專利名稱：沉積用于有機發(fā)光顯示器裝置的發(fā)射層的制作方法
相關申請的交叉引用引用由Kay和其他人于2002年1月23日申請的名稱為“通過熱傳遞在制備OLED(有機發(fā)光顯示器裝置)中使用多通道線性激光束(“Using a Multichannel Linear Laser Light Beam In Making OLEDDevices by Thermal Transfer”)”的共同轉讓的U.S.專利申請No.10/055,579和由Phillips和他人于2001年12月21日申請的名稱為“允許有機材料由供體遷移形成在OLED裝置中的層的設備(Apparatus for Permitting Transfer of Organic Material From aDonor to Form a Layer In an OLED Device)的共同轉讓的U.S.專利申請No.10/021410，其公開內(nèi)容通過引用在這里引入。
通常，在顯示器中通過遮光(shadow masking)技術來形成電致發(fā)光象素，如在US-A-5742129中所示。雖然這是有效的，但其具有許多缺陷。使用遮光難以實現(xiàn)象素尺寸的高分辯率。另外，將基板與遮光板對準使得在適當位置中形成象素也是挑戰(zhàn)性的。當需要增大基板尺寸時，作為對準過程的一部分調(diào)整遮光板形成適當定位的象素的難度增加。遮光方法的另一缺點是，隨著時間的延長，掩模孔會被堵塞。在掩模上堵塞的孔導致在EL顯示器上不起作用的象素的不利結果。
遮光方法還存在其它問題，當制造一邊尺寸大于數(shù)英寸的EL裝置時變得特別明顯。以準確形成EL裝置而所需的精確度制造較大的遮光掩模是極困難的。
在由Grande和其他人的共同轉讓的US-A-5851709中公開了一種構造高分辨率有機EL顯示器的方法。這種方法包括如下順序的步驟1)提供具有相對的第一和第二面的基板；2)在所述基板的第一面上形成透光、絕熱層；3)在絕熱層上形成吸光層；4)提供具有由第二面延伸到絕熱層的開口陣列的基板；5)提供在吸光層上形成的可轉移、形成顏色的有機供體層；6)以所述基板中開口與所述裝置上的對應彩色象素之間的取向關系將供體基板與顯示器基板準確對準；和7)采用輻射源在開口之上的吸光層產(chǎn)生足夠的熱量以使在供體基板上的有機層轉移到顯示器基板上。Grande和其他人的方案的一種問題是需要在供體基板上排列開口陣列。這產(chǎn)生與遮光方法相同的許多問題，包括需要供體基板與顯示器基板之間精確的機械對準。另一問題是供體構型固定且不易變化。
使用未構型化的供體板和精確光源，如激光，可消除構型化供體所見的一些困難。Wolk和其他人的一系列專利(US-A-6114088；US-A-6140009；US-A-6214520；和US-A-6221553)教導了通過由激光對供體的選擇部分進行加熱可由供體板向基板轉移EL裝置的發(fā)光層的方法。Wolk和其他人說明，使用光線可以是優(yōu)選的熱轉移形式，原因是其使得能夠實現(xiàn)大型裝置制造中所需的精確配準。雖然激光熱轉移確實能夠精確配準，但需要光束對準和導向使得基板的準確區(qū)域接受轉移的供體材料。
這一目的由用于有機發(fā)光顯示器裝置(OLED)的發(fā)射層的沉積方法來實現(xiàn)，所述方法包括如下步驟(a)提供具有至少一個可辨別特征的OLED基板，所述特征可用來定位OLED基板的位置和取向，以相對于OLED基板的象素部分適當沉積發(fā)射層；(b)提供光源，所述光源提供光束，所述光束可橫向和有角度地移動至選定的位置以改變由這種光源所產(chǎn)生的光束的相對位置；(c)提供未構型化的供體元件，所述元件包括發(fā)射材料并具有能量吸收層，所述元件的排列使得當供體元件相對于OLED基板適當定位時，能量吸收層可吸收光束以對發(fā)射材料進行加熱并使得這種發(fā)射材料轉移至OLED基板；(d)以與OLED基板的轉移關系來使供體元件定位；(e)檢測在OLED基板上可辨認特征的位置以確定OLED基板相對于光源的位置和取向；和(f)有角度地移動光束，然后在第一橫向移動所述光束直到達到第一端點，然后在垂直方向移動所述光束，并再次在與第一方向平行但與之相反的第二方向橫向移動光束至第二端點，并按照OLED基板的檢測位置和取向來起動在第一或第二方向上或在兩個方向上橫向移動的光束，這通過隨著光束移動至不同的橫向位置來改變這種起動的時間來實現(xiàn)。
這種方法的優(yōu)點是其提供了形成幾乎沒有缺陷的發(fā)射層的有效方法。另一優(yōu)點是本發(fā)明允許由于室溫改變所致的基板尺寸的改變引起的調(diào)整。這種方法的再一優(yōu)點是其在大型EL板上可維持EL點精確度，這對現(xiàn)存方法來說是難以實現(xiàn)或不可行的。另一優(yōu)點是所述方法對于任何尺寸的EL板和/或不同的象素尺寸可快速和容易地縮放，無需等待來制作不同尺寸的遮光掩模，并可比其它方法更容易地按比例擴大以制備較大的顯示器單元。再另一優(yōu)點是，這種方法可完全自動化，包括供體和基板介質(zhì)的操作。本發(fā)明特別適用于在具有許多OLED顯示器裝置的大區(qū)域上形成有機層，從而增加生產(chǎn)量。
圖2為產(chǎn)生基板未對準的若干種因素的簡圖；圖3a為按照本發(fā)明以一束光線來輻射固定的基板/供體元件組合的光源的橫斷面視圖；圖3b為表示在實施本發(fā)明中OLED基板和供體元件相對于基板適當定位的橫斷面視圖；圖3c為彩色OLED基板和供體元件的橫斷面視圖；圖4a所示為具有可辨別特征的基板，并圖示了照相機十字準線，還圖示了各種尺寸的偏移；圖4b所示為由可辨別特征限定的線的位置和與標準線的對比；圖5所示為可移動光源的運輸裝置和使得這里敘述的方法能夠實現(xiàn)的微定位裝置的一種實施方案；圖6為用于完成照相機位置檢測、可辨別特征檢測、和未對準校正的電光子系統(tǒng)的框圖；圖7為表示在對準基板和運輸系統(tǒng)中所涉及的總體步驟的框圖；圖8為在這種方法中相對于x-y坐標系統(tǒng)中的光源來定位照相機所涉及的步驟的更詳細的框圖；圖9為在這種方法中獲得基準補償所涉及的一些步驟的更詳細的框圖；

圖10為表示在這種方法中計算一些重要參數(shù)所涉及的一些步驟的更詳細的框圖；和圖11為表示在書寫過程中的步驟的框圖，包括用于放大調(diào)整的動態(tài)對準。
由于諸如層厚度的裝置特征尺寸時常在亞微米范圍，所述附圖為易于觀察是按比例繪制的，而不是按精確尺寸。
小象素裝置必需的精密配準公差提示，構型化的供體材料可能是不適當?shù)?，并且可能需要對基板的由室溫或其它溫度的改變引起的熱膨脹進行校正?，F(xiàn)在回到圖1a，圖示為OLED基板10的頂視圖，其包括象素部分陣列12。這種象素部分12各與電極連接，并可為具有電極的重疊排和列的所謂的無源顯示的部件，或具有共用陽極和單獨的薄膜晶體管(TFTs)的有源顯示的部件。各象素部分12可為象素(對于單色顯示器)或子象素(對于全色顯示器)。單獨象素或子象素之間的距離在這種裝置中可能需要小于100微米。
基板10可為有機固體、無機固體、或有機和無機固體的組合，其提供用于接收來自供體的發(fā)射材料的表面?；?0可為剛性的或柔性的，并可作為獨立的部件來進行加工，如為板或片，或呈連續(xù)帶卷。典型的基板材料包括玻璃、塑料、金屬、陶瓷、半導體、金屬氧化物、半導體氧化物、半導體氮化物、或它們的組合?；?0可為多種材料的均一混合物，多種材料的復合物、或多層材料?；?0可為OLED基板，即通用于制備OLED裝置的基板，例如，有效矩陣低溫多晶硅TFT基板。根據(jù)預定的光線發(fā)射方向，基板10可為透光的或不透明的。對于通過基板來觀察EL發(fā)射而言，透光性能是有利的。在這種情況下通常采用透明玻璃或塑料。對于EL發(fā)射經(jīng)由頂部電極來觀察的用途，底部基體的透射性能是不重要的，因而可為透光的、吸光或光反射性的。用于這種情況的基板包括但非僅限于玻璃、塑料、半導體材料、陶瓷、和電路板材料。對于本發(fā)明的目的，基板10優(yōu)選為OLED基板，并且術語“基板”和“OLED基板”將交替使用。
圖1a另外還圖示了在基板10上的可辨別特征?？杀鎰e特征為在基板10上通過一種方式如光、電容、或通過其它途徑可檢測的特征，并可用于對基板10的位置和取向進行定位以按將會明了的方式相對于象素部分12來適當?shù)爻练e發(fā)射層。在這種實施例中圖示的這種可辨別的特征為兩個間隔開的基準標記40和42，其中的一個或多個在制造基板10時已在已知位置上形成。基準標記40和42設計使得能夠確認基板10上的特定點，并且可為許多種形狀，包括交叉的十字準線、三角、圓、方塊、交叉三角、“X”、或可用來限定點的任何其它形狀。對于本發(fā)明的目的，術語“可辨別的特征”和“基準標記”將可交替使用。
圖1a另外還圖示了可用于實現(xiàn)本發(fā)明的基板10和照相機特征的一種實施方案?？墒褂谜障鄼C系統(tǒng)的十字準線來確定基準標記40和42的位置。第一照相機包括十字準線44，其意義是在未對準的校正過程中定位基準標記40。第二照相機包括在照相機視野中限定固定基準的手段，如十字準線46，其用來在校正未對準的過程中定位基準標記42。所述照相機可為攝像機，其裝有鏡頭系統(tǒng)以捕捉基板基準的圖象，并裝有內(nèi)標或固定基準物如完整十字準線和/或標度線。所述照相機和鏡頭系統(tǒng)的分辨率優(yōu)選選擇為使得所得到的在圖象平面或基板表面上的分辨率約為1微米級或更小。這種照相機系統(tǒng)例如由Sony，Princeton Instruments，Micro-Lumetics，和AegisElectronics Group出售。
現(xiàn)在回到圖1b，其圖示了可用于實現(xiàn)本發(fā)明的基板10和照相機特征的另一種實施方案。在這一實施方案中，象素部分是可辨別的特征。照相機系統(tǒng)的十字準線可用來確定在基板上的其它特征的位置。在這一替代的實施方案中，十字準線44用來定位象素部分50的角51，以確定未對準。十字準線46用來定位象素部分52的角53，以確定未對準。
圖2為可導致十字準線44與46之間未對準的若干種因素及在基板上對應的可辨別特征(基準標記40和42或角51和53)的簡圖，首先，基板10可為側向未對準，即在通常稱為x和y方向上，如由未對準基板10a所圖示。其次，基板10可為呈角度地未對準，如由未對準的基板10b所圖示。第三，基板10可隨環(huán)境或其它溫度改變和變化所引起的溫度改變而膨脹或收縮，如由未對準的基板10c所圖示?；?0的未對準可由這些因素的任一種或任何組合所引起。這里所述的方法可對所有這些種類的未對準進行定量和校正。(未對準的其它原因，如不適當?shù)卦O置的基準標記40和42，是會造成基板10廢棄的缺陷，不需要進行校正)。
圖3a所示為按照本發(fā)明由一束光線輻射固定的基板/供體元件組合的來自光源100的光束24的橫斷面視圖。光源100可為可用于這種方法的任何光源，如激光、閃光燈、等等。光源100優(yōu)選為激光，最優(yōu)選為發(fā)射調(diào)制的多通道線性激光束的多通道激光，其用途已由Kay和其他人在上面引用的共同轉讓的U.S.專利申請No.10/055579中敘述。為清楚起見未圖示微定位裝置。供體元件16設置為與基板10呈轉移關系，即，供體元件16被放置為與基板10接觸(未圖示)，或保持與基板10有控制的間隔。供體元件16由加壓裝置96保持在位置上。加壓裝置96可為透明的支撐物或可為由氣體加壓的室，以將供體元件16與基板10緊密固定，如由Phillips和其他人在以上引用的共同轉讓的U.S.專利申請No.10/021410中所教導。
光源100經(jīng)鏡頭94發(fā)射光束24，其可為多通道的，也就是說多重調(diào)制通道的線性激光束。光束24為清楚說明而繪制為一系列線，以強調(diào)其實質(zhì)上可為多通道的，呈多個單獨可尋址激光通道。可理解，這些通道可以是連續(xù)的并且在輻射時表現(xiàn)為連續(xù)的激光帶。經(jīng)由透明的加壓裝置96將光束24導向供體元件16，并撞擊供體元件16的非傳遞表面。通過調(diào)制光束24的通道可獲得所需的構型，同時提供光束24與固定的基板/供體元件98之間的相對運動。
現(xiàn)在回到圖3b，其圖示了表示在本發(fā)明實施中相對于基板適當定位的OLED基板和供體元件的橫斷面視圖。供體元件16和基板10呈傳遞關系，即，供體元件16位于基板10上或與之接近。供體元件16包括支撐體18、吸能層20、和發(fā)射材料層22。供體元件16是未構型化的，即，吸能層20和發(fā)射材料22均勻地涂覆在支撐體18表面上。通過光束24對供體元件16的非傳遞表面26的選擇性輻射，所述光束24被吸能材料20的選定部分吸收并對其進行加熱，從而加熱了發(fā)射材料22的選定部分，使得發(fā)射材料22由供體元件16的傳遞表面28傳遞到基板10。發(fā)射材料22的選定部分在傳遞到基板10時蒸發(fā)或升華而成為發(fā)射層32。
現(xiàn)在回到圖3c，其圖示了彩色OLED基板和供體元件的橫斷面視圖。在形成彩色OLED顯示器情況下，可形成各產(chǎn)生不同顏色光的多重發(fā)射層。各不同顏色的發(fā)射層需要未構型化的供體元件，所述供體元件具有吸能層和可發(fā)射對應顏色光的發(fā)射材料。例如，三種不同顏色的發(fā)射層可如下順序沉積由包含發(fā)蘭光的發(fā)射材料22的第一供體元件16在第一象素部分12a上可形成發(fā)蘭光的發(fā)射層32a，由包含發(fā)綠光的發(fā)射材料22的第二供體元件16可在第二象素部分12b上形成發(fā)綠光的發(fā)射層32b，和由包含發(fā)紅光的發(fā)射材料22的第三供體元件16可在第三象素部分12c上形成發(fā)紅光的發(fā)射層32c。在較早的步驟中形成發(fā)蘭光和發(fā)綠光的層，且這一附示了發(fā)紅光的發(fā)射層32c的形成。
支撐體18可由至少滿足如下要求的任何若干種材料來制成所述支撐體必須有足夠的柔性，并具有適當?shù)目估瓘姸纫阅褪茴A涂覆步驟和在實施本發(fā)明中支撐體的卷到卷(roll-to roll)或成疊薄板運輸。在一側加壓時的光到熱誘導的傳遞步驟中、以及在為除去揮發(fā)性組分如水蒸氣而進行的預加熱步驟中，所述支撐體必須能夠保持結構完整性。另外，所述支撐體必須能夠在一個表面上接收較薄的有機供體材料涂層，并且在經(jīng)涂覆的支撐體的預期的貯存期間保持這種涂層不破壞。滿足這些要求的支撐體材料包括例如金屬箔、一些塑料箔、和纖維增強的塑料箔。雖然適用支撐體材料的選擇可依據(jù)已知的工程方案，但可理解，當制造為適用于實施本發(fā)明的支撐體時，選擇的支撐體材料的某些方面值得進一步考慮。例如，所述支撐體在用可傳遞的有機材料進行預涂覆之前，可需要多步驟清洗和表面準備過程。當使用來自適用閃光燈的閃光輻射或來自適用激光器的激光時，如所述支撐體材料是透射輻射的材料，在所述支撐體中或在其表面上附加吸收輻射的材料，對于更有效地加熱所述支撐體并由所述支撐體向基板提供相應強化的可傳遞有機供體材料的傳遞來說可是有利的。
吸能層20能夠吸收光譜預定部分中的輻射并產(chǎn)生熱量。吸能層20可為染料，如在共同轉讓的US-A-5578416中指明的染料，顏料如碳，或金屬如鎳、鈦，等。
典型的OLED裝置可通常以這種次序含有如下層陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)射層、電子傳輸層、陰極。這些中的任一個或其全部可包含有機材料，其可為空穴注入材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料、發(fā)光材料、宿主材料、或任何這些材料的組合。在這些材料中，本發(fā)明的實施主要涉及包括發(fā)射材料22的有機材料以及涉及向在基板上的所需位置準確傳遞這種材料的方法。
發(fā)光材料適用于作為發(fā)射材料22的發(fā)光材料是公知的。如在共同轉讓的US-A-4 769 292和US-A-5 935 721中所詳述，有機EL元件的發(fā)光層(LEL)包含發(fā)光或熒光材料，其中由于在這一區(qū)域中電子-空穴對的再組合而產(chǎn)生電致發(fā)光。發(fā)光層可由單一材料組成，但更通常是由摻雜了客體化合物(一種或多種)的宿主材料組成，其中光發(fā)射主要來自摻雜劑并可為任何顏色。在光發(fā)射層中的宿主材料可為電子傳輸材料(如下所限定)、空穴傳輸材料(如上所限定)、或支持空穴-電子再組合的另一種材料。所述摻雜劑通常選自高熒光染料，但磷光化合物如在WO98/55561、WO00/18851、WO 00/57676和WO00/70655中敘述的過渡金屬配合物也是適用的。摻雜劑通常以0.01至10wt％涂覆到宿主材料中。
選擇作為摻雜劑的染料的一個重要關系是比較帶隙勢能，其定義為分子的最高占據(jù)的分子軌道與最低未占據(jù)分子軌道之間的能差。對于由宿主向摻雜劑分子的有效能量傳遞而言，必需的條件是摻雜劑的帶隙小于宿主材料的帶隙。
已知在使用的宿主和發(fā)射分子包括但非僅限于在共同轉讓的US-A-4768292；US-A-5141671；US-A-5150006；US-A-5151629；US-A-5294870；US-A-5405709；US-A-5484922；US-A-5593788；US-A-5645948；US-A-5683823；US-A-5755999；US-A-5928802；US-A-5935720；US-A-5935721；和US-A-6020078中公開的那些。
8-羥基喹啉和類似衍生物的金屬配合物(通式E)構成了能夠支持電致發(fā)光的一類適用的宿主化合物，且其特別適用于波長長于500nm的光發(fā)射，例如綠、黃、桔黃、和紅光。 其中M代表金屬；n為1至3的整數(shù)；和Z在各次出現(xiàn)中獨立地代表完成使核環(huán)具有至少兩個稠合芳環(huán)的原子。
由前述顯而易見，金屬可為一價、二價、或三價的。所述金屬例如可為堿金屬，如鋰、鈉、或鉀；堿土金屬如鎂或鈣；或土金屬如硼或鋁。通?？刹捎靡阎m用于作為螯合金屬的任何一價、二價、或三價金屬。
Z完成含有至少兩個稠合芳環(huán)的雜環(huán)核環(huán)，其中的至少一個為吡咯或吖嗪環(huán)。如需要，包括脂環(huán)和芳環(huán)的其它的環(huán)可與兩種所需的環(huán)稠合。為避免添加分子體積而無功能的改進，環(huán)原子的數(shù)目通常保持為18或少于18。
適用的螯合8-羥基喹啉類(oxinoid)化合物例示如下CO-1三(8-羥基喹啉)鋁[別名，三(8-喹啉醇化(quinolinolato))鋁(III)]CO-2雙(8-羥基喹啉)鎂[別名，雙(8-喹啉醇化)鎂(II)]CO-3雙[苯并{f}-8-喹啉醇化]鋅(II)CO-4雙(2-甲基-8-喹啉醇化鋁(III)-μ-氧代-雙(2-甲基-8-喹啉醇化鋁(III)CO-5三(8-羥基喹啉)銦[別名，三(8-喹啉醇化銦]CO-6三(5-甲基-8-羥基喹啉)鋁[別名，三(5-甲基-8-喹啉醇化鋁(III)]CO-78-羥基喹啉鋰[別名，(8-喹啉醇化鋰]9，10-二-(2-萘基)蒽(通式F)構成能夠支持電致發(fā)光的一類適用的宿主，并特別適用于波長長于400nm的光發(fā)射，例如蘭、綠、黃、桔黃、和紅光。 其中R1、R2、R3、R4、R5、和R6代表在各環(huán)上的一或多個取代基，其中各取代基獨立地選自如下組組1氫、或1至24個碳原子的烷基；組25至20個碳原子的芳基或取代芳基；組3完成蒽基、芘基、或苝基稠合芳環(huán)所需的4至24個碳原子；組4完成呋喃基、噻吩基、吡啶基、喹啉基或其它雜環(huán)體系的稠合雜芳環(huán)所需的5至24個碳原子的雜芳基或取代雜芳基；組51至24個碳原子的烷氧基氨基、烷基氨基、或芳基氨基；和組6氟、氯、溴或氰基。
吲哚衍生物(通式G)構成了另一類能夠支持電致發(fā)光的適用的宿主，其特別適用于波長長于400nm的光發(fā)射，例如蘭、綠、黃、桔黃、和紅光。 其中n為3至8的整數(shù)；Z為O、NR或S；和
R′為氫；1至24個碳原子的烷基，例如丙基、叔丁基、庚基等；5至20個碳原子的芳基或雜原子取代的芳基，例如苯基和萘基、呋喃基、噻吩基、吡啶基、喹啉基和其它雜環(huán)體系；或鹵代如氯代、氟代；或完成稠合芳環(huán)所需的原子；L為由烷基、芳基、取代的烷基、或取代的芳基所組成的連接單元，其共軛或非共軛地將多重吲哚連接在一起。
適用的吲哚的實例是2，2′，2″-(1，3，5-亞苯基)三[1-苯基-1H-苯并咪唑]。
所需的熒光摻雜劑包括蒽、并四苯、呫噸、苝、紅熒烯、香豆素、若丹明、喹吖啶酮、二氰基亞甲基吡喃化合物、噻喃化合物、聚甲川化合物、pyrilium和thiapyrilium化合物、和carbostyryl化合物的衍生物。
適用的摻雜劑的例舉性實例包括但非僅限于如下這些 其它有機發(fā)射材料可為聚合物，例如，聚亞苯基1，2-亞乙烯基衍生物、二烷氧基-聚亞苯基1，2-亞乙烯基、聚對亞苯基衍生物、和聚芴衍生物，如由Wolk和其他人在共同轉讓的US-A-6194119B1和其中的參考文獻中所教導的。
一個顯著的問題是保證光束24適當?shù)卣丈涔w元件16，使得發(fā)射材料22傳遞到象素部分12而不是干涉部分(interveningportions)14中。由于象素部分12之間的距離可小于100微米，這可成為顯著的問題?；?0設置的微小誤差(側向和呈角度的)以及由環(huán)境溫度變化產(chǎn)生的熱膨脹效應，可不利地影響激光輻射和象素部分的對準。未對準會導致生產(chǎn)中較高的缺陷率或較低質(zhì)量的裝置。由于前述的對準因素，保持光束與基板的對準是一個顯著的問題。
圖4a圖示了具有所示可辨別特征和照相機十字準線的基板，還圖示了各種尺寸偏移。可理解，圖4a是為清楚圖示而繪制的，照相機十字準線44和46僅在照相機系統(tǒng)中可見，而在基板10上不可見，且通過這種照相機系統(tǒng)只可見十字準線內(nèi)的基板10的部分。x-y坐標體系92可由x方向48和y方向49經(jīng)精確計量裝置來確定，在所述裝置的制造過程中所述計量裝置支配輻射源的運動。在這一坐標系中照相機十字準線以x和y坐標來描述，即對照相機十字準線44為xc1，yc1，對照相機十字準線46為xc2，yc2。這些位置可經(jīng)系統(tǒng)校準程序來確立，其中照相機位于x-y坐標體系內(nèi)。這一程序的步驟在本說明書中將明顯看出。
在x-y坐標體系92內(nèi)基板10未對準的確定取決于相對于照相機十字準線44和46而言可辨別特征的位置即基準標記40和42的確定。照相機十字準線44與基準標記40的偏差為Δx162和Δy164。照相機十字準線46與基準標記42的偏差為Δx266和Δy268。在x-y坐標體系92中基準標記的位置由照相機十字準線的已知位置和該十字準線與對應的基板基準標記之間的偏差來計算。計算的位置可通過它們的x和y坐標來描述基準標記40在位置xf1，yf1，基準標記42在xf2，yf2。
現(xiàn)在回到圖4b，我們看到由可辨別特征限定的線的位置以及與標準線的對比。檢測線74由其端點即由基準40和42來限定。檢測線74的實際長度76可計算并且代表兩個可辨別特征之間的實際距離。標準線80具有標稱長度78，其表示兩個可辨別特征之間的標稱間隔。標準線80和其尺寸在前面已由已知基板10在預定條件下確定。檢測線74的實際長度76與標稱長度78的比值是尺寸改變的度量，并被稱為基板10的放大率。這一比值還可稱為校正因子?；?0假定為均一擴大。檢測線74的檢測中點82與標準線80的目標中點84之間的偏差表示ΔxL88和ΔyL90的側向偏差。相對于標準線80的角度的檢測線74的角度限定了基板10的角度偏差86。
ΔxL88和ΔyL90的側偏移和與角偏差86等量的角偏移可應用于基板、固定印刷頭的傳輸系統(tǒng)、或要印刷的圖象數(shù)據(jù)，它們中的任一個都要校正角偏差和側偏差。校正度取決于提供這種相對運動的系統(tǒng)的準確和精確性。由于熱膨脹所致的放大率的誤差可在產(chǎn)生圖象文件過程中或在印刷過程中校正；后者稱為動態(tài)校正。在動態(tài)校正實施方案中，由于基板放大率所致的誤差在起動放射源中解決。
現(xiàn)在回到圖5并還參照圖4a，其中圖示了傳輸裝置116的一個實施方案，其包括可移動的光源和能夠實現(xiàn)這里敘述的方法的微定位裝置。傳輸裝置116包括通過移動光源100來移動光束24的裝置，即微定位裝置102、106、和108，還包括滑架112。這種裝置已由Kay和他人在上述的共同轉讓的U.S.專利申請No.10/055579中敘述，該公開內(nèi)容通過引用引入。
光源100可橫向和有角度地移動至選定位置以按現(xiàn)在將要敘述的方式改變光束24的相對位置?？梢苿庸庠?00安裝在微定位裝置102上。光源100可例如為激光印刷頭，如由Kay和他人在上述的共同轉讓的U.S.專利申請No.10/055579中所教導的。微定位裝置102能夠以亞微米級的分辨率在橫向104上移動和定位光源100。微定位裝置102由如Dover Instruments Corp.的制造商市售?；?12代表微定位裝置102的可移動部分。微定位裝置102可調(diào)整在一個方向如在圖4b中的x方向48上的側向位移，從而使光源100可橫向移動來相對于基板10和供體元件16調(diào)整光源100的位置，基板10和供體元件16互相呈傳遞關系。
微定位裝置102安裝在微定位裝置106和微定位裝置108上。后兩者與微定位裝置102相似，但與微定位裝置102呈正交方式排布，因而能夠沿垂直方向110來移動微定位裝置102的各端。微定位裝置106和微定位裝置108可協(xié)調(diào)移動，以調(diào)整在與微定位裝置102呈正交方向、如圖4b中y方向49上的側向位移。微定位裝置106、108、和102之間的機械連接還使得在由橫向方向104和垂直方向110限定的平面內(nèi)進行有限的角度調(diào)整。即，微定位裝置106和108可沿相反的方向移動來調(diào)整角度誤差86，從而有角度地移動光源100和光束24。
圖6圖示了用來實現(xiàn)照相機位置檢測、基準檢測、和未對準校正的所述電光子系統(tǒng)的框圖。傳輸系統(tǒng)152包括運動控制電子設備246和微定位裝置102、106、和108。微定位裝置102、106、和108控制光源100的移動和位置。這種控制這里通過連線270來象征。來自運動控制電子設備246的驅動信號252、254、和256分別控制微定位裝置102、106、和108的移動，從而控制光源100的移動。精度反饋信號258、260、和262使得運動控制電子設備246來分別監(jiān)測微定位裝置102、106、和108的位置，從而監(jiān)測光源100的位置。這種反饋信號可包括當光源100移動時由對應微定位裝置的位置和移動確定的預定的脈沖。預定脈沖可例如為脈沖序列，其中隨著對應微定位裝置移動預定距離而產(chǎn)生脈沖。這種脈沖可由精度計量裝置如線性編碼器或激光干涉儀、或現(xiàn)有技術中公知的任何其它精度計量裝置來產(chǎn)生。這種精度計量裝置可為微定位裝置的一部分，例如精度計量裝置251可為微定位裝置102的一部分或與之連接。精度計量裝置251可包括一或多個能夠限定光源100位置的精度傳感器。這種精度傳感器還可限定x-y坐標系92。
所述系統(tǒng)可包括一或多個檢測器，如數(shù)字照相機248，其設計用來檢測可辨別特征，例如在基板10上的基準標記40和42的圖象，其還可任選地具有預定的x-y觀察坐標系。數(shù)字照相機248產(chǎn)生與x-y觀察坐標系相關聯(lián)的數(shù)字圖象。數(shù)字圖象數(shù)據(jù)可傳遞到圖象處理器250，該處理器包括用于處理這種數(shù)字圖象數(shù)據(jù)的處理算法，并可計算基準標記40和42相對于對應數(shù)字照相機248的中心的位置。數(shù)字照相機248可被校準，以便圖象處理器250能夠報告在預定x-y坐標系92中的位置。數(shù)字照相機248還能夠觀察并向圖象處理器250報告光束24在基板10上的位置。
描述基準標記40和42相對于對應數(shù)字照相機248的中心的位置的數(shù)據(jù)可由圖象處理器250傳遞到主PC 150，該主PC可使用這些信息來計算基板10的側偏差和角偏差以及放大率。主PC 150可命令運動控制電子設備246來移動微定位裝置102、106、和108，并從而移動光源100，至任何所需位置，并可通過來自運動控制電子設備246的反饋來監(jiān)測這種移動和位置。運動控制電子設備246被編程以接受角偏差如角偏差86，作為來自主PC 150的輸入，并保持該輸入直到指示除去所述角偏差。另外，運動控制電子設備246被編程以接受來自主PC 150的側偏差校正信號，以調(diào)整微定位裝置102、106、和108，使得在基板照射的過程中產(chǎn)生適當?shù)尿寗有盘?。通過這種控制，主PC150可命令運動控制電子設備246根據(jù)來自圖象處理器250的數(shù)據(jù)來調(diào)整光源100的起始位置和角偏差。主PC 150還可命令運動控制電子設備246，為向基板傳遞發(fā)射材料而要對光源100進行掃描。系統(tǒng)板154還可包括計數(shù)寄存器146和誤差累加器148，其可用來控制光源100的驅動。
在向基板傳遞發(fā)射材料所需的運動中，微定位裝置102、106和108由運動控制電子設備246控制，所述運動控制電子設備246產(chǎn)生驅動信號252、254和256并監(jiān)測分別來自微定位裝置102、106和108的精度反饋信號258、260和262。在運動控制電子設備246中的閉路控制可產(chǎn)生驅動信號252、254和256，使得達到反饋信號258、260和262的所需值。另外，如反饋信號258、260和262的當前值偏離所需的值，可經(jīng)驅動信號252、254、和256連續(xù)進行校正以保持所需的位置。在裝置照射過程中，運動控制電子設備246可連續(xù)以這樣的方式更新所需位置，使得微定位裝置102、106和108接受命令以光柵方式掃描印刷區(qū)域。
再有，在裝置掃描和照射過程中，系統(tǒng)板154適當?shù)仳寗庸庠?00。系統(tǒng)板154根據(jù)接收的來自主PC 150的圖象數(shù)據(jù)和接收的來自運動控制電子設備246的動態(tài)校正信號264來指導光源100發(fā)射光或不發(fā)射光。動態(tài)校正信號264可包括重復信號如編碼器脈沖和非重復信號如觸發(fā)信號。如所陳述的，在裝置照射過程中，運動控制電子設備246控制光源100的移動，使得其以光柵方式在印刷區(qū)域往復運動。
本領域普通技術人員顯而易見，提供光束24與基板10之間相對運動的其它裝置也是可行的。例如，光源100可固定。這種相對移動則可通過移動基板10來提供。另外，設置反射鏡或光柵通過改變在基板10上光束24撞擊的位置可提供相對移動。
現(xiàn)在回到圖7，并還參照圖4a和4b，我們看到在基板對準過程中涉及的總體步驟，即對準基板和運輸系統(tǒng)。在圖7中的實際為多步驟的步驟具有粗體輪廓，如在圖例中所示，且在其它附圖中還要進一步進行討論。在所述過程起始時(步驟122)，所述系統(tǒng)對照相機1進行定位，即，其對十字準線44在x-y坐標系92中的位置進行定位(步驟124，其可稱為照相機定位過程)。然后所述系統(tǒng)對照相機2進行定位，即，其對十字準線46在x-y坐標系92中的位置進行定位(步驟126，其可稱為照相機定位過程)。接著，供體元件16和基板10放置于所述系統(tǒng)中(步驟123)?；?0相對于數(shù)字照相機248來定位，使得數(shù)字照相機248可產(chǎn)生具有適當?shù)囟ㄎ槐阌谔幚淼幕鶞蕵擞?0和42的數(shù)字圖象，其性質(zhì)將變得明確。對于適當定位，我們是指可辨別特征定位于數(shù)字照相機248的視野內(nèi)，且優(yōu)選位于圖象的中心20％內(nèi)。所述系統(tǒng)然后獲得第一基準標記40相對于十字準線44的偏差(步驟128，其可稱為基準定位過程)和第二基準標記42相對于十字準線46的偏差(步驟130，其可稱為基準定位過程)。所述系統(tǒng)從而檢測了可辨別特征在基板10上相對于x-y坐標系92的位置。主PC 150計算在x-y坐標系92中基準標記40和42的位置(步驟132)，然后熱膨脹補償算法對兩個可辨別特征之間的實際間隔76和標稱間隔78進行對比，并產(chǎn)生校正因子，其為實際間隔76與標稱間隔78的比值。所述系統(tǒng)然后計算基板10的角度和中心(步驟134)。所述系統(tǒng)從而確定基板10相對于光束24的位置和取向。
如需要，這可以重復過程進行。在這種情況下，運動控制電子設備實際上通過提供的側偏差和角偏差來指揮運動，且這些偏差的計算將被重復。例如，如選擇重復(步驟136)，所述系統(tǒng)將x-y坐標系92中心與檢測中點82對準(步驟138)，然后通過由主PC 150向運動控制電子設備246發(fā)送信號而對x-y坐標系92的角誤差86進行有角度的對準校正來有角度地移動光束24，所述信號代表開始進行有角度的校正所需的微定位裝置106和108的必要偏差。為進一步精確，步驟128至134可重復進行。
如果基準標記40和42的圖象有足夠的質(zhì)量，且微定位裝置102、106、和108及相關聯(lián)的精度計量裝置具有足夠的能力來測量和控制位置使得單一系列的測量提供在OLED基板上適當沉積發(fā)射層所必需的誤差界限內(nèi)的定位信息，則不需要進行重復的過程。
在最終的重復通過后，或如不使用重復過程(步驟136)，所述系統(tǒng)向系統(tǒng)板提供校正因子和其余的側和角偏差，傳輸系統(tǒng)(步驟142)則在所述過程結束(步驟147)之前對起始位置(步驟144)和角度(步驟145)進行最終調(diào)整。在以下附圖和說明中對這些步驟中的一些將進行詳細敘述。
現(xiàn)在回到圖8，并還參照圖6，我們以更詳細的細節(jié)看到在x-y坐標系中照相機定位過程中涉及的步驟，即圖7中的步驟124和126。這些步驟取決于其中光束24移動到各照相機視野中的步驟。在這一過程起始時(步驟156)，主PC 150指令其它系統(tǒng)。主PC 150指令系統(tǒng)板154使光源100的操作功率從正常的書寫功率降低至足以定位光束24的照明位置的較低功率(步驟158)。如光源100為多通道光源，則主PC 150指令系統(tǒng)板154打開光源100的單通道(步驟160)。主PC命令運動控制電子設備246經(jīng)微定位裝置102、106、和108來移動光源100至最后已知的照相機中心位置(步驟162)。所述最后已知的照相機中心位置是最后一次進行照相機定位過程將光源放置到照相機中心的光源的位置。如果先前未進行照相機定位過程，則可能需要手動定位過程來建立初始的最后已知照相機中心定位。步驟162可在步驟158和160之前、期間或之后來進行。步驟162有效地使光束24相對于數(shù)字照相機248定位，使得數(shù)字照相機248可產(chǎn)生具有適當定位便于處理的發(fā)射光的數(shù)字圖象，其性質(zhì)將變得明確。對于適當定位，我們是指發(fā)射光在數(shù)字照相機248的視野內(nèi)，優(yōu)選在圖象的中心20％內(nèi)。
然后主PC 150指令圖象處理器250由數(shù)字照相機248收集圖象數(shù)據(jù)(步驟164)。圖象處理器250自動計算由光源100發(fā)射的通道圖象的質(zhì)量中心(步驟168)，然后向主PC 150報告在x和y上由照相機中心至通道圖象的質(zhì)量中心的偏差(步驟170)。光束24的位置可由例如以上定位過程得知，或由傳輸系統(tǒng)152向主PC 150傳輸位置數(shù)據(jù)得知。數(shù)字照相機248和光束24的位置在x-y坐標系92中已知，因而數(shù)字照相機248相對于光束24當前位置的位置也已知。
一旦收集、計算了圖象數(shù)據(jù)并報告了所述偏差，則主PC 150向傳輸系統(tǒng)152傳輸在x和y中由照相機中心至通道圖象質(zhì)量中心的偏差(步驟174)。傳輸系統(tǒng)152、特別是運動控制電子設備246計算并貯存在x-y坐標系92中當前照相機位置(步驟180)作為最后的已知照相機位置。同時，主PC 150指令系統(tǒng)板154關閉光源100通道(步驟178)并使光源100的功率設定返回到正常書寫值(步驟182)。所述過程這時結束(步驟184)，其可包括由系統(tǒng)板154或傳輸系統(tǒng)152或兩者向主PC 150發(fā)送的完畢信號。
對第二和任何隨后的照相機系統(tǒng)來重復這一過程，使得在x-y坐標系92中得知照相機十字準線的位置。
現(xiàn)在回到圖9并還參照圖1a和圖6，我們看到更詳細地表示在基準定位過程中、即檢測在基板10上可辨別特征相對于檢測照相機的位置所涉及的一些步驟的框圖。圖9因而為在圖7中步驟128和130的更詳細圖示，且為處理可辨別特征的數(shù)字圖象的處理算法。在步驟190中，圖象處理器250由數(shù)字照相機248得到圖象數(shù)據(jù)，該照相機包括在圖1a中十字準線44或46內(nèi)的區(qū)域并包括基準標記(40或42)。圖象處理器250使用圖象數(shù)據(jù)來計算基準標記的質(zhì)量中心(步驟192)。然后圖象處理器250將基準標記位置由照相機系統(tǒng)象素單位轉換為實際的尺寸，因而限定了相對于x-y坐標系92的基準標記中心的位置，從而限定了基板10的位置和取向(步驟194)。這樣，可確定相對于光束24的基板10的位置和取向。
現(xiàn)在回到圖10并還參照圖4b、圖5、和圖6，我們看到更詳細圖示在這一過程中計算一些重要參數(shù)所涉及的一些步驟的框圖。圖10因而為圖7中步驟134的更詳細圖示。在步驟200中，主PC 150計算檢測線74的長度，其由位于基準標記40和42的質(zhì)量中心的兩點來限定，其中位置在x-y坐標系內(nèi)表達。然后計算中點82(步驟202)，并由主PC 150計算與所需中點84的側向偏差(步驟204)。主PC 150計算線74和80之間的角度偏差86(步驟206)。所述結果為角度偏差86和側向偏差，由ΔxL88和ΔyL90表示。在步驟208中，主PC 150計算校正因子，其為線74長度與線80長度的比值。主PC 150然后由標準線距和放大率計算實際線距(步驟212)。
現(xiàn)在必須轉向討論為OLED裝置的構造來建立圖象文件。所述圖象文件為含有要書寫的各象素部分的值的數(shù)據(jù)文件。在當前陳述的所述系統(tǒng)中，各通道可為開或關。術語“通道”是指多通道光源的單一通道，如由Kay和他人在以上引用的共同轉讓的U.S.專利申請No.10/055579中所述。這種圖象數(shù)據(jù)被組織成稱為掃描帶(8waths)的條帶。根據(jù)所需的圖象，所述掃描帶設計為具有特定的長度和寬度。為使記錄中的這種圖象的照射與圖型化基板協(xié)調(diào)，首先需要基板與x-y坐標系對準，然后需要主PC 150和傳輸系統(tǒng)152向系統(tǒng)板154提供若干件信息。首先系統(tǒng)板154必須具有圖象和線距的格式。還需要具有相對于x-y體系的基板的其余角度偏差。還需要具有與在書寫過程中沿掃描帶運動的距離有關的信息，其也稱為計量信息。
現(xiàn)在回到圖11并還參照圖3b、圖5、和圖6，我們看到表示在書寫過程中步驟的框圖，其包括為放大調(diào)整而進行的動態(tài)對準，也稱為熱膨脹補償算法。在書寫過程中，橫向移動的光源100當其向不同橫向位置移動時按照基板的檢測的位置和取向通過改變光源100的起動時間來起動。起動光源100來起動光束24。以這種方式，光束24照射供體元件16的不同部分，并在這種過程中在基板10上沉積多個發(fā)射層，例如發(fā)射層32和33。計量信息使得系統(tǒng)板154來補償基板10的熱膨脹。另外，由于計算信息的分辨率和象素位的節(jié)距可能不同步或不為相同的分辨率，所以必須包括用于跟蹤和補償累積誤差的熱膨脹補償算法。
在起始時(步驟216)，光源100通過微定位裝置102在第一方向例如第一橫向105上移動(步驟218)。這在第一方向上移動了光束24。微定位裝置102例如通過精度反饋信號258向運動控制電子設備246發(fā)出關于其位置的信號，所述信號258包括來自精度計量裝置251的預定脈沖，即當光源100移動預定距離時產(chǎn)生的脈沖。熱膨脹補償算法使用精度反饋信號258的脈沖來準確起動光源100的橫向移動。在預定點，傳輸系統(tǒng)152經(jīng)校正信號264觸發(fā)系統(tǒng)板154來開始書寫過程(步驟220)。運動控制電子設備246將計量脈沖發(fā)送至系統(tǒng)板154，后者在計數(shù)存貯器146中累積所述脈沖(步驟222)。熱膨脹補償算法將作為距離度量的累積脈沖與線距進行對比，所述線距為校正因子修正的象素部分12的標稱間隔，所述校正因子已限定為實際間隔76與標稱間隔78的比值。如累積計數(shù)小于線距(步驟224)，則系統(tǒng)板154在計數(shù)存貯器146中繼續(xù)累積計量脈沖(步驟222)。如累積計數(shù)等于或大于線距(步驟224)，則觸發(fā)下一系列預定象素部分的書寫(步驟226)。如掃描帶不完整(步驟228)，即如在第一方向上有另外的象素部分要書寫，則所述計數(shù)與線距進行對比(步驟229)。如所述計數(shù)等于所述線距，則在計數(shù)存貯器146中的計數(shù)通過系統(tǒng)板154清除(步驟230)，并繼續(xù)書寫和累積計量脈沖過程。
如所述計數(shù)不等于線距，即如所述計數(shù)大于所述線距，這種誤差必須累積。對計數(shù)中的所述誤差進行計算(步驟231)，將在計數(shù)存貯器146中的計數(shù)清除(步驟232)，并且誤差存貯器148增加計算的誤差(步驟234)。如在誤差存貯器148中的累積誤差小于1(步驟236)，則系統(tǒng)板154再起動在計數(shù)存貯器146中的累積計量脈沖的過程(步驟222)。如累積誤差大于或等于1，則在計數(shù)存貯器146中的計數(shù)增加在誤差存貯器148中數(shù)值的整數(shù)部分(步驟238)，并且在誤差存貯器148中的累積誤差減少相同的數(shù)量(步驟240)。然后系統(tǒng)板154再起動在計數(shù)存貯器146中累積計量脈沖的過程(步驟222)。
如正印刷的掃描帶是完整的(步驟228)，即，如光源100已達到第一端點118，則系統(tǒng)板154清除在計數(shù)存貯器146中的計數(shù)和在誤差存貯器148中的累積誤差(步驟242)。如在第二或垂直方向110上已達到書寫端(步驟243)，即如全部表面已被書寫，則所述過程停止(步驟245)。如有另外的掃描帶要書寫，光源100在第二方向上前進，例如微定位裝置106和108在垂直方向110上移動光源100(步驟244)。然后重復進行在橫向104上移動光源100和輻射預定象素部分的過程，由步驟218開始。光源100的移動可在前述掃描帶的相反方向上進行，即在與第一橫向105平行但相反的第二橫向107上，移動至第二端點119，其為雙向輻射。在另一種實施方案中，光源100可在輻射之前移動至起始點119，并且在第一橫向105上進行輻射，從而實現(xiàn)單向輻射。
顯而易見，這種過程可用不同供體元件16來重復進行，以生產(chǎn)出例如包括產(chǎn)生不同顏色光線的不同顏色發(fā)射層的彩色OLED裝置。例如，第一供體元件16可被照射來沉積第一顏色光例如紅光的多個發(fā)射層。第二供體元件16可被照射來沉積第二顏色光如綠光的多個發(fā)射層。第三供體元件16可被照射來沉積第三顏色光如蘭光的多個發(fā)射層。各發(fā)射層相對于對應電極來沉積，例如在基板10上的象素部分12。
權利要求
1.用于有機發(fā)光顯示器裝置(OLED)的發(fā)射層的沉積方法，所述方法包括如下步驟(a)提供具有至少一個可辨別特征的OLED基板，所述特征可用來相對于OLED基板的象素部分為適當沉積發(fā)射層而定位OLED基板的位置和取向；(b)提供光源，該光源提供光束，所述光束可橫向和有角度地移動至選擇的位置以改變由這種光源所產(chǎn)生的光束的相對位置；(c)提供未構型化的供體元件，所述元件包括發(fā)射材料并具有能量吸收層，所述元件的排列使得當供體元件相對于OLED基板適當定位時，能量吸收層可吸收光束以對發(fā)射材料進行加熱并使得這種發(fā)射材料轉移至OLED基板；(d)以與OLED基板的轉移關系來使供體元件定位；(e)檢測在OLED基板上可辨認特征的位置，以確定OLED基板相對于光源的位置和取向；和(f)有角度地移動光束，然后在第一橫向移動所述光束直到達到第一端點，然后在垂直方向移動所述光束，并再次在與第一方向平行但與之相反的第二方向橫向移動光束至第二端點，并按照OLED基板的檢測位置和取向來起動在第一或第二方向上或在兩個方向上橫向移動的光束，這通過隨著光束移動至不同的橫向位置來改變這種起動的時間來實現(xiàn)。
2.如權利要求1的方法，還包括在步驟(f)中使用熱膨脹補償算法。
3.如權利要求1的方法，其中所述可辨別特征包括在OLED基板上形成的至少兩個間隔開的基準標記。
4.如權利要求2的方法，還包括其中熱膨脹補償算法對所述兩個可辨別特征之間的實際間隔與標稱間隔進行對比來產(chǎn)生校正因子。
5.如權利要求4的方法，還包括提供三個微定位裝置來實現(xiàn)步驟(f)，并還包括提供精度計量裝置，該精度計量裝置當光束在第一或第二方向移動時提供預定的脈沖，且其中熱膨脹補償算法對產(chǎn)生的脈沖數(shù)與由校正因子修正過的象素部分的標稱間隔進行對比，以準確起動光束。
6.用于有機發(fā)光顯示器裝置(OLED)的發(fā)射層的沉積方法，所述方法包括如下步驟(a)提供具有至少一個可辨別特征的OLED基板，所述特征可用來相對于OLED基板的象素部分為適當沉積發(fā)射層而定位OLED基板的位置和取向；(b)提供光源，所述光源提供光束，所述光束可橫向和有角度地移動至選擇的位置以改變由這種光源所產(chǎn)生的光束的相對位置；(c)提供能夠限定光源位置和限定x-y坐標系的精度傳感器；(d)提供未構型化的供體元件，該元件包括發(fā)射材料并具有能量吸收層，所述元件的排列使得當供體元件相對于OLED基板適當定位時，能量吸收層可吸收光束以對發(fā)射材料進行加熱并使得這種發(fā)射材料轉移至OLED基板；(e)以與OLED基板的轉移關系來使供體元件定位；(f)檢測在OLED基板上可辨認特征的位置，以確定OLED基板相對于x-y坐標系原點的位置和取向；和(g)有角度地移動光束，然后在第一橫向移動所述光束直到達到第一端點，然后在垂直方向移動所述光束，并再次在與第一方向平行但與之相反的第二方向橫向移動光束至第二端點，并按照OLED基板的檢測位置和取向來起動在第一或第二方向或在兩個方向上橫向移動的光束，這通過隨著光束移動至不同的橫向位置來改變這種起動的時間來實現(xiàn)。
7.產(chǎn)生不同顏色光線用于有機發(fā)光顯示器裝置(OLED)的不同顏色發(fā)射層的順序沉積方法，所述方法包括如下步驟(a)提供具有至少一個可辨別特征的OLED基板，所述特征可用來相對于OLED基板的象素部分為適當沉積發(fā)射層而定位OLED基板的位置和取向；(b)提供光源，所述光源提供光束，所述光束可橫向和有角度地移動至選擇的位置，以改變由這種光源所產(chǎn)生的光束相對于OLED基板的位置；(c)提供至少兩個未構型化的供體元件，所述元件包括可對應發(fā)射不同顏色光線的發(fā)射材料并各具有能量吸收層，所述元件的排列使得當供體元件相對于OLED基板適當定位時，能量吸收層可吸收光束以對發(fā)射材料進行加熱并使得這種發(fā)射材料轉移至OLED基板；(d)以與OLED基板的轉移關系來使供體元件定位；(e)檢測在OLED基板上可辨認特征的位置，以確定OLED基板相對于光源的位置和取向；和(f)有角度地移動光束，然后在第一橫向移動所述光束直到達到第一端點，然后在垂直方向移動所述光束，并再次在與第一方向平行但與之相反的第二方向橫向移動光束至第二端點，并按照OLED基板的檢測位置和取向來起動在第一或第二方向或在兩個方向上橫向移動的光束，這通過隨著光束移動至不同的橫向位置來改變對第一供體元件的不同部分照射的這起動的時間來實現(xiàn)，從而第一顏色光線的多個發(fā)射層沉積在OLED基板上；和(g)對第二供體元件來重復步驟(d)至(f)直到所有顏色的發(fā)射層傳遞至OLED基板。
8.產(chǎn)生不同顏色光線用于有機發(fā)光顯示器裝置(OLED)的不同顏色發(fā)射層的順序沉積方法，所述方法包括如下步驟(a)提供具有至少一個可辨別特征的OLED基板，所述特征可用來相對于OLED基板的象素部分和各與顯示器上的具體象素相連接的多個電極為適當沉積發(fā)射層而定位OLED基板的位置和取向；(b)提供光源，所述光源提供光束，所述光束可橫向和有角度地移動至選擇的位置以改變由這種光源所產(chǎn)生的光束相對于OLED基板的位置；(c)提供至少兩個未構型化的供體元件，所述元件包括可對應發(fā)射不同顏色光線的發(fā)射材料并各具有能量吸收層，所述元件的排列使得當供體元件相對于OLED基板適當定位時，能量吸收層可吸收光束以對發(fā)射材料進行加熱并使得這種發(fā)射材料轉移至OLED基板；(d)以與OLED基板的轉移關系來使供體元件定位；(e)檢測在OLED基板上可辨認特征的位置，以確定OLED基板相對于光源的位置和取向；(f)有角度地移動光束，然后在第一橫向移動所述光束直到達到第一端點，然后在垂直方向移動所述光束，并再次在與第一方向平行但與之相反的第二方向上橫向移動光束至第二端點，并按照OLED基板的檢測位置和取向來起動在第一或第二方向上或在兩個方向上橫向移動的光束，這通過隨著光束移動至不同的橫向位置來改變對第一供體元件的不同部分照射的這種起動的時間來實現(xiàn)，從而第一顏色光線的多個發(fā)射層相對于對應的電極沉積在OLED基板上；和(g)對第二供體元件來重復步驟(d)至(f)直到所有顏色的發(fā)射層傳遞至OLED基板。
全文摘要
用于沉積OLED發(fā)射層的方法，所述方法包括如下步驟提供具有至少一個可辨別特征的OLED基板；提供可橫向和有角度地移動的光束；提供未構型化的供體元件，所述元件包括發(fā)射材料并具有能量吸收層，所述元件的排列使得當供體元件相對于OLED基板適當定位時，能量吸收層可吸收光束以對發(fā)射材料進行加熱并使得這種發(fā)射材料轉移；檢測在OLED基板上可辨認特征相對于光束位置的位置，以確定OLED基板相對于光束的位置和取向；有角度地移動光束，然后按照OLED基板的檢測位置和取向，以光柵方式來移動所述光束，并隨著光束移動至不同的橫向位置來改變光束的起動時間。
文檔編號H01L27/32GK1471342SQ0314805
公開日2004年1月28日 申請日期2003年6月27日 優(yōu)先權日2002年6月27日
發(fā)明者A·S·里維爾斯, M·唐, A S 里維爾斯 申請人:伊斯曼柯達公司