTEM11(制品名、昭和電工社制)預(yù)柱KF-G(制品名、Shodex社制)柱KF-805、KF-803、KF-802(制品名、Shodex社制)檢測器UV41(制品名、Shodex社制)，在280nm測定。
溶劑等以1.0ml/分的流量流下四氫呋喃，在35℃測定。
測定試樣調(diào)制方法調(diào)整要測定的光致抗蝕劑組合物以使固體成分濃度為30質(zhì)量％，用四氫呋喃稀釋它，作成固體成分濃度為0.1質(zhì)量％的測定試樣。將20微升該測定試樣打入所述裝置進(jìn)行測定。
另外，在系統(tǒng)LCD制造中，代替以往LCD的制造所使用的g線(436nm)曝光，使用波長更短的i線(365nm)曝光，這種光刻法技術(shù)有可能提高分辨力。與之相適，作為(B)成分以及任選的(C)成分而使用非二苯甲酮系的化合物的本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物，能夠抑制因(B)成分以及(C)成分而產(chǎn)生的i線的吸收，因此適合于i線曝光處理，能夠?qū)崿F(xiàn)進(jìn)一步的高分辨度化。
在本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物的調(diào)制中，作為使抗蝕劑分子量處于上述的適宜范圍的調(diào)制方法，可列舉如下(1)為了使混合全成分后的Mw在上述范圍內(nèi)，混合前對(A)成分進(jìn)行分餾操作，將(A)成分的Mw預(yù)先調(diào)整為適宜范圍的方法；(2)準(zhǔn)備多個(gè)Mw不同的(A)成分，將它們適宜配合以調(diào)整該固體成分的Mw在上述的范圍內(nèi)的方法。
特別是根據(jù)所述(2)的調(diào)制方法，在抗蝕劑分子量的調(diào)整以及感度調(diào)整較容易方面更為理想。
《抗蝕圖案的形成方法》以下是使用本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物制造系統(tǒng)LCD時(shí)的抗蝕圖案的優(yōu)選形成方法之一例。
首先，用旋轉(zhuǎn)涂布器將上述本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物涂布在基板上，形成涂膜。作為基板優(yōu)選玻璃基板。作為玻璃基板通常使用無定形硅，而在系統(tǒng)LCD領(lǐng)域，認(rèn)為優(yōu)選低溫多晶硅等。由于本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物具有優(yōu)良的低NA條件下的分辨力，因而作為該玻璃基板可以使用550mm×650mm以上的大型基板。
接著，將形成有該涂膜的玻璃基板在100～140℃進(jìn)行加熱處理(預(yù)烘干)，除去殘存溶劑，形成抗蝕劑被膜。優(yōu)選的預(yù)烘干方法是電熱板和基板之間帶有間隔的鄰近烘干。
然后用描繪有掩膜圖案的掩膜對所述抗蝕劑被膜進(jìn)行選擇性曝光。
為了形成微細(xì)圖案，作為光源優(yōu)選使用i線(365nm)。另外，該曝光采用的曝光處理優(yōu)選為NA為0.3以下，優(yōu)選0.2以下，更優(yōu)選0.15以下的低NA條件下的曝光。
接下來對選擇性曝光后的抗蝕劑被膜實(shí)施加熱處理(曝光后烘干PEB)。作為PEB方法例如可舉出電熱板和基板之間帶有間隔的鄰近烘干、沒有間隔的直接烘干，為了防止發(fā)生基板的翹曲，獲得由PEB產(chǎn)生的擴(kuò)散效果，最好進(jìn)行鄰近烘干后再進(jìn)行直接烘干的方法。另外，加熱溫度優(yōu)選為90～150℃，特別優(yōu)選100～140℃。
對所述PEB后的抗蝕劑被膜，用顯影液、例如進(jìn)行使用1～10質(zhì)量％氫氧化四甲基銨水溶液等堿水溶液的顯影處理，曝光部分被溶解除去，基板上可同時(shí)形成集成電路用的抗蝕圖案和液晶顯示部分用的抗蝕圖案。
然后，用純水等漂洗液洗掉殘留在抗蝕圖案表面的顯影液，形成抗蝕圖案。
該抗蝕圖案的形成方法中，在制造系統(tǒng)LCD時(shí)，進(jìn)行上述選擇性的曝光的工序中，作為所述掩膜優(yōu)選使用描繪有2.0μm以下的抗蝕圖案形成用掩膜圖案和超過2.0μm的抗蝕圖案形成用掩膜圖案這兩者的掩膜。
本發(fā)明的LCD用正型光致抗蝕劑組合物具有優(yōu)良的分辨力，因此能夠獲得忠實(shí)地再現(xiàn)掩膜圖案的微細(xì)圖案的抗蝕圖案。由此，在同時(shí)形成所述抗蝕圖案的工序中，能夠在所述基板上同時(shí)形成圖案尺寸2.0μm以下的集成電路用的抗蝕圖案和超過2.0μm的液晶顯示部分用的抗蝕圖案。
如上所述，本發(fā)明的正型光致抗蝕劑組合物不僅能同時(shí)滿足高感度和高分辨力，而且線性和DOF等特性均良好，可適用于系統(tǒng)LCD的制造。
實(shí)施例下面用實(shí)施例詳細(xì)說明本發(fā)明。
用下述實(shí)施例1～4和比較例1～6中調(diào)制的正型光致抗蝕劑組合物按照下述順序形成抗蝕圖案，并進(jìn)行評價(jià)。
評價(jià)方法(1)線性評價(jià)用大型基板用抗蝕劑涂布裝置(裝置名TR36000東京應(yīng)化工業(yè)(株)制)，將正型光致抗蝕劑組合物涂布在形成有Ti膜的玻璃基板(550mm×650mm)上后，使電熱板的溫度達(dá)到100℃，通過間隔約為1mm的鄰近烘干進(jìn)行90秒鐘的第1次干燥，然后使電熱板的溫度降到90℃，通過間隔約為0.5mm的鄰近烘干進(jìn)行90秒鐘的第2次干燥，形成膜厚為1.5μm的抗蝕劑被膜。
然后借助同時(shí)描繪有用于再現(xiàn)3.0μm L&S抗蝕圖案和1.5μm L&S抗蝕圖案的掩膜圖案的試驗(yàn)圖案掩膜(レチクル)，用i線曝光裝置(裝置名FX-702J，尼康社制；NA＝0.14)，并用能夠忠實(shí)地再現(xiàn)1.5μm L&S的曝光量(Eop曝光量)進(jìn)行選擇性的曝光。
接著使電熱板達(dá)到溫度為120℃，通過間隔為0.5mm的鄰近烘干進(jìn)行30秒鐘的加熱處理，然后在同樣溫度下，通過沒有間隔的直接烘干實(shí)施60秒鐘的加熱處理。
然后用帶有狹縫涂布機(jī)噴嘴的顯影裝置(裝置名TD-39000デモ機(jī)，東京應(yīng)化工業(yè)(株)制)，經(jīng)10秒鐘將23℃、2.38質(zhì)量％的TMAH水溶液如圖1所示地從基板的端部X經(jīng)Y鋪設(shè)到Z，保持55秒鐘后，水洗30秒鐘，并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)干燥。
之后，通過SEM(掃描型電子顯微鏡)照片觀察所得到的抗蝕圖案的截面形狀，評價(jià)3.0μm L&S的抗蝕圖案的再現(xiàn)性。尺寸變化率在±10％以下的用○、超過10％～15％以下的用△、超過15％的用×表示。
(2)感度評價(jià)在所述(1)線性評價(jià)中，以mJ為單位求出能夠忠實(shí)地再現(xiàn)1.5μm L&S的抗蝕圖案的曝光量(Eop)。
(3)DOF測定在所述(2)感度評價(jià)的曝光量(Eop)中，適當(dāng)上下調(diào)整焦點(diǎn)，以μm為單位求出1.5μm L&S在±10％的尺寸變化率范圍內(nèi)時(shí)獲得的焦深(DOF)的幅度。
(4)分辨力評價(jià)求出所述(2)感度評價(jià)的曝光量(Eop)中的極限分辨度。
(抗蝕劑成分)準(zhǔn)備以下物質(zhì)作為(A)～(D)成分。
(A)成分(A1)用間甲酚/3，4-二甲苯酚＝8/2(mol比)的混合酚1mol和甲醛0.82mol按照常法合成的、Mw＝20000、Mw/Mn＝5.2的酚醛清漆樹脂(B)成分(B1)1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1，1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯1mol和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺酰氯(以下稱作“4-NQD”)2mol的酯化反應(yīng)生成物(B2)雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷1mol和4-NQD 2mol的酯化反應(yīng)生成物(B3)雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3，4-二羥基苯基甲烷1mol和4-NQD 3mol的酯化反應(yīng)生成物(B4)雙(4-羥基-2，3，5-三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷1mol和4-NQD2mol的酯化反應(yīng)生成物(B1′)～(B4′)所述(B1)～(B4)中，用1，2-萘醌二疊氮基-5-磺酰氯(以下稱作“5-NQD”)代替4-NQD合成的酯化反應(yīng)生成物(B5)2，3，4，4′-四羥基二苯甲酮1mol和5-NQD 3mol的酯化反應(yīng)生成物(B6)2，3，4，4′-四羥基二苯甲酮1mol和4-NQD 3mol的酯化反應(yīng)生成物(C)成分(C1)雙(5-環(huán)己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3，4-二羥基苯基甲烷(D)成分(D1)PGMEA(實(shí)施例1～4，比較例1～6)按照表1所示的配合量使用所述(A)～(C)成分，同時(shí)以上述(A)～(C)成分的總質(zhì)量為基準(zhǔn)，使用相當(dāng)于450ppm量的表面活性劑(制品名“メガフアツクR-08”；大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制)，將它們?nèi)芙庥诒?所記載的(D)成分中，然后用孔徑為0.2μm的膜濾器進(jìn)行過濾，調(diào)制正型光致抗蝕劑組合物。得到的正型光致抗蝕劑組合物的抗蝕劑分子量如表1所示。
對所得到的正型光致抗蝕劑組合物分別評價(jià)所述(1)～(4)的各項(xiàng)目。其結(jié)果如表2所示。
表1

表2

實(shí)施例1～4的正型光致抗蝕劑組合物感度高，并且在低NA條件(NA＝0.14)下也具有良好的分辨力。而且線性和DOF也良好。
比較例1～4的正性光致抗蝕劑組合物在低NA條件(NA＝0.14)下的分辨力良好，并且線性和DOF也良好，但是感度比實(shí)施例差。
就比較例5和6的正型光致抗蝕劑組合物而言，未曝光部分的膜收縮明顯，3.0μm L&S的抗蝕圖案的截面形狀呈現(xiàn)圓錐形，未能得到形狀良好的抗蝕圖案。
發(fā)明效果如上所述，本發(fā)明的系統(tǒng)LCD制造用正型光致抗蝕劑組合物能夠同時(shí)滿足高感度和高分辨力。
權(quán)利要求
1.一種正型光致抗蝕劑組合物，是在一個(gè)基板上形成有集成電路和液晶顯示部分的LCD制造用正型光致抗蝕劑組合物，其特征是含有(A)堿溶性樹脂、(B)萘醌二疊氮酯化物、(C)分子量為1000以下的含酚性羥基化合物、以及(D)有機(jī)溶劑，所述(B)成分中含有下述通式(I)所表示的化合物和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物， [式中，R1～R8各自獨(dú)立地代表氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、碳原子數(shù)1～6的烷氧基、或碳原子數(shù)3～6的環(huán)烷基；R10、R11各自獨(dú)立地代表氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基；R9可以是氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基，這時(shí)，Q1為氫原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、或下述化學(xué)式(II)表示的殘基， (式中，R12及R13各自獨(dú)立地代表氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、碳原子數(shù)1～6的烷氧基、或碳原子數(shù)3～6的環(huán)烷基；c表示1～3的整數(shù))，Q1還可以和R9的末端結(jié)合，這時(shí)，Q1和R9以及Q1和R9之間的碳原子一起表示碳鏈3～6的環(huán)烷基；a、b代表1～3的整數(shù)；d代表0～3的整數(shù)；a、b或d為3時(shí)，R3、R5或R8分別不存在；n表示0～3的整數(shù)]。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑組合物，其中所述(B)成分中含有當(dāng)所述通式(I)中的R9表示氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基、Q1是所述化學(xué)式(II)所表示的殘基、n為0的三酚型化合物和1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑組合物，其中所述(D)成分中含有丙二醇單烷基醚乙酸酯或/和2-庚酮。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑組合物，用于i線曝光處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑組合物，用于NA在0.3以下的曝光處理。
6.一種抗蝕圖案的形成方法，其中包括以下工序(1)在基板上涂布權(quán)利要求1～5中的任一項(xiàng)所述的正型光致抗蝕劑組合物，形成涂膜的工序；(2)對形成有所述涂膜的基板進(jìn)行加熱處理(預(yù)烘干)，在基板上形成抗蝕劑被膜的工序；(3)使用描繪有2.0μm以下的抗蝕圖案形成用掩膜圖案和超過2.0μm的抗蝕圖案形成用掩膜圖案這兩者的掩膜，對所述抗蝕劑被膜進(jìn)行選擇性曝光的工序；(4)對所述選擇性曝光后的抗蝕劑被膜實(shí)施加熱處理(曝光后烘干)的工序；(5)對所述加熱處理(曝光后烘干)后的抗蝕劑被膜進(jìn)行采用堿水溶液的顯影處理，在所述基板上同時(shí)形成圖案尺寸為2.0μm以下的集成電路用的抗蝕圖案和超過2.0μm的液晶顯示部分用的抗蝕圖案的工序。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗蝕圖案的形成方法，其中所述(3)進(jìn)行選擇性曝光的工序中使用i線作為光源，并且是通過在NA為0.3以下的低NA條件下的曝光處理來進(jìn)行的。
全文摘要
一種正型光致抗蝕劑組合物，是在一個(gè)基板上形成有集成電路和液晶顯示部分的LCD制造用正型光致抗蝕劑組合物，其中含有(A)堿溶性樹脂、(B)萘醌二疊氮基酯化物、(C)分子量為1000以下的含酚性羥基化合物、以及(D)有機(jī)溶劑，(B)成分中含有上述通式(I)所表示的化合物和1，2－萘醌二疊氮基－4－磺?；衔锏孽セ磻?yīng)生成物。根據(jù)本發(fā)明可以提供適用于系統(tǒng)LCD制造的、可同時(shí)滿足高感度和高分辨型的正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法。
文檔編號H01L21/02GK1573544SQ20041004471
公開日2005年2月2日 申請日期2004年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月20日
發(fā)明者土井宏介, 新倉聰, 大內(nèi)康秀 申請人:東京應(yīng)化工業(yè)株式會社