一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置，包括真空室、門(mén)體、陽(yáng)極靶、陰極靶、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、抽真空裝置和充氣引入座；真空室的上蓋與真空室的室底相對(duì)，真空室的側(cè)壁連接上蓋和室底，以形成一腔室；側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口；門(mén)體與真空室連接，用于蓋設(shè)于開(kāi)口；陽(yáng)極靶和陰極靶設(shè)置在真空室的內(nèi)部，且，陽(yáng)極靶與陰極靶相對(duì)設(shè)置，陰極靶位于室底與陽(yáng)極靶之間；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)室底與陰極靶相連；抽真空裝置與真空室連通；充氣引入座設(shè)置在室底。本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐业膫?cè)壁上設(shè)置門(mén)體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)側(cè)壁上的門(mén)體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾。
【專利說(shuō)明】
一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]類金剛石碳膜(Diamond Like Carbon，DLC)是一種以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合生成的亞穩(wěn)態(tài)材料，其不僅兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性，還具有高硬度、高電阻率和良好光學(xué)性能，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性，可廣泛用于機(jī)械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)和醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
[0003]由于DLC是亞穩(wěn)態(tài)材料，在制備過(guò)程中需要荷能離子轟擊生長(zhǎng)表面，通常，采用物理氣相沉積方法、化學(xué)沉積方法或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,PECVD)方法進(jìn)行制備，而PECVD方法由于沉積速率快、成膜質(zhì)量好，被廣泛應(yīng)用于DLC的制備。沉積裝置在制備DLC的過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)沉積物垃圾，沉積物垃圾在沉積裝置的底部積累，若不及時(shí)清理干凈，沉積物垃圾將會(huì)影響下一次沉積。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)在清理沉積物垃圾時(shí)，首先將真空室的上蓋升起，接著將真空吸頭從真空室的上方伸入到真空室的底部，對(duì)底部的沉積物垃圾進(jìn)行清理，由于真空吸頭往往不方便拐彎，因此，在清理真空室底部的沉積物垃圾時(shí)，清掃難度大，存在清理不徹底的問(wèn)題，難以將沉積物垃圾清理干凈，影響下一次沉積。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型通過(guò)提供一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中難以清理位于沉積裝置底部的沉積物垃圾的技術(shù)問(wèn)題。
[0006]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置，包括真空室、門(mén)體、陽(yáng)極靶、陰極靶、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、抽真空裝置和充氣引入座；
[0007]所述真空室的上蓋與所述真空室的室底相對(duì)，所述真空室的側(cè)壁連接所述上蓋和所述室底，以形成一腔室；
[0008]所述側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口；
[0009]所述門(mén)體與所述真空室連接，用于蓋設(shè)于所述開(kāi)口；
[0010]所述陽(yáng)極靶和所述陰極靶設(shè)置在所述真空室的內(nèi)部，且，所述陽(yáng)極靶與所述陰極靶相對(duì)設(shè)置，所述陰極靶位于所述室底與所述陽(yáng)極靶之間；
[0011 ]所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)所述室底與所述陰極靶相連；
[0012]所述抽真空裝置與所述真空室連通；
[0013]所述充氣引入座設(shè)置在所述室底。
[0014]優(yōu)選的，所述門(mén)體上具有一探視窗。
[0015]優(yōu)選的，所述門(mén)體呈方形或圓形。
[0016]優(yōu)選的，還包括升降機(jī)構(gòu)；
[0017]所述升降機(jī)構(gòu)與所述上蓋相連。
[0018]優(yōu)選的，所述升降機(jī)構(gòu)為電動(dòng)升降機(jī)構(gòu)或液壓升降機(jī)構(gòu)。
[0019]優(yōu)選的，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電機(jī)。
[0020]優(yōu)選的，還包括調(diào)節(jié)閥；
[0021]所述調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述抽真空裝置與所述真空室連通處。
[0022]優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動(dòng)閥。
[0023]優(yōu)選的，所述抽真空裝置為分子栗。
[0024]本實(shí)用新型實(shí)施例中的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):
[0025]本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐业膫?cè)壁上設(shè)置門(mén)體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)門(mén)體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次的沉積過(guò)程。
【附圖說(shuō)明】
[0026]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0027]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例中一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置的立體圖；
[0028]圖2為圖1中的所述前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置的剖面圖；
[0029]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例中增設(shè)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)后前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置的剖面圖。
[0030]其中，I為真空室，101為上蓋，2為門(mén)體，3為陽(yáng)極靶，4為陰極靶，5為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，6為抽真空裝置，7為連接通道，8為機(jī)架，9為探視窗，10為升降機(jī)構(gòu)，11為電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)。
【具體實(shí)施方式】
[0031]為解決現(xiàn)有技術(shù)中難以清理位于沉積裝置底部的沉積物垃圾的技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置，通過(guò)在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門(mén)體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)側(cè)壁上的門(mén)體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次的沉積過(guò)程。
[0032]為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0033]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置，如圖1和圖2所示，所述裝置包括真空室1、門(mén)體2、陽(yáng)極靶3、陰極靶4、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5、抽真空裝置6、連接通道7和機(jī)架8。真空室I放置于機(jī)架8上，真空室I的上蓋101與真空室I的室底相對(duì)，真空室I的側(cè)壁連接上蓋101和室底，以形成一腔室。真空室I的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口，門(mén)體2在開(kāi)口處與真空室I連接，用于蓋設(shè)開(kāi)口，陽(yáng)極靶3和陰極靶4均設(shè)置在真空室I的內(nèi)部，陽(yáng)極靶3與陰極靶4相對(duì)設(shè)置，陰極靶4位于真空室I的室底與陽(yáng)極靶3之間。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5穿過(guò)真空室I的室底與陰極靶4相連。抽真空裝置6與真空室I連通，具體的，抽真空裝置6通過(guò)連接通道7與真空室I連通。其中，抽真空裝置6為分子栗。
[0034]本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐邑膫?cè)壁上設(shè)置門(mén)體2，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)側(cè)壁上的門(mén)體2，將真空吸頭從真空室I的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次沉積過(guò)程。
[0035]通常，真空室I為圓柱體，在本申請(qǐng)中，門(mén)體2的形狀不受開(kāi)口的限制，只要門(mén)體2在與真空室I連接后，在關(guān)門(mén)時(shí)能夠保證真空室I封閉即可。門(mén)體2的形狀可以為方形，也可以為圓形。另外，優(yōu)選的，門(mén)體2的材料與真空室I的材料相同。
[0036]為方便隨時(shí)觀察真空室I內(nèi)的反應(yīng)狀態(tài)，以及觀察真空室I內(nèi)沉積物垃圾的積累程度，門(mén)體2上設(shè)置有一探視窗9，探視窗9的形狀同樣不受門(mén)體2的形狀的限制，當(dāng)門(mén)體2為方形時(shí)，探視窗9可以為圓形，也可以為方形。通過(guò)探視窗9，操作人員能夠隨時(shí)觀察真空室I內(nèi)的反應(yīng)狀態(tài)，并在需要時(shí)作出相應(yīng)的處理，同時(shí)，通過(guò)探視窗9還能夠隨時(shí)觀察到沉積物垃圾的積累程度，在積累到一定程度后，停止反應(yīng)打開(kāi)門(mén)體2進(jìn)行清掃。
[0037]本申請(qǐng)的前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置還包括升降機(jī)構(gòu)10。升降機(jī)構(gòu)10的一端固定在機(jī)架8上，且，升降機(jī)構(gòu)10的另一端與真空室I的上蓋101相連。利用升降機(jī)構(gòu)10能夠打開(kāi)真空室I的上蓋101，并旋轉(zhuǎn)上蓋101，以便于對(duì)真空室I內(nèi)部的元件進(jìn)行拆卸。進(jìn)一步，升降機(jī)構(gòu)10為電動(dòng)升降機(jī)構(gòu)或液壓升降機(jī)構(gòu)。另外，在真空室I的室底設(shè)置有充氣引入座，充氣系統(tǒng)通過(guò)充氣引入座與真空室I相連，保證穩(wěn)定的充氣，其中，充氣引入座未圖示。
[0038]本申請(qǐng)的前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置還包括調(diào)節(jié)閥，調(diào)節(jié)閥設(shè)置在連接通道7與真空室I相連接的位置處，通過(guò)調(diào)節(jié)閥能夠?qū)B接通道7的流量進(jìn)行調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)閥未圖示。優(yōu)選的，調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動(dòng)閥。在本申請(qǐng)中，連接通道7的直徑的范圍為180mm?300mm，優(yōu)選的，連接通道7的直徑為250mm。
[0039]由于在增設(shè)門(mén)體2時(shí)，將會(huì)在真空室I的側(cè)壁上開(kāi)口，而開(kāi)口會(huì)在一定程度上造成真空室I內(nèi)的電場(chǎng)不平衡，因此，如圖3所示，本申請(qǐng)?jiān)陂_(kāi)口處增設(shè)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11可拆卸地連接在開(kāi)口處的真空室I的側(cè)壁上，用于補(bǔ)全開(kāi)口，其中，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11呈板狀，且，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸大于等于開(kāi)口的尺寸。
[0040]具體來(lái)講，當(dāng)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸大于開(kāi)口的尺寸時(shí)，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11與開(kāi)口的形狀可以相同，也可以不同，只要在安裝后，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11能夠補(bǔ)全開(kāi)口即可。而，當(dāng)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸等于開(kāi)口的尺寸時(shí)，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11與開(kāi)口的形狀相同，大小也相同，在安裝時(shí)，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11剛好能夠補(bǔ)全開(kāi)口。本申請(qǐng)通過(guò)在開(kāi)口處增設(shè)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11，利用電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11補(bǔ)全真空室I的側(cè)壁上的開(kāi)口，從而能夠保證真空室I內(nèi)的電場(chǎng)平衡，進(jìn)而保證沉積效果。
[0041]優(yōu)選的，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸與開(kāi)口的尺寸相同，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11剛好能夠補(bǔ)全開(kāi)口，從而，既能夠保證電場(chǎng)平衡，又不會(huì)浪費(fèi)材料。又，電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11與真空室I的側(cè)壁之間通過(guò)螺栓連接，當(dāng)需要從真空室I內(nèi)部拆卸下電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11時(shí)，先拆卸下螺栓，再?gòu)恼婵帐襂側(cè)壁上取下電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11，拆卸方便。
[0042]當(dāng)真空室I為圓柱體時(shí)，在一種具體實(shí)施例中，開(kāi)口為弧形，從而，與開(kāi)口相匹配的電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11為弧形板，該弧形板的弧度與開(kāi)口相匹配，同時(shí)，該弧形板的弧度與真空室I的側(cè)壁的弧度也相匹配。進(jìn)一步，該弧形板與陰極靶4同心。當(dāng)然，根據(jù)實(shí)際需要若開(kāi)設(shè)的開(kāi)口不是弧形，則根據(jù)開(kāi)口實(shí)際的形狀與大小，適應(yīng)性地調(diào)整電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的形狀與大小，以確保電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11能夠補(bǔ)全開(kāi)口。
[0043]需要說(shuō)明的是，當(dāng)所述裝置包括電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，先拆卸下電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11，接著將真空吸頭從真空室I側(cè)面打開(kāi)的門(mén)體2伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，在清掃后，再將電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11安裝到真空室I的側(cè)壁上。
[0044]上述本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案，至少具有如下的技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):
[0045]本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐业膫?cè)壁上設(shè)置門(mén)體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)側(cè)壁上的門(mén)體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會(huì)污染下一次沉積過(guò)程。
[0046]本申請(qǐng)通過(guò)在門(mén)體上設(shè)置探視窗，透過(guò)探視窗能夠隨時(shí)觀察真空室內(nèi)的反應(yīng)狀態(tài)，以及觀察真空室內(nèi)沉積物垃圾的積累程度。
[0047]盡管已描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對(duì)這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本實(shí)用新型范圍的所有變更和修改。
[0048]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種前開(kāi)門(mén)式類金剛石碳膜沉積裝置，其特征在于，包括真空室、門(mén)體、陽(yáng)極靶、陰極靶、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、抽真空裝置和充氣引入座； 所述真空室的上蓋與所述真空室的室底相對(duì)，所述真空室的側(cè)壁連接所述上蓋和所述室底，以形成一腔室； 所述側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口； 所述門(mén)體與所述真空室連接，用于蓋設(shè)于所述開(kāi)口 ； 所述陽(yáng)極靶和所述陰極靶設(shè)置在所述真空室的內(nèi)部，且，所述陽(yáng)極靶與所述陰極靶相對(duì)設(shè)置，所述陰極靶位于所述室底與所述陽(yáng)極靶之間； 所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)所述室底與所述陰極靶相連； 所述抽真空裝置與所述真空室連通； 所述充氣弓I入座設(shè)置在所述室底。2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述門(mén)體上具有一探視窗。3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述門(mén)體呈方形或圓形。4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括升降機(jī)構(gòu)； 所述升降機(jī)構(gòu)與所述上蓋相連。5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)為電動(dòng)升降機(jī)構(gòu)或液壓升降機(jī)構(gòu)。6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電機(jī)。7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括調(diào)節(jié)閥； 所述調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述抽真空裝置與所述真空室連通處。8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動(dòng)閥。9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述抽真空裝置為分子栗。
【文檔編號(hào)】C23C16/44GK205529026SQ201620267107
【公開(kāi)日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年3月31日
【發(fā)明人】向勇, 傅紹英, 徐子明, 孫力
【申請(qǐng)人】成都西沃克真空科技有限公司