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具有改善的接觸的讀/寫頭的制作方法

文檔序號:9818464閱讀:418來源:國知局
具有改善的接觸的讀/寫頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]各種實施例涉及用于數(shù)據(jù)存儲系統(tǒng)的讀/寫頭。
【背景技術(shù)】
[0002]對于利用磁帶的數(shù)據(jù)存儲系統(tǒng),磁帶頭用于在跨磁帶頭傳送磁帶時對磁帶執(zhí)行讀和/或?qū)懖僮鳌4艓ь^在磁帶運動方向的側(cè)面通常被稱為是弧面(contour)。設(shè)計弧面以保持移動的磁帶與磁帶頭的表面接觸,特別是在接近執(zhí)行讀和/或?qū)懝δ艿脑O(shè)備的區(qū)域。實現(xiàn)移動的磁帶到磁帶頭表面的接觸同時最小化磁帶頭與磁帶之間的摩擦以最小化磁帶與磁帶頭的磨損。
[0003]—些現(xiàn)有技術(shù)的磁帶頭使用具有跨磁帶頭整個寬度的橫向縫隙的圓柱形磁帶頭表面。在沒有橫向縫隙的情況下,空氣被引入在磁帶與磁帶頭之間,從而使磁帶與磁帶頭之間的接觸分裂。利用橫向縫隙,移動的磁帶保持與橫向縫隙下游的磁帶頭接觸,因此造成跨磁帶整個寬度的摩擦。包角是磁帶從磁帶頭相對于縱向行進方向伸出的角度,其中磁帶在與磁帶頭的邊緣內(nèi)側(cè)間隔的位置處從支承表面伸出。這些弧面以大的標稱包角進行操作并且可以容忍包角的大的變化。
[0004]在其他現(xiàn)有技術(shù)的磁帶頭中,具有減小的長度的平坦支承表面用來減少有效接觸面積并且因此與圓柱形弧面相比減少磁帶與磁帶頭的摩擦。磁帶被在垂直于縱向的平坦表面的角處外包裝。外包裝擦去攜入的空氣,因此在磁帶與磁帶頭之間造成接觸,但是產(chǎn)生接觸壓力,從而導致摩擦。外包裝角是磁帶從磁帶頭的邊緣相對于磁帶頭的支承表面伸出的角度。在這種情況下,外包裝角與前面定義的包角相同。較高的外包裝角產(chǎn)生較高的接觸壓力和摩擦。所以,這些弧面通常以較低的標稱包角進行操作并且包角變化被更精確地控制,以便尤其減少磁帶的磨損,因為較大的包角可以導致較高的磁帶磨損。包角(和外包裝角)由磁頭在磁帶驅(qū)動器的磁帶路徑中的位置支配,或更準確地說,由接近于磁頭的磁帶路徑導軌的位置支配。通常,磁頭被單獨地制造并且然后在驅(qū)動器制造期間被集成到磁帶路徑中,導致呈現(xiàn)給弧面的包角的較大的變化。另外,具有較新外包裝的弧面設(shè)計的磁頭可以被安裝在具有設(shè)計有較早橫向縫隙的圓柱形弧面設(shè)計的較大標稱包角的磁帶路徑的磁帶驅(qū)動器中。
[0005]對于這些外包裝的弧面,希望向活動的磁頭弧面呈現(xiàn)具有緊密容忍度的低的標稱包角,不管由磁帶路徑支配的標稱包角和容忍度如何。一個現(xiàn)行解決方案包括將附加的不活動圓柱形模塊(被稱為外伸支架)安裝到活動模塊(讀/寫頭)的任一邊上以使得整個組件(外伸支架和外包裝的模塊)對于任何合理的標稱包角或偏離磁帶路徑都工作。設(shè)計外伸支架以使得在磁帶與外伸支架之間以操作的磁帶速度存在可以忽略的摩擦。外伸支架被組裝到活動的模塊以使得在活動的模塊上的外包裝被最小化以減少摩擦。此方法引起制造與組裝外伸支架的附加過程;并且增加了可能妨礙磁帶驅(qū)動器中的其他組件的磁帶頭組件的物理尺寸。這個問題在活動磁帶頭組件的大小由于結(jié)構(gòu)上的變化增加(諸如使用的活動模塊的數(shù)目的增加)的時候被放大。
[0006]另一解決方案是在磁帶路徑中引入在驅(qū)動器制造期間在磁頭組件被集成到磁帶路徑期間精確地控制包角的機制。這大大地增加了用于將磁頭組件集成到驅(qū)動器中的處理復雜性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]根據(jù)至少一個實施例,讀/寫頭設(shè)置有具有主體長度和在數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)被跨支承表面縱向傳送時支持數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)的支承表面的主體。主體的支承表面被在細長主體的橫向方向圍繞軸彎曲。主體的支承表面僅僅在主體的中間區(qū)域中具有相對于主體長度減小的縱向長度。在主體的支承表面的中間區(qū)域上提供至少一個讀/寫設(shè)備以在數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)被跨支承表面?zhèn)魉蜁r在數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)上讀和/或?qū)憯?shù)據(jù)。
[0008]根據(jù)至少一個實施例,磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)設(shè)置有具有長度和在數(shù)據(jù)存儲磁帶被跨支承表面縱向傳送時支持數(shù)據(jù)存儲磁帶的支承表面的讀/寫頭。讀/寫頭的支承表面被在讀/寫頭的橫向方向圍繞軸彎曲。讀/寫頭的支承表面具有僅僅在讀/寫頭的中間區(qū)域中相對于主體長度減小的縱向長度。在讀/寫頭的支承表面的中間區(qū)域上提供至少一個讀/寫設(shè)備以在數(shù)據(jù)存儲磁帶被跨支承表面?zhèn)魉蜁r在數(shù)據(jù)存儲磁帶上讀和/或?qū)憯?shù)據(jù)。提供電動機以驅(qū)動數(shù)據(jù)存儲磁帶。
[0009]根據(jù)至少一個實施例,通過形成具有彎曲的支承表面以支持數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)的細長主體來提供用于制造讀/寫頭的方法。至少一個讀/寫設(shè)備被提供在讀/寫頭的支承表面的中間區(qū)域上。材料被從細長主體的中間區(qū)域上移除以減小中間區(qū)域中的支承表面的縱向長度。
【附圖說明】
[0010]圖1是根據(jù)實施例的磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)的概略視圖;
[0011]圖2是根據(jù)實施例的圖1的磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)的讀/寫頭的平面圖;
[0012]圖3是沿圖2中的剖面線3-3得到的剖視圖;
[0013]圖4是沿圖2中的剖面線4-4得到的剖視圖;
[0014]圖5是根據(jù)實施例的圖1的磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)的讀/寫頭的平面圖;
[0015]圖6是沿圖5中的剖面線6-6得到的剖視圖;
[0016]圖7是沿圖5中的剖面線7-7得到的剖視圖;
[0017]圖8是根據(jù)實施例的圖1的磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)的讀/寫頭的平面圖;
[0018]圖9是沿圖8中的剖面線9-9得到的剖視圖;
[0019]圖10是沿圖8中的剖面線10-10得到的剖視圖;
[0020]圖11是根據(jù)實施例的圖1的磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)的讀/寫頭的平面圖;
[0021 ]圖12是沿圖11中的剖面線12-12得到的剖視圖;
[0022]圖13是沿圖11中的剖面線13-13得到的剖視圖;
[0023]圖14是根據(jù)實施例的圖1的磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)的讀/寫頭的平面圖;
[0024]圖15是沿圖14中的剖面線15-15得到的剖視圖;
[0025]圖16是沿圖14中的剖面線16-16得到的剖視圖;
[0026]圖17是根據(jù)實施例的圖1的磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)的讀/寫頭的平面圖;
[0027]圖18是沿圖17中的剖面線18-18得到的剖視圖;
[0028]圖19是沿圖17中的剖面線19-19得到的剖視圖;以及[0029 ]圖20是沿圖17中的剖面線20-20得到的剖視圖。
【具體實施方式】
[0030]根據(jù)需要,這里公開本發(fā)明的詳細實施例;但是,應當理解公開的實施例僅僅是可以被以各種和可替換形式實施的發(fā)明的示范。圖不一定是按比例的;一些特征可以被放大或縮小以便顯示特殊組件的細節(jié)。因此,這里公開的具體結(jié)構(gòu)和功能細節(jié)不被解釋為限制,而是僅僅作為用于教導本領(lǐng)域的技術(shù)人員多樣地采用本發(fā)明的代表性基礎(chǔ)。
[0031]參考圖1,根據(jù)實施例大體示出磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)30。磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)30包括被描述為具有兩個活動模塊34、36的磁帶讀/寫頭組件32。雖然描述了兩個活動的模塊34、36,但是預期任何數(shù)目的活動的模塊。此布置消除了諸如外伸支架之類的不活動模塊,下面將進一步解釋。磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)30可以包括一個或可以被單獨地提供的一對磁帶盤38、40。磁帶驅(qū)動器系統(tǒng)30也可以包括一對導軌。在磁帶盤38、40上提供磁帶42。提供一對電動機44、46以用于驅(qū)動一對磁帶盤38、40的每一個使得磁帶42跨磁帶頭組件32雙向行進,如圖1中的箭頭所示。
[0032]圖2示出根據(jù)實施例的可以被采用為磁帶頭組件32的活動模塊34、36的一個的讀/寫頭48。讀/寫頭48具有帶有支承表面52的主體50,以在數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)被如圖2中的箭頭所述跨支承表面52縱向地傳送時支持數(shù)據(jù)存儲磁帶54。主體50可以由陶瓷材料形成。主體50具有在磁帶42行進的縱向方向定位的長度。主體50也具有在磁帶42的寬度方向定位的寬度。對于描述的實施例,主體50的寬度比長度的尺寸大;但是,這些尺寸被命名以與磁帶42的命名規(guī)則一致。
[0033]主體50的支承表面52是凸狀的并且被在主體50的橫向方向圍繞軸彎曲,如圖3中所示。根據(jù)至少一個實施例,支承表面52圍繞橫軸是圓柱形的。在磁帶42跨支承表面52對于主體50的長度行進時,如圖3中所示,空氣薄膜存留在磁帶42與支承表面52之間以防止物理接觸并且減少摩擦。這樣的布置不適用于跨主體50的整個寬度,因為希望接觸以用于執(zhí)行讀和/或?qū)懝δ堋?br>[0034]圖2和4示出支承表面52具有相對于僅僅在中間區(qū)域56中的主體長度的減小的縱向長度。減小的縱向長度強制磁帶42與支承表面52僅僅在中間區(qū)域56上而不是在磁帶42的整個寬度上接觸,并且因此通過不強制在磁帶42的整個寬度上接觸而減少摩擦。磁讀/寫設(shè)備58被提供在主體50的支承表面52的中間區(qū)域56上以在磁帶54被跨支承表面52傳送時在磁帶54上讀和/或?qū)憯?shù)據(jù)。因此,提供磁帶42與支承表面52的中間區(qū)域56的強制接觸以利用讀/寫設(shè)備58進行準確的讀/寫操作。相反地,避免在中間區(qū)域56以外在支承表面52上的接觸。雖然對于每個模塊34、36,讀/寫設(shè)備58被作為多個引入,但是預期每個模塊采用單個讀/寫設(shè)備58。
[0035]在描述的實施例中,由于在支承表面52中形成的、并且穿過讀/寫頭48的主體50的一對縫60、62,讀/寫頭48的主體50在中間區(qū)域56中具有減小的縱向長度??p60、62每個都通常垂直于磁帶54的行進的縱向、并且垂直于讀/寫頭48的橫向、或?qū)挾确较蛐纬伞C總€縫60、62提供一個橫向側(cè)壁64、66和兩個縱向側(cè)壁68、70、72、74。橫向側(cè)壁64、66每個都提供具有支承表面52的邊緣以從磁帶42中擦去空氣。每個縫60、62與讀/寫設(shè)備58間隔開并且被形成到讀/寫頭48的縱向邊緣76、78中以將磁帶42的下側(cè)暴露到外界空氣從而到出口空氣,在該區(qū)域56中從磁帶下方去掉出口空氣的??p60、62改進了在磁帶54的每個行進方向鄰近讀/寫設(shè)備58的中間區(qū)域56中的接觸??p60、62可以由諸如研磨等等之類的材料去除處理形成。
[0036]圓柱形模塊或讀/寫頭48設(shè)置有部分縫60、62,它們限于中間區(qū)域56而不是如在現(xiàn)有技術(shù)中提供的那樣跨主體50的寬度。圓柱形形狀提供在磁頭組件32被集成到驅(qū)動器系統(tǒng)30中時對包角變化的容忍并且限制讀/寫頭48的支承表面52與在記錄設(shè)備58的中間區(qū)域56中的移動的磁帶54的接觸。這個優(yōu)點通過在磁帶54的行進方向?qū)⒖p60、62與讀/寫設(shè)備58對準并且將縫60、62限制到中間區(qū)域56來實現(xiàn),這與跨磁帶頭的整個寬度的現(xiàn)有技術(shù)的縫相反。
[0037]通過減小中間區(qū)域56的縱向長度,主體50的外側(cè)區(qū)域80、82在中間區(qū)域56的任一側(cè)、或者活動的磁頭弧面上提供現(xiàn)有技術(shù)的外伸支架模塊的功能。外側(cè)區(qū)域80、82的功能被與外包裝的中間區(qū)域56整合以形
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