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一種類金剛石碳膜沉積裝置的制造方法

文檔序號(hào):9905266閱讀:639來源:國(guó)知局
一種類金剛石碳膜沉積裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種類金剛石碳膜沉積裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]類金剛石碳膜(Diamond Like Carbon,DLC)是一種以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合生成的亞穩(wěn)態(tài)材料,其不僅兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性,還具有高硬度、高電阻率和良好光學(xué)性能,同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性,可廣泛用于機(jī)械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)和醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
[0003]由于DLC是亞穩(wěn)態(tài)材料,在制備過程中需要荷能離子轟擊生長(zhǎng)表面,通常,采用物理氣相沉積方法、化學(xué)沉積方法或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,PECVD)方法進(jìn)行制備,而PECVD方法由于沉積速率快、成膜質(zhì)量好,被廣泛應(yīng)用于DLC的制備。沉積裝置在制備DLC的過程中會(huì)出現(xiàn)沉積物垃圾,沉積物垃圾在沉積裝置的底部積累,若不及時(shí)清理干凈,沉積物垃圾將會(huì)影響下一次沉積?,F(xiàn)有技術(shù)在清理沉積物垃圾時(shí),首先將真空室的上蓋升起,接著將真空吸頭從真空室的上方伸入到真空室的底部,對(duì)底部的沉積物垃圾進(jìn)行清理,由于真空吸頭往往不方便拐彎,因此在清理真空室底部的沉積物垃圾時(shí),存在清理不徹底的問題。
[0004]為克服清理不徹底的問題,可以在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門體,從而真空吸頭能夠從真空室側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃,真空吸頭不再需要拐彎,易于清理真空室底部的沉積物垃圾,清理徹底。但是,在設(shè)置門體時(shí)將會(huì)在真空室的側(cè)壁上開口,而開口會(huì)對(duì)真空室內(nèi)的電場(chǎng)分布造成影響,造成電場(chǎng)不平衡。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明通過提供一種類金剛石碳膜沉積裝置,解決了現(xiàn)有技術(shù)中在真空室側(cè)壁開設(shè)門體將會(huì)造成真空室內(nèi)部電場(chǎng)不平衡的技術(shù)問題。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種類金剛石碳膜沉積裝置,包括真空室、門體、陽(yáng)極靶、陰極靶、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、抽真空裝置和電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu);
[0007]所述真空室的上蓋與所述真空室的室底相對(duì),所述真空室的側(cè)壁連接所述上蓋和所述室底,以形成一腔室;
[0008]所述側(cè)壁上開設(shè)有一開口;
[0009]所述門體與所述真空室連接,用于蓋設(shè)于所述開口;
[0010]所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)可拆卸地連接在所述開口處的所述側(cè)壁上,用于補(bǔ)全所述開口,其中,所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)呈板狀,且,所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)的尺寸大于等于所述開口的尺寸;
[0011]所述陽(yáng)極靶和所述陰極靶設(shè)置在所述真空室的內(nèi)部,且,所述陽(yáng)極靶與所述陰極靶相對(duì)設(shè)置,所述陰極靶位于所述真空室的室底與所述陽(yáng)極靶之間;
[0012]所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過所述室底與所述陰極靶相連;
[0013]所述抽真空裝置與所述真空室連通。
[0014]優(yōu)選的,所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)的尺寸與所述開口的尺寸相同。
[0015]優(yōu)選的,所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)與所述真空室的側(cè)壁之間通過螺栓連接。
[0016]優(yōu)選的,所述真空室為圓柱體,所述開口呈弧形,所述電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)為弧形板。
[0017]優(yōu)選的,所述門體上具有一探視窗。
[0018]優(yōu)選的,還包括升降機(jī)構(gòu);
[0019]所述升降機(jī)構(gòu)與所述上蓋相連。
[0020]優(yōu)選的,所述升降機(jī)構(gòu)為電動(dòng)升降機(jī)構(gòu)或液壓升降機(jī)構(gòu)。
[0021]優(yōu)選的,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電機(jī)。
[0022]優(yōu)選的,還包括調(diào)節(jié)閥;
[0023]所述調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述抽真空裝置與所述真空室連通處。
[0024]優(yōu)選的,所述調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動(dòng)閥。
[0025]本發(fā)明實(shí)施例中的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案,至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):
[0026]本發(fā)明通過在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門體,在需要清理沉積物垃圾時(shí),打開側(cè)壁上的門體,將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃,真空吸頭不再需要拐彎,易于清理底部的沉積物垃圾,清理徹底,不會(huì)污染下一次沉積過程,并且,通過在真空室側(cè)壁上的開口處增設(shè)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu),利用電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)補(bǔ)全真空室的側(cè)壁上的開口,從而能夠保證真空室內(nèi)的電場(chǎng)平衡,保證了沉積效果。
【附圖說明】
[0027]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0028]圖1為本發(fā)明實(shí)施例中一種類金剛石碳膜沉積裝置的剖面圖;
[0029]圖2為本發(fā)明實(shí)施例中真空室與開口之間相對(duì)位置關(guān)系的示意圖;
[0030]圖3為本發(fā)明實(shí)施例中一種【具體實(shí)施方式】下的電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031]其中,I為真空室,101為開口,102為上蓋,2為門體,3為陽(yáng)極靶,4為陰極靶,5為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),6為抽真空裝置,7為連接通道,8為機(jī)架,9為探視窗,10為升降機(jī)構(gòu),11為電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)。
【具體實(shí)施方式】
[0032]為解決現(xiàn)有技術(shù)中在真空室側(cè)壁開設(shè)門體將會(huì)造成真空室內(nèi)部電場(chǎng)不平衡的技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種類金剛石碳膜沉積裝置,通過在真空室側(cè)壁上的開口處增設(shè)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu),利用電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)補(bǔ)全真空室的側(cè)壁上的開口,從而能夠保證真空室內(nèi)的電場(chǎng)平衡,保證了沉積效果。
[0033]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0034]本發(fā)明實(shí)施例提供一種類金剛石碳膜沉積裝置,如圖1所示,所述裝置包括真空室
1、門體2、陽(yáng)極靶3、陰極靶4、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5、抽真空裝置6、連接通道7、機(jī)架8和電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)
II。真空室I的上蓋102與真空室I的室底相對(duì),真空室I的側(cè)壁連接上蓋102和室底,以形成一腔室。真空室I放置于機(jī)架8上,真空室I的側(cè)壁上開設(shè)有一開口 101,門體2與真空室I連接,用于蓋設(shè)于開口 101。電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11可拆卸地連接在開口 101處的真空室I的側(cè)壁上,用于補(bǔ)全開口 101,其中,電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11呈板狀,且,電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸大于等于開口101的尺寸。陽(yáng)極靶3和陰極靶4設(shè)置在真空室I的內(nèi)部,且,陽(yáng)極靶3與陰極靶4相對(duì)設(shè)置,且,陰極靶4位于,真空室I的室底與陽(yáng)極靶3之間。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)5穿過真空室I的室底與陰極靶4相連。抽真空裝置6與真空室I連通,具體的,抽真空裝置6通過連接通道7與真空室I連通。其中,抽真空裝置6為分子栗。
[0035]具體來講,當(dāng)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸大于開口101的尺寸時(shí),電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11與開口 101的形狀可以相同,也可以不同,只要在安裝后,電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11能夠補(bǔ)全開口 1lgp可。而,當(dāng)電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11的尺寸等于開口 101的尺寸時(shí),電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11與開口 101的形狀相同,大小也相同,在安裝時(shí),電場(chǎng)平衡機(jī)構(gòu)11剛好能夠補(bǔ)全開口 101。本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐襂的側(cè)壁上設(shè)置門體2,在需要清理沉積物垃圾時(shí),打開側(cè)壁上的門體2,將真空吸頭從真空室I的側(cè)壁伸到內(nèi)
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