光記錄介質(zhì)及其制造方法
【專利說(shuō)明】
[0001] 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002] 本申請(qǐng)要求享有2014年3月31日提交的日本優(yōu)先權(quán)專利申請(qǐng)JP2014-074952的 權(quán)益，該專利申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容并入本文W供參考。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003] 本公開(kāi)內(nèi)容設(shè)及具有兩個(gè)基板的光記錄介質(zhì)及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0004] 作為光記錄介質(zhì)，諸如數(shù)字多用盤值VD)之類的貼合型光記錄介質(zhì)已被廣泛使 用。該種光記錄介質(zhì)是通過(guò)W紫外線固化樹(shù)脂介于中間的方式疊置兩個(gè)基板、固化所述紫 外線固化樹(shù)脂、并將兩個(gè)基板相互貼合來(lái)制造的。
[0005] 相對(duì)于該種貼合型光記錄介質(zhì)，已研發(fā)了用于防止介質(zhì)發(fā)生翅曲的技術(shù)。例如，日 本未審專利申請(qǐng)公開(kāi)文本2003-99985公開(kāi)了通過(guò)利用基板保持部件保持在其間插入紫外 線固化粘合劑的兩個(gè)薄基板、通過(guò)在保持部件處提供的保持臺(tái)吸附并保持薄基板、并校正 薄基板中出現(xiàn)的翅曲和變形，來(lái)制造平坦的貼合型基板。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 所希望的是提供一種能夠抑制出現(xiàn)翅曲的光記錄介質(zhì)及其制造方法。
[0007] 根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施例，提供了一種光記錄介質(zhì)，包括；兩個(gè)盤，每個(gè)盤包括基 板和多個(gè)記錄層；W及在兩個(gè)盤之間提供的貼合層，所述貼合層包括紫外線固化樹(shù)脂，其 中，所述兩個(gè)盤中的每一基板的厚度大于等于0. 3mm且小于等于0. 545mm，其中，所述兩個(gè) 盤的透射率小于等于20%，W及其中所述貼合層的兩個(gè)表面?zhèn)壬系霓D(zhuǎn)化率彼此相等或者基 本上相等，且大于等于70%。
[0008] 根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的另一實(shí)施例，提供了一種光記錄介質(zhì)的制造方法，包括；用紫外 線從兩個(gè)盤的兩側(cè)照射在所述兩個(gè)盤之間插入的紫外線固化樹(shù)脂層，每個(gè)盤包括基板和多 個(gè)記錄層，并固化所述紫外線固化樹(shù)脂，W使得所述紫外線固化樹(shù)脂層的兩個(gè)表面?zhèn)鹊霓D(zhuǎn) 化率變?yōu)楸舜讼嗟然蚧旧舷嗟龋⒆優(yōu)榇笥诘扔?0 %，其中，所述兩個(gè)盤中的每一基板的 厚度大于等于0. 3mm且小于等于0. 545mm，W及其中，所述兩個(gè)盤的透射率小于等于20%。
[0009] 根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容，可W如上所述地抑制光記錄介質(zhì)出現(xiàn)翅曲。
【附圖說(shuō)明】
[0010] 圖1A是根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容第一實(shí)施例的光記錄介質(zhì)的外觀的范例，W及圖1B是示 出根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容第一實(shí)施例的光記錄介質(zhì)的構(gòu)成的范例的概略剖視圖；
[0011] 圖2是示意性地示出各信息信號(hào)層的構(gòu)成的范例的圖；
[0012] 圖3是示出旋涂裝置的構(gòu)成的范例的概略剖視圖；
[0013] 圖4是示出貼合裝置的構(gòu)成的范例的概略剖視圖；
[0014] 圖5A至祀是示出根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容第一實(shí)施例的光記錄介質(zhì)的制造方法的范例的 工序圖；
[0015] 圖6A是示出旋涂裝置的中屯、銷的構(gòu)成的范例的概略剖視圖；W及圖6B是示出根 據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容第二實(shí)施例的旋涂裝置的中屯、銷的構(gòu)成的范例的概略剖視圖；
[001引圖7A是W放大方式示出第一和第二盤的開(kāi)口部分的剖視圖，W及圖7B是W放大 方式示出中屯、銷的側(cè)視圖；W及
[0017] 圖8A是示出徑向偏移與跟蹤誤差之間的關(guān)系的圖表，W及圖8B是示出徑向偏移 與中屯、銷和中屯、孔之間的余隙之間的關(guān)系的圖表。
【具體實(shí)施方式】
[0018] 每個(gè)盤中包括的記錄層是專用于再現(xiàn)的記錄層（所謂的再現(xiàn)層）、可記錄的記錄 層、或者可重寫(xiě)的記錄層。盡管考慮到記錄能力，將被相互貼合的兩個(gè)盤中包括的記錄層的 數(shù)目?jī)?yōu)選為兩個(gè)或更多，但是該數(shù)目也可W是一個(gè)。在盤包括多個(gè)記錄層的情況下，優(yōu)選在 各記錄層之間提供間隔層（spacerlayer)。在基板上提供一個(gè)或多個(gè)記錄層，并優(yōu)選在記 錄層上提供覆蓋層。盡管覆蓋層的厚度并不特別受限，但是由于在高密度光記錄介質(zhì)中使 用具有高M(jìn)的物鏡，因此優(yōu)選采用薄的透光層（比如薄片或者涂層）作為覆蓋層，并且優(yōu) 選通過(guò)將光從透光層側(cè)照射光記錄介質(zhì)來(lái)記錄或者再現(xiàn)信息信號(hào)。
[0019] 從改善存儲(chǔ)可靠性的角度來(lái)講，進(jìn)一步優(yōu)選的是在每個(gè)記錄層的至少一個(gè)表面上 提供電介質(zhì)層，并且更優(yōu)選的是在每個(gè)記錄層的兩個(gè)表面上都提供電介質(zhì)層。從簡(jiǎn)化層結(jié) 構(gòu)和制造設(shè)備的角度來(lái)講，優(yōu)選的是單獨(dú)使用記錄層，而不在記錄層的任何表面上提供電 介質(zhì)層。
[0020] 將按W下順序描述本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施例。
[0021] 1.第一實(shí)施例（光記錄介質(zhì)的范例）
[0022] 1.1光記錄介質(zhì)的構(gòu)成
[0023] 1. 2光記錄介質(zhì)的制造方法
[0024] 1. 3 效果 [00巧]1. 4變型例
[0026]2.第二實(shí)施例（光記錄介質(zhì)和旋涂裝置的范例）
[0027] 2. 1 概要
[0028] 2. 2光記錄介質(zhì)的構(gòu)成
[0029] 2. 3旋涂裝置的構(gòu)成
[0030] 1.第一實(shí)施例
[0031] 1. 1光記錄介質(zhì)的構(gòu)成
[0032] 如圖1A所示，根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的實(shí)施例的光記錄介質(zhì)1具有在其中屯、提供開(kāi)口 (W下稱為中屯、孔）的盤片形狀。此外，光記錄介質(zhì)的形狀不局限于該范例，光記錄介質(zhì)也 可W具有卡片形狀。
[0033] 如圖1B所示，光記錄介質(zhì)1是所謂的多層可記錄光記錄介質(zhì)，具有第一盤10、第二 盤20、和在第一盤10和第二盤20之間提供的貼合層30。
[0034] 第一盤10具有W下構(gòu)成，其中信息信號(hào)層L0,間隔層S1，信息信號(hào)層L1，…，間隔 層Sn，信息信號(hào)層Ln，作為覆蓋層的透光層12依照此順序疊置在基板11的主表面上。第 二盤20具有W下構(gòu)成，其中信息信號(hào)層L0,間隔層S1，信息信號(hào)層L1，…，間隔層Sm，信息 信號(hào)層Lm，作為覆蓋層的透光層22依照此順序疊置在基板21的主表面上。該里，n和m是 整數(shù)，該整數(shù)為1或2W上的整數(shù)，并且n和m可W是不同的值。在下文說(shuō)明中，當(dāng)并不特 別彼此區(qū)分信息信號(hào)層L0至LnW及L0至Lm時(shí)，信息信號(hào)層L0至LnW及L0至Lm將被 統(tǒng)稱為信息信號(hào)層L。
[00巧]光記錄介質(zhì)1包括在兩個(gè)表面上都提供的光照射表面，用于記錄或者再現(xiàn)信息信 號(hào)的光被照射到該光照射表面上。更具體地說(shuō)，光記錄介質(zhì)1包括用于記錄或者再現(xiàn)第一 盤10的信息信號(hào)的激光所照射的第一光照射表面C1，和用于記錄或者再現(xiàn)第二盤20的信 息信號(hào)的激光所照射的第二光照射表面C2。
[003引在第一盤10中，W第一光照射表面C1的位置為基準(zhǔn)，信息信號(hào)層L0位于最遠(yuǎn)的 位置，信息信號(hào)層L1至Ln位于信息信號(hào)層L0的前部。為此，信息信號(hào)層L1至Ln被配置 為能夠透射用于記錄或者再現(xiàn)的激光。與此相反，在第二盤20中，W第二光照射表面C2的 位置為基準(zhǔn)，信息信號(hào)層L0位于最遠(yuǎn)的位置，信息信號(hào)層L1至Lm位于信息信號(hào)層L0的前 部。為此，信息信號(hào)層L1至Lm被配置為能夠透射用于記錄或者再現(xiàn)的激光。
[0037] 光記錄介質(zhì)1如下記錄或者再現(xiàn)第一盤10的信息信號(hào)。目P，通過(guò)從透光層12側(cè)的 第一光照射表面C1，用激光照射第一盤10中包括的各個(gè)信息信號(hào)層L0至Ln，將信息信號(hào) 記錄到第一盤10中或者從第一盤10中再現(xiàn)信息信號(hào)。例如，通過(guò)W數(shù)值孔徑在大于等于 0. 84且小于等于0. 86范圍內(nèi)的物鏡會(huì)聚波長(zhǎng)在大于等于350nm且小于等于410nm范圍內(nèi) 的激光、并用會(huì)聚的激光從透光層12側(cè)照射第一盤10中包括的各個(gè)信息信號(hào)層L0至Ln， 來(lái)記錄或者再現(xiàn)信息信號(hào)。
[0038] 與此相反，如下將信息信號(hào)記錄到第二盤20中或者從第二盤20再現(xiàn)信息信號(hào)。 良P，通過(guò)從透光層22側(cè)的表面C，用激光照射第二盤20中包括的各個(gè)信息信號(hào)層L0至Lm， 將信息信號(hào)記錄到第二盤20中，W及從第二盤20中再現(xiàn)信息信號(hào)。例如，通過(guò)W數(shù)值孔徑 在大于等于0. 84且小于等于0. 86范圍內(nèi)的物鏡會(huì)聚波長(zhǎng)在大于等于350nm且小于等于 410nm范圍內(nèi)的激光、并用會(huì)聚的激光從透光層22側(cè)照射第二盤20中包括的各個(gè)信息信號(hào) 層L0至Lm，來(lái)記錄或者再現(xiàn)信息信號(hào)。
[0039] 第一盤10和第二盤20的透射率是獨(dú)立的，例如小于等于20%，優(yōu)選為大于等于 5%且小于等于20%。第一盤10和第二盤20中的每一個(gè)的厚度例如是0.6mm。第一盤10 和第二盤20中的每一個(gè)的外徑（直徑）例如是120mm。第一盤10和第二盤20中的每一個(gè) 的內(nèi)徑（直徑）例如是15mm。
[0040] 下面，將依序說(shuō)明構(gòu)成光記錄介質(zhì)1的基板11和21、貼合層30、信息信號(hào)層L0至 Ln和L0至Lm、間隔層S1至Sn和S1至Sm、W及透光層12和22。
[0041] 基板
[0042] 每一基板11和21具有例如在其中屯、提供中屯、孔的盤片形狀。每一基板11和21 的主表面例如是非平坦表面，在該非平坦表面上形成信息信號(hào)層L0。將下文中，該非平坦表 面的凹入部分將被稱為岸Ld，其凸出部分將被稱為槽Gv。
[0043] 作為岸Ld和槽Gv的形狀，例子可W包括諸如螺旋形和同屯、圓該樣的各種形狀。此 夕F，岸Ld和/或槽Gv例如可W擺動(dòng)，W便穩(wěn)定線速度或者增加地址信息。
[0044] 每一基板11和21的外徑（直徑）例如選擇為120mm。每一基板11和21的內(nèi)徑 (直徑）例如選擇為15mm?；?1的厚度是在考慮到剛性的情況下選擇的，優(yōu)選為大于等 于0. 3mm且小于等于0. 545mm，更優(yōu)選為大于等于0. 445mm且小于等于0. 545mm。
[0045] 作為基板11的材料，依據(jù)成本優(yōu)選的是使用塑料樹(shù)脂。作為塑料樹(shù)脂，例如可W 使用聚碳酸醋樹(shù)脂、聚締姪樹(shù)脂或者丙締酸樹(shù)脂。
[004引貼合層
[0047] 貼合層30包含固化的紫外線固化樹(shù)脂。通過(guò)貼合層30,將第一盤10和第二盤20 相互貼合。更具體地說(shuō)，將第一盤10中的基板11和第二盤20中的基板21相互貼合，W使 得透光層10和21分別位于表面?zhèn)壬稀?br>[0048] 貼合層30的兩個(gè)表面中的紫外線固化樹(shù)脂的轉(zhuǎn)化率彼此相等或者基本上相等， 并且大于等于70%。
[0049] 貼合層30的厚度例如大于等于0. 01mm且小于等于0. 22mm。紫外線固化樹(shù)脂是自 由基聚合型紫外線固化樹(shù)脂。
[0050] 信息信號(hào)層
[0051] 如圖2所示，每一信息信號(hào)層L0至Ln具有包括上表面（第一主表面）和下表面 (第二主表面）的記錄層41、設(shè)置為鄰近記錄層41的上表面的電介質(zhì)層42、和設(shè)置為鄰近 記錄層41的下表面的電介質(zhì)層43。利用該樣一種構(gòu)成，可W改善信息信號(hào)層L0至Ln的存 儲(chǔ)可靠性。該里，所述上表面對(duì)應(yīng)于記錄層41的如下主表面，在所述主表面?zhèn)龋糜谟涗浕?者再現(xiàn)信息信號(hào)的激光照射記錄層41。下表面對(duì)應(yīng)于在與上述的用激光照射記錄層41 一 側(cè)相對(duì)的一側(cè)上的另一主表面，即基板11側(cè)的主表面。由于信息信號(hào)層L0至Lm的構(gòu)成可 W與信息信號(hào)層L0至Ln的構(gòu)成相同，因此將省略其說(shuō)明。
[005引記錄層
[0053] 作為主要構(gòu)成，每個(gè)記錄層41例如包含W氧化物、Pd氧化物和化氧化物的=元化 合物系氧化物。S元化合物系氧化產(chǎn)物中包含的W、Pd和化的比率優(yōu)選為滿足0. 17《Xi 的關(guān)系，更優(yōu)選為滿足0. 37《xi的關(guān)系，更進(jìn)一步優(yōu)選為滿足0. 37《X1. 26的關(guān)系， 最優(yōu)選為滿足0. 56《xi《1. 26的關(guān)系。利用該樣一種構(gòu)成，可W滿足對(duì)于光記錄介質(zhì)1 中的信息信號(hào)層L來(lái)講必需的特性，并可W實(shí)現(xiàn)優(yōu)秀的光透射特性。該里，作為對(duì)于光記錄 介質(zhì)1中的信息信號(hào)層L來(lái)講必需的特性，例子可W包括令人滿意的信號(hào)特性、高記錄功率 裕度、高再現(xiàn)耐久性、記錄后的透射率變化的抑制等等。
[0054] 該里，Xi是被定義為X1=a/化+0. 8c)的變量。
[00對(duì) a ;W相對(duì)于W、Pd和化之和的原子比[at% ]
[005引b ;Pd相對(duì)于W、Pd和化之和的原子比[at% ]
[0057] C;Cu相對(duì)于W、Pd和化之和的原子比[at% ]