專利名稱：光記錄再現(xiàn)裝置、光記錄再現(xiàn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過照射光來對具有多層記錄再現(xiàn)層的光記錄介質(zhì)進行信息記錄再現(xiàn)的光記錄再現(xiàn)裝置及光記錄再現(xiàn)方法。
背景技術(shù)：
在光記錄介質(zhì)的領(lǐng)域中，通過激光器光源的短波長化以及光學(xué)系統(tǒng)的高NA(數(shù)值孔徑)化，來提高記錄密度。例如在“Blu-ray Disc”(BD，藍光光盤)標準的光記錄介質(zhì)中，通過將激光器的波長設(shè)定為405nm且將數(shù)字孔徑設(shè)定為0. 85，能夠在光記錄介質(zhì)上的一層實現(xiàn)25GB容量的記錄再現(xiàn)。但是，對這些光源及光學(xué)系統(tǒng)的努力達到了臨界，要進一步增 大記錄容量則需要在光軸方向上多重記錄信息的體積記錄。例如，就BD標準的光記錄介質(zhì)而言，提出了具有8層記錄再現(xiàn)層(參照非專利文獻I)或具有6層記錄再現(xiàn)層(參照非專利文獻2)的多層光記錄介質(zhì)。進而，最近，提出了 20層ROM型光記錄介質(zhì)(參照非專利文獻3)、10 16層可寫一次型光記錄介質(zhì)(參照非專利文獻4、5、6)等技術(shù)，使得利用與BD標準相同的光學(xué)系統(tǒng)(波長及數(shù)值孔徑)來實現(xiàn)500GB左右的記錄容量的可能性逐漸變高。現(xiàn)有技術(shù)文獻非專利文獻非專利文獻I :I. Ichimura et. al. , Appl. Opt, 45,1974-1803 (2006)；非專利文獻2 K. Mishima et. al.，Proc. of SPIE, 6282，628201 (2006)；非專利文獻3 A. Mitsumori et. al.，Jpn. J. Appl. Phys.，48,03A055 (2009)；非專利文獻4 T. Kikukawa et. al.，Jpn. J. Appl. Phys. , 49,08KF01 (2010)；非專利文獻5 M. Inoue et. al.，Proc. SPIE, 7730，77300D (2010)；非專利文獻6 :M. Ogasawara et. al. ,Tech. Dig. of International Symposium onOptical Memory 2010,224(2010)。如上述技術(shù)那樣，若記錄再現(xiàn)層的層數(shù)增多，則在光記錄介質(zhì)內(nèi)的厚度方向上大范圍配置記錄再現(xiàn)層。其結(jié)果，記錄再現(xiàn)用光讀寫頭必須在厚度方向上的大范圍內(nèi)實現(xiàn)光束的聚焦，所以必須在大范圍內(nèi)設(shè)定球差的修正范圍。因此，存在如下問題光讀寫頭的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜及大型化，光讀寫頭對記錄再現(xiàn)層的尋道時間(seek time)變長。另外，若記錄再現(xiàn)層的層數(shù)增多，則光記錄介質(zhì)的容量增大，但僅憑這也不會使記錄再現(xiàn)速度提高。例如，若不提高記錄速度而僅使光記錄介質(zhì)的記錄容量增大，則會存在如下問題用戶在記錄動作中的待機時間變長，這會使用戶感到不方便。進而，在各記錄再現(xiàn)層的光學(xué)特性不同的情況下，需要與各記錄再現(xiàn)層相對應(yīng)地對光讀寫頭的記錄再現(xiàn)功率進行更細致的控制。特別是，由于記錄再現(xiàn)層的層數(shù)越多則會使光學(xué)特性的變化(variation)越增加，因而需要使光讀寫頭處于能夠輸出寬頻帶的記錄再現(xiàn)功率的狀態(tài)。結(jié)果，存在導(dǎo)致光讀寫頭一側(cè)的成本增大這樣的問題。進而，在光記錄介質(zhì)中采用多層記錄再現(xiàn)層時，若為避免層間串擾而增大記錄再現(xiàn)層的層間距離，則上述光讀寫頭的問題變得越來越顯著。尤其是，若為了避免共焦點串擾而使所有的層間距離不同，同時增加記錄再現(xiàn)層的層疊數(shù)，則需要準備各種各樣膜厚的中間層，其結(jié)果，導(dǎo)致層間距離會變大這樣的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題點而做出的，其目的在于，提供一種即使在光記錄介質(zhì)中采用多層記錄再現(xiàn)層也能夠降低激光器及光學(xué)系統(tǒng)的負擔且能夠提高傳送率的光記錄再現(xiàn)技術(shù)。本發(fā)明的發(fā)明者們通過精心研究，通過如下的手段實現(xiàn)了上述目的。S卩，用于達成上述目的的本發(fā)明是一種光記錄再現(xiàn)裝置，用于通過照射光來對具有多個記錄再現(xiàn)層的光記錄介質(zhì)進行信息的記錄再現(xiàn)，所述記錄再現(xiàn)層是預(yù)先層疊形成或事后形成的，其特征在于，具有第一光學(xué)系統(tǒng)，其對成為第一對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射 第一光束來進行信息的記錄再現(xiàn)；第二光學(xué)系統(tǒng)，其對成為第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射第二光束來進行信息的記錄再現(xiàn)。。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，進行記錄或再現(xiàn)時的所述第一光學(xué)系統(tǒng)的所述第一光束的平均出射功率與進行記錄或再現(xiàn)時的所述第二光學(xué)系統(tǒng)的所述第二光束的平均出射功率，互不相同。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述第一光學(xué)系統(tǒng)的第一光源的額定輸出與所述第二光學(xué)系統(tǒng)的第二光源的額定輸出，互不相同。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述第一光學(xué)系統(tǒng)和所述第二光學(xué)系統(tǒng)，配置在所述光記錄介質(zhì)的一個光入射面一側(cè)。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，以所述光記錄介質(zhì)的所述一個光入射面一側(cè)為基準，成為所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層配置在成為所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的內(nèi)側(cè)；進行記錄或再現(xiàn)時的所述第一光學(xué)系統(tǒng)的所述第一光束的平均出射功率，大于進行記錄或再現(xiàn)時的所述第二光學(xué)系統(tǒng)的所述第二光束的平均出射功率。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述光記錄介質(zhì)，具有多個所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層及多個所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，具有記錄再現(xiàn)控制裝置，該記錄再現(xiàn)控制裝置同時對所述第一、所述第二光學(xué)系統(tǒng)進行控制，由此同時對所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層及所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層進行信息的記錄或再現(xiàn)。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述光記錄介質(zhì)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)，實質(zhì)上互為相同。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述光記錄介質(zhì)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的材料組成及膜厚，實質(zhì)上互為相同。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述光記錄介質(zhì)至少具有兩個以上的記錄再現(xiàn)層組，所述記錄再現(xiàn)層組由按照層疊順序而連續(xù)的多個所述記錄再現(xiàn)層構(gòu)成；在所述記錄再現(xiàn)層組內(nèi)，沿從與光入射面距離近的一側(cè)開始到與該光入射面距離遠的內(nèi)側(cè)的方向，所述記錄再現(xiàn)層的疊層狀態(tài)的反射率被設(shè)定為相等或減少；所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，屬于所述兩個以上的所述記錄再現(xiàn)層組中的任一個記錄再現(xiàn)層組。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述記錄再現(xiàn)層組內(nèi)的所述記錄再現(xiàn)層的所述光學(xué)常數(shù)實質(zhì)上互為相同，并且，所述多個所述記錄再現(xiàn)層組的所述光學(xué)常數(shù)互不相同。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于第一所述記錄再現(xiàn)層組，所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于第二所述記錄再現(xiàn)層組。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于多個所述記錄再現(xiàn)層組，所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于多個所述記錄再現(xiàn)層組。 用于達成上述目的的本發(fā)明是一種光記錄再現(xiàn)方法，通過照射光來對具有多個記錄再現(xiàn)層的光記錄介質(zhì)進行信息的記錄再現(xiàn)，所述記錄再現(xiàn)層是預(yù)先層疊形成或事后形成的，其特征在于，具有第一步驟，對成為第一對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射第一光束來進行信息的記錄再現(xiàn)；第二步驟，對成為第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射第二光束來進行信息的記錄再現(xiàn)。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)方法的特征在于，以所述光記錄介質(zhì)的所述一個光入射面一側(cè)為基準，成為所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層配置在成為所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的內(nèi)側(cè)；進行記錄或再現(xiàn)時的所述第一光束的平均出射功率大于進行記錄或再現(xiàn)時的所述第二光束的平均出射功率。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)方法的特征在于，通過同時進行所述第一步驟及所述第二步驟，來同時對所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層及所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層進行信息的記錄或再現(xiàn)。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)方法的特征在于，所述光記錄介質(zhì)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)，實質(zhì)上互為相同。用于達成上述目的的上述光記錄再現(xiàn)方法的特征在于，所述光記錄介質(zhì)至少具有兩個以上的記錄再現(xiàn)層組，所述記錄再現(xiàn)層組由按照層疊順序而連續(xù)的多個所述記錄再現(xiàn)層構(gòu)成；在所述記錄再現(xiàn)層組內(nèi)，沿從與光入射面距離近的一側(cè)開始到與該光入射面距離遠的內(nèi)側(cè)的方向，所述記錄再現(xiàn)層的疊層狀態(tài)的反射率被設(shè)定為相等或減少；在所述第一步驟中進行記錄再現(xiàn)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和在所述第二步驟中進行記錄再現(xiàn)的所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，屬于所述兩個以上的所述記錄再現(xiàn)層組中的任一個記錄再現(xiàn)層組。若采用本發(fā)明，則會起到如下效果即使在光記錄介質(zhì)中采用多層記錄再現(xiàn)層，也能夠抑制進行記錄再現(xiàn)時的信號品質(zhì)惡化，進而能夠提高傳送率。


圖I是示出了本發(fā)明的第一實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置及多層光記錄介質(zhì)的整體結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖2是示出了上述光記錄再現(xiàn)裝置的第一光讀寫頭的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的框圖。圖3是示出了上述光記錄再現(xiàn)裝置的第二光讀寫頭的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的框圖。圖4是示出了上述多層光記錄介質(zhì)的疊層結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖5是示出了上述多層光記錄介質(zhì)的反射率和吸收率的圖表及曲線圖。圖6是示出了上述多層光記錄介質(zhì)的膜厚結(jié)構(gòu)的圖。圖7是為說明上述多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想而示出的再現(xiàn)光的狀態(tài)的圖。、圖8是為說明上述多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想而示出的漫射光線的狀態(tài)的圖。圖9是為說明上述多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想而示出的疊層反射率的變化的圖。圖10是為說明上述多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想而示出的疊層反射率的變化的圖。圖11是用于說明使用上述光記錄再現(xiàn)裝置來對多層光記錄介質(zhì)進行光記錄再現(xiàn)的技術(shù)的剖面圖。圖12是示出了利用高頻重疊(方式)來對激光器的功率進行控制的例子的輸出波形。圖13是為說明使用第二實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置來進行記錄再現(xiàn)的多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想而示出的疊層反射率的變化的圖。圖14是為說明上述多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想而示出的疊層反射率的變化的圖。圖15是示出了上述多層光記錄介質(zhì)的疊層結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖16是示出了上述多層光記錄介質(zhì)的反射率和吸收率的圖表及曲線圖。圖17是示出了上述多層光記錄介質(zhì)的膜厚結(jié)構(gòu)的圖。圖18A、圖18B是用于說明使用上述光記錄再現(xiàn)裝置來對多層光記錄介質(zhì)進行光記錄再現(xiàn)的技術(shù)的剖面圖。圖19A、圖19B是用于說明使用上述光記錄再現(xiàn)裝置來對多層光記錄介質(zhì)進行光記錄再現(xiàn)的技術(shù)的其他例子的剖面圖。圖20是用于說明使用上述光記錄再現(xiàn)裝置來對多層光記錄介質(zhì)進行光記錄再現(xiàn)的技術(shù)的其他例子的剖面圖。圖21是用于說明使用上述光記錄再現(xiàn)裝置來對多層光記錄介質(zhì)進行光記錄再現(xiàn)的技術(shù)的其他例子的剖面圖。圖22是用于說明使用上述光記錄再現(xiàn)裝置來對多層光記錄介質(zhì)進行光記錄再現(xiàn)的技術(shù)的其他例子的剖面圖。附圖標記的說明10、110、210、310、410 多層光記錄介質(zhì)90光記錄再現(xiàn)裝置700A第一光讀寫頭700B第二光讀寫頭7IOA第一光學(xué)系統(tǒng)710B第二光學(xué)系統(tǒng)
770A 第一光束770B 第二光束
具體實施例方式下面，參照附圖，對本發(fā)明的實施方式進行說明。在圖I中示出了第一實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置90和使用該光記錄再現(xiàn)裝置90來進行記錄再現(xiàn)的多層光記錄介質(zhì)10的結(jié)構(gòu)。該光記錄再現(xiàn)裝置90具有記錄再現(xiàn)控制裝置95、第一光讀寫頭700A及第二光讀寫頭700B。該第一、第二光讀寫頭700A、700B配置在多層光記錄介質(zhì)10的一個光入射面
IOA 一側(cè)。就這些兩個光讀寫頭700A、700B而言，通過將第一、第二光束770A、770B從該光入射面IOA照射至多層光記錄介質(zhì)10的內(nèi)部，能夠?qū)Χ鄬庸庥涗浗橘|(zhì)10的記錄再現(xiàn)層組14同時進行信息記錄或同時進行信息再現(xiàn)。在圖2及圖3中示出了第一、第二光讀寫頭700A、700B的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。此外，就第一、第二光讀寫頭700A、700B的內(nèi)部結(jié)構(gòu)而言,一部分大致相同，而一部分互不相同。因此，關(guān)于彼此相同的部件及構(gòu)件，在附圖中或文章中，對第一光讀寫頭700A的部件及構(gòu)件的附圖標記的末尾標注了 A，對第二光讀寫頭700B的部件及構(gòu)件的附圖標記的末尾標注了 B，而附圖標記的末尾之外的各位采用相同的編號。在此，對第一光讀寫頭700A的內(nèi)部結(jié)構(gòu)進行詳細的說明，而省略對第二光讀寫頭700B的說明。第一光讀寫頭700A具有第一光學(xué)系統(tǒng)710A。該第一光學(xué)系統(tǒng)710A是用于對多層光記錄介質(zhì)10的記錄再現(xiàn)層組14進行記錄及再現(xiàn)的光學(xué)系統(tǒng)。使從第一光源701A出射的波長比較短的藍色波長380 450nm(在本實施方式中為405nm)的發(fā)散的第一光束770A，透過具有球差修正單元793A的準直透鏡753A，入射至偏振分束器752A。入射至偏振分束器752A的第一光束770A，透過偏振分束器752A，進而透過1/4波片(wavelength plate) 754A時變換為圓偏振光，然后被物鏡756A變換為會聚光束。該第一光束770A能夠聚焦在形成于多層光記錄介質(zhì)10的內(nèi)部的多個記錄再現(xiàn)層組14中的任一記錄再現(xiàn)層上。被偏振分束器752A反射的第一光束770A，透過聚光透鏡759A后變換為會聚光，經(jīng)由柱面透鏡757A而入射至光檢測儀732A。在第一光束770A透過柱面透鏡757A時，該第一光束770A被賦予像散。光檢測儀732A具有未圖示的四個受光部，上述四個受光部分別輸出與接收到的光量相對應(yīng)的電流信號。根據(jù)這些電流信號來生成以下信號基于像散法的對焦誤差(下面，稱之為“FE”)信號、基于推挽法的循軌誤差(下面，稱之為“TE”)信號、記錄于多層光記錄介質(zhì)10上的信息的再現(xiàn)信號等。將FE信號及TE信號放大為所希望的電平并進行位相補償，然后反饋至致動器791A及792A，由此進行對焦控制及循軌控制。就第一光讀寫頭700A的第一光學(xué)系統(tǒng)710A的第一光束770A和第二光讀寫頭700B的第二光學(xué)系統(tǒng)710B的第二光束770B而言，記錄時的平均出射功率互不相同。同樣地，再現(xiàn)時的平均出射功率也互不相同。具體而言，將第一光束770A的記錄及再現(xiàn)時的平均出射功率設(shè)定為大于第二光束770B的記錄及再現(xiàn)時的平均出射功率。記錄再現(xiàn)控制裝置95，通過同時對第一、第二光讀寫頭700A、700B進行控制，來對記錄再現(xiàn)層進行信息記錄或從記錄再現(xiàn)層再現(xiàn)信息。例如，利用從光檢測儀732A、732B得到的對焦誤差(下面，稱之為“FE”)信號和循軌誤差(下面，稱之為“TE”)信號，來對第一、第二光讀寫頭700A、700B的致動器791A、791B及792A、792B進行反饋控制，由此進行對焦控制及循軌控制。在進行信息記錄時，一邊將預(yù)記錄信息分配給第一、第二光讀寫頭700A、700B，一邊同時從第一、第二光源701A、701B將記錄用光束照射至兩個記錄再現(xiàn)層，由此同時形成記錄標記。在進行信息再現(xiàn)時，從第一、第二光源701A、701B同時將再現(xiàn)用光束照射至兩個記錄再現(xiàn)層，由此基于同時從光檢測儀732A、732B得到的再現(xiàn)波形來生成再現(xiàn)信號。此外，在使用第一、第二光讀寫頭700A、700B來同時進行信息記錄或同時進行信息再現(xiàn)的情況下，優(yōu)選第一、第二光讀寫頭700A、700B在多層光記錄介質(zhì)10的徑向上位于相同位置。這是因為，在使多層光記錄介質(zhì)10旋轉(zhuǎn)時能夠以相同的線速度進行記錄及再現(xiàn)。因此，優(yōu)選在多層光記錄介質(zhì)10的周向上的錯開的位置(不同的相位)上配置第一、第二光讀寫頭700A、700B，由此避免第一、第二光讀寫頭700A、700B相互干涉。在圖4中放大示出了該多層光記錄介質(zhì)10的剖面結(jié)構(gòu)。該多層光記錄介質(zhì)10,具有外徑約為120_、厚度約為I. 2mm的圓盤形狀,且具有3層以上的記錄再現(xiàn)層。該多層光記錄介質(zhì)10從光入射面IOA —側(cè)起，依次具有覆蓋層11、具有10層結(jié)構(gòu)的LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J、位于該LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J·之間的中間層16A 161、支撐基板12。支撐基板12可以采用各種各樣的材料。例如可以采用玻璃、陶瓷及樹脂。從易于成型的角度來看，這些材料中優(yōu)選樹脂。樹脂可以列舉聚碳酸酯樹脂、烯烴樹脂、丙烯酸樹月旨、環(huán)氧樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、硅樹脂、氟類樹脂、ABS樹脂、聚氨酯樹脂等。從可加工性等角度來看，在這些樹脂中優(yōu)選聚碳酸酯樹脂和烯烴樹脂。此外，支撐基板12不形成光束770的光路，所以無需具有高透光性。在LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J上設(shè)有軌道間隔為0. 32um的凹槽(groove)。LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J的疊層狀態(tài)(多層光記錄介質(zhì)10的制造完成狀態(tài))的反射率(下面，稱之為“疊層反射率”)，從光入射面起，越靠近內(nèi)側(cè)則越小。即，與光入射面最近的L9記錄再現(xiàn)層14J的疊層反射率最高，而LO記錄再現(xiàn)層14A的疊層反射率最低。 作為用于實現(xiàn)如上所述的疊層反射率的膜設(shè)計，對LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J的單層狀態(tài)的光反射率及吸收率等進行了優(yōu)化，使其與光學(xué)系統(tǒng)710的藍色波長區(qū)域的光束770相對應(yīng)。在本實施方式中，將所有的LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J的各層間的光學(xué)常數(shù)設(shè)定為實質(zhì)上相同，為此將LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J的各層間的材料組成及膜厚也設(shè)定為實質(zhì)上相同。具體而言，如圖5所示，就LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J而言，單層狀態(tài)下的反射率(下面，稱之為“單層反射率”)設(shè)定為1.5%，而單層狀態(tài)下的吸收率(下面，稱之為“單層吸收率”)設(shè)定為4.5%。這樣，在本實施方式中，對LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J，設(shè)定互為大致相同的單層反射率及單層吸收率。其結(jié)果，在LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J中，疊層反射率從光入射面一側(cè)起依次單調(diào)減少。采用該膜設(shè)計的結(jié)果，能夠以大體上相同的記錄材料及膜厚來形成LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J，從而能夠大幅度消減制造成本。此外，LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J分別是在寫一次型記錄膜的兩個外側(cè)層疊了介電膜等的3 5層結(jié)構(gòu)(省略圖示)。各記錄再現(xiàn)層的介電膜，除了具有用于保護寫一次型記錄膜這樣的基本功能之外，還起到對記錄標記的形成前后的光學(xué)特性的差分進行放大以及提高記錄靈敏度的作用。此外，如果在照射了第一、第二光束770A、770B的情況下介電膜所吸收的能量大，則容易使記錄靈敏度下降。因此，為了防止發(fā)生這樣的現(xiàn)象，這些介電膜優(yōu)選在380nm 450nm(尤其是405nm)的波長區(qū)域中的具有低吸收系數(shù)(k)的材料。此外，在本實施方式中，介電膜的材料采用Ti02。位于介電膜之間的寫一次型記錄膜是用于形成不可逆的記錄標記的膜，形成有記錄標記的部分及其以外的部分(空白(blank)區(qū)域)，對于第一、第二光束770A、770B的反射率相差很大。其結(jié)果，能夠進行數(shù)據(jù)的記錄及再現(xiàn)。寫一次型記錄膜的主成分為含有Bi及0的材料。該寫一次型記錄膜作為無機反應(yīng)膜來發(fā)揮功能，激光的熱使其發(fā)生化學(xué)或物理變化，使其反射率有很大差異。就該寫一次 型記錄膜的具體的材料而言，優(yōu)選將Bi-O作為主成分，或者將Bi-M-O (其中，M為選自Mg、Ca、Y、Dy、Ce、Tb、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Fe、Zn、Al、In、Si、Ge、Sn、Sb、Li、Na、K、Sr、Ba、Sc、La、Nd、Sm、Gd、Ho、Cr、Co、Ni、Cu、Ga、Pb中的至少一種元素)作為主成分。此外，在本實施方式中，寫一次型記錄膜的材料采用Bi-Ge-0。此外，在本實施方式中，示出了 LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J采用了寫一次型記錄膜的情形，但也可以采用能夠重復(fù)記錄的相變記錄膜。在這樣的情況下的相變記錄膜優(yōu)選采用SbTeGe。如圖6所示，就本多層光記錄介質(zhì)10而言，從與光入射面IOA距離遠的一側(cè)起，依次具有第一 第九中間層16A 161。這些第一 第九中間層16A 161層疊在LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J之間。各中間層16A 161由丙烯酸類或環(huán)氧類的紫外線固化型樹 脂構(gòu)成。對這些中間層16A 161的膜厚，交替設(shè)定IOym以上的第一距離Tl和比該第一距離大3 u m以上的第二距離T2。具體而言，優(yōu)選第一距離Tl和第二距離T2具有3 y m 5um的差分,進而優(yōu)選具有4iim以上的差分。就該多層光記錄介質(zhì)10而言,第一距離Tl采用第二距離T2采用從內(nèi)側(cè)起依次是，第一中間層16A為12iim，第二中間層18B為6iim，第三中間層16C為12iim，第四中間層16D為16pm，第五中間層16E為12pm，第六中間層16F為16 y m，第七中間層16G為第八中間層16H為第九中間層161為12iim。S卩，交替層疊兩種膜厚(16umU2um)的中間層。于是，能夠降低層間串擾及共焦點串擾雙方。與中間層16A 161同樣地，覆蓋層11由透光性的丙烯酸類的紫外線固化型樹脂構(gòu)成，其膜厚設(shè)定為50iim。接著，對該多層光記錄介質(zhì)10的設(shè)計思想，概括說明記錄再現(xiàn)層的層數(shù)。就多層光記錄介質(zhì)而言，配置在記錄再現(xiàn)層之間的中間層的厚度有兩種(T1、T2)，并交替層疊了這兩種中間層。在圖7中示出了對第a個記錄再現(xiàn)層進行再現(xiàn)的情況下在該記錄再現(xiàn)層上直接反射的再現(xiàn)光(主光線)的路徑。另外，在圖8中示出了光路長度與該主光線的光路長度一致的漫射光線的路徑的一例。此外，在本實施方式中，關(guān)于構(gòu)成第k個記錄再現(xiàn)層的材料，將其單層狀態(tài)的反射率和透過率分別定義為rk、tk。若將對第a個記錄再現(xiàn)層入射了強度為“I”的再現(xiàn)光時的主光線的強度設(shè)定為Ia，而將漫射光線的強度設(shè)定為Ia’，則可用下面的第一數(shù)學(xué)式及第二數(shù)學(xué)式來表示Ia及V。第一數(shù)學(xué)式Ia= (ta+1 X ta+2 X ta+3 X X ta+n)2 X ra
第二數(shù)學(xué)式:1/= (ta+2Xta+3X. . Xta+n) Xra+1Xta+2Xra+3Xra+2X (ta+3X. . Xta
+n) = (ta+2Xta+3X. . . Xta+n)2Xra+1 Xra+2Xra+3因此，可用第三數(shù)學(xué)式表示漫射光線相對于主光線的強度比。第三數(shù)學(xué)式Ia，/Ia=(ta+2Xta+3X. . . Xta+n)2Xra+1Xra+2Xra+3/(ta+i X ta+2 X ta+3 X X ta+n) 2Xra = (ra+1 X ra+2 X ra+3) / (ta+12 X ra)如上述，由于中間層的厚度交替是兩種類的多層記錄介質(zhì),可減少對第a個記錄再現(xiàn)層的共焦點串擾的影響，即，可減少第三數(shù)學(xué)式的漫射光線的強度比，因而可知下面三個方案有效。(I)提高第a層的反射率ra。(2)降低第a+1層、第a+2層、第a+3層(與第a層的光入射面(靠近光讀寫頭的一側(cè))一側(cè)相鄰的3層)的反射率ra+1、ra+2、ra+3。(3)提高第a+1層(在第a個記錄再現(xiàn)層的光入射面一側(cè)與該第a個記錄再現(xiàn)層相鄰的I層)的透過率1+1。進而，為了在所有的記錄再現(xiàn)層上實現(xiàn)這些方案，只要對除去內(nèi)層記錄再現(xiàn)層之外的全部記錄再現(xiàn)層降低反射率而提高其透過率即可，所述內(nèi)層記錄再現(xiàn)層是指，相對于其他記錄再現(xiàn)層而不會成為靠近光入射面一側(cè)的層的記錄再現(xiàn)層，即，與光入射面距離遠的一側(cè)(內(nèi)側(cè))的記錄再現(xiàn)層。為了實現(xiàn)這個方案，從介質(zhì)設(shè)計的角度出發(fā)，極其簡便的方法是使除了最內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層之外的其余所有記錄再現(xiàn)層的單層狀態(tài)的反射率r和透過率t相同。此時，使各記錄再現(xiàn)層的反射率r低而使透過率t高。顯然，若使包括最內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層的所有記錄再現(xiàn)層的反射率r及透過率t相同，則最內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層的減少漫射光線的效果也會降低，但從介質(zhì)設(shè)計的角度出發(fā)則最簡單。如上述那樣，如果使不同的記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)一致，即，使反射率r及透過率t相同，則就多層光記錄介質(zhì)而言，可觀測到越是靠近內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層，其疊層狀態(tài)下的反射率R越低。因此，若考慮假設(shè)使所有記錄再現(xiàn)層的反射率r及透過率t相同，則就疊層反射率R而言，沿著從靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層開始到內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層的方向，疊層反射率R單調(diào)減少。此外，疊層狀態(tài)下的反射率表示，將光照射至制造完成的多層光記錄介質(zhì)的特定的記錄再現(xiàn)層時，根據(jù)入射光和反射光的比率來求出的反射率。為了使多個記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)一致，使構(gòu)成記錄再現(xiàn)層的記錄材料的組成及其膜厚一致的方法很方便。于是，從介質(zhì)設(shè)計的角度出發(fā)或從制造的角度出發(fā)都可合理地減輕負擔。結(jié)果，為了實現(xiàn)本發(fā)明的多層光記錄介質(zhì)的概念思想，優(yōu)選使構(gòu)成多個記錄再現(xiàn)層的記錄材料的組成及其膜厚相同。更為優(yōu)選的是，使包含從光入射面起最內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層的所有記錄再現(xiàn)層的材料組成和膜厚實質(zhì)上相同，結(jié)果，使光學(xué)常數(shù)也相互一致。此外，多層光記錄介質(zhì)的各記錄再現(xiàn)層的構(gòu)成和膜厚實質(zhì)上相同是指，例如使用透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope TEM)或掃描電子顯微鏡(ScanningElectron Microscope SEM),來對使用試樣超薄切片機將光盤在剖面方向上切斷的試樣的膜厚進行測定，進而使用這些顯微鏡附帶的能量散射光譜法(Energy DispersiveSpectroscopy)等來分析組成,其結(jié)果,各記錄再現(xiàn)層實質(zhì)上大體相同。若是這樣的狀態(tài)，則可認為各記錄再現(xiàn)層的材料組成和膜厚相同。顯然，作為其結(jié)果，各記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)
相互一致。但是，透過率tk是大于0且小于I的值，因此伴隨記錄再現(xiàn)層的層數(shù)n+1增加而反射光強度Ia減少。若反射光強度Ia過低，則SNR(signal-noiseratio :信號噪聲比)會變小，由此，光讀寫頭的光電檢測器的靈敏度達到臨界。原則上，該靈敏度臨界成為記錄再現(xiàn)層的層數(shù)的上限。具體而言，在設(shè)計階段，從光入射面一側(cè)起，向內(nèi)側(cè)依次層疊具有相同的光學(xué)常數(shù)的記錄再現(xiàn)層，并將層疊至能夠由光讀寫頭對其疊層反射率R進行處理的靈敏度臨界為止的層數(shù)，設(shè)定為最大的層疊數(shù)。 在圖9中示出了基于上述概念思想而構(gòu)成了多層光記錄介質(zhì)的狀態(tài)。就疊層反射率R而言，沿從位于最靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Llri層)起，途中經(jīng)由記錄再現(xiàn)層(Lk+1層、Lk層、Llri層)，而到位于最靠近內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Ltl)的方向，疊層反射率R單調(diào)減少。位于最靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Llri層)和位于最靠近內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Ltl層)的各自的疊層反射率(Rn-PRtl)的比率，取決于第一、第二光讀寫頭700A、700B能夠處理的上述反射率的動態(tài)范圍的限制。尤其在本實施方式中，由于第一、第二光讀寫頭700A.700B對不同的記錄再現(xiàn)層進行記錄再現(xiàn)，因而組合了第一讀寫頭700A的動態(tài)范圍和第二讀寫頭700B的動態(tài)范圍的綜合的動態(tài)范圍能夠擴大。結(jié)果，能夠增加記錄再現(xiàn)層的層數(shù)。此外，在圖9中例示了使所有記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)一致的概念，但也可以如圖10所示，通過對最靠近內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Ltl層)采用與其余記錄再現(xiàn)層不同的材料組成及膜厚，來使光學(xué)常數(shù)不一致。這是因為，就該Ltl層而言，由于不存在更靠近內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層，因此不需考慮光透過率。就圖4所示出的多層光記錄介質(zhì)10而言，也對與光入射面IOA最近的一側(cè)的L9記錄再現(xiàn)層14J設(shè)計特定的成膜條件，并以該L9記錄再現(xiàn)層14J為基準，從光入射面IOA起向內(nèi)側(cè)依次層疊了記錄再現(xiàn)層。記錄再現(xiàn)層的層疊數(shù)的上限優(yōu)選由下述的(I)或(2)中的任一個決定。(I)利用不會引起再現(xiàn)劣化的程度的再現(xiàn)功率來照射記錄再現(xiàn)層時，在各記錄再現(xiàn)層上被反射而返回到光檢測儀732的反射光量接近評定裝置能夠處理的臨界值。(2)與在記錄再現(xiàn)層上形成記錄標記(記錄層的變性)而所需的激光器功率的臨界值(即記錄靈敏度的臨界值)接近。即，若最靠近內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層達到這些反射光量或記錄靈敏度的臨界值，則此時的層疊數(shù)成為層疊數(shù)的上限。此外，在層疊了相同結(jié)構(gòu)的記錄再現(xiàn)層的情況下，顯然，在層疊的狀態(tài)下，從各記錄再現(xiàn)層返回到光檢測儀732的反射光量，沿從光入射面起到內(nèi)側(cè)的方向，以與記錄再現(xiàn)層的透過率的二次方形成比例的方式單調(diào)減少，進而到達各記錄再現(xiàn)層的激光器功率也以與透過率形成比例的方式而減少。接著，對該多層光記錄介質(zhì)10的制造方法進行說明。首先，通過使用金屬壓模的聚碳酸酯樹脂的注塑成型法，制作形成有凹槽(groove)及岸臺(land)的支撐基板12。此夕卜，支撐基板12的制作并不限定于注塑成型法,也可以通過2P (Photo Polymerization :光聚合)法或其他方法來制作。
然后，在支撐基板12的設(shè)有凹槽及岸臺一側(cè)的表面上形成LO記錄再現(xiàn)層14A。具體而言，通過氣相生長法，依次形成介電膜、寫一次型記錄膜、介電膜。其中，優(yōu)選使用濺射法。接著，在LO記錄再現(xiàn)層14A上形成第一中間層16A。例如通過旋涂法等來形成調(diào)好粘度的紫外線固化型樹脂的保護膜，然后通過壓模(stamper)來成型出凹槽及岸臺，然后對該紫外線固化型樹脂照射紫外線來固化，由此形成第一中間層16A。通過重復(fù)進行這樣的步驟，如LI記錄再現(xiàn)層14B、第二中間層16B、L2記錄再現(xiàn)層14C、第3中間層16C……這樣依次層疊。若完成至L9記錄再現(xiàn)層14J，則通過在該L9記錄再現(xiàn)層14J上形成覆蓋層11來完成多層光記錄介質(zhì)10。此外，例如通過旋涂法等來形成調(diào)好粘度的丙烯酸類或環(huán)氧類的紫外線固化型樹脂的膜，并對該膜照射紫外線來固化，由此形成覆蓋層11。此外，在本實施方式中對上述制造方法進行了說明，但本發(fā)明并不限定于上述制造方法，而也可以采用其他制造技術(shù)。
就該多層光記錄介質(zhì)10而言，由于LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J的疊層反射率伴隨接近靠近光入射面一側(cè)而減少，因而對特定的記錄再現(xiàn)層進行再現(xiàn)時，能夠抑制與其內(nèi)側(cè)相鄰的記錄再現(xiàn)層的反射光泄漏而混入到再現(xiàn)光中。其結(jié)果，即使減少中間層的厚度，也能夠抑制串擾，因而其結(jié)果，能夠?qū)O L9記錄再現(xiàn)層14A 14J的層疊數(shù)增加到10層。另外，在本實施方式中，由于LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J采用了相同的膜材料及膜厚，因而每個記錄再現(xiàn)層不需要多種成膜條件，從而能夠大幅度減輕設(shè)計負擔及制造負擔。其結(jié)果，LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J的光學(xué)常數(shù)可設(shè)定為實質(zhì)上相同。于是，光記錄再現(xiàn)裝置90 —側(cè)的記錄再現(xiàn)條件的偏差變小，從而能夠使記錄再現(xiàn)控制(記錄策略)變得簡單。附帶而言，若復(fù)雜交疊單層反射率/單層吸收率互不相同的各種記錄再現(xiàn)層，則由于需要靠經(jīng)驗找出最佳的記錄再現(xiàn)控制，因而相當困難。接著，對第一實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置90的光記錄再現(xiàn)方法進行說明。如圖11所示，利用光記錄再現(xiàn)裝置90的第一光讀寫頭700A的第一光束770A，對記錄再現(xiàn)層組14的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E進行記錄或再現(xiàn)。另外，利用第二光讀寫頭700B的第二光束770B，對L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J進行記錄或再現(xiàn)。此外，下面有時將利用第一光束770A來進行記錄再現(xiàn)的記錄再現(xiàn)層，稱為成為第一對象的記錄再現(xiàn)層。另外，下面有時還將利用第二光束770B來進行記錄再現(xiàn)的記錄再現(xiàn)層，稱為成為第二對象的記錄再現(xiàn)層。即，在該光記錄再現(xiàn)方法中，成為第一對象的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E和成為第二對象的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J，成為相互獨立的記錄再現(xiàn)層。尤其在本實施方式中，將多層光記錄介質(zhì)10的光入射面IOA—側(cè)作為基準，成為第一對象的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E配置為比成為第二對象的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J更靠近內(nèi)偵U。另外，利用照射至第一對象的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E上的第一光束770A來進行記錄及再現(xiàn)時的平均出射功率，大于利用照射至第二對象的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J上的第二光束770B來進行記錄及再現(xiàn)時的平均出射功率。如已經(jīng)闡述的那樣，成為第一對象的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E的材料組成及膜厚，與成為第二對象的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J的材料組成及膜厚實質(zhì)上相同。其結(jié)果，成為第一對象的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E的光學(xué)常數(shù)，與成為第二對象的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J的光學(xué)常數(shù)實質(zhì)上相同。如上所述，由于在本實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置90中相互獨立地具備第一光讀寫頭700A和第二光讀寫頭700B，因而通過將第一光束770A照射至LO記錄再現(xiàn)層14A上的同時，將第二光束770B照射至L5記錄再現(xiàn)層14F上，能夠同時進行信息記錄或信息再現(xiàn)。由此，能夠飛躍地提高記錄或再現(xiàn)時的傳輸率，因而，即使增加多層光記錄介質(zhì)10的層疊數(shù)，也能夠縮短記錄時用戶的待機時間，從而可提高感性的便利。另外，在該光記錄再現(xiàn)裝置90中，第一光讀寫頭700A對多層光記錄介質(zhì)10的位于光入射面IOA內(nèi)側(cè)的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E進行記錄再現(xiàn),而第二光讀寫頭700B對靠近自身一側(cè)的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J進行記錄再現(xiàn)。即，成為第一光讀寫頭700A的記錄再現(xiàn)對象的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E集中在多層光記錄介質(zhì)10的厚度方向上的內(nèi)側(cè)的區(qū)域X，而成為第二光讀寫頭700B的記錄再現(xiàn)對象的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J集中在多層光記錄介質(zhì)10的厚度方向上的靠近自身一側(cè)的區(qū)域Y。其結(jié)果，第 一、第二光讀寫頭700A、700B分別能夠縮小焦點的移動范圍，因而能夠收窄球差的修正范圍。其結(jié)果，不需使第一、第二光學(xué)系統(tǒng)710A，710B的結(jié)構(gòu)復(fù)雜化及巨大化。進而，能夠超過第一、第二光讀寫頭700A、700B各自的動態(tài)范圍的制約而增加記錄再現(xiàn)層的層數(shù)。即使增加記錄再現(xiàn)層的層數(shù)，也可以使第一、第二光束770A，770B的移動距離變小來實現(xiàn)其功能，因而能夠提高記錄再現(xiàn)層的選擇速度。此外，就本實施方式的多層光記錄介質(zhì)10而言，對各LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J設(shè)定相互大致相同的單層反射率及單層吸收率。其結(jié)果，在LO L9記錄再現(xiàn)層14A 14J中，疊層反射率從光入射面IOA —側(cè)起依次單調(diào)減少。于是，若以規(guī)定的疊層反射率為閾值來對記錄再現(xiàn)層進行分組，則自然將記錄再現(xiàn)層分組為在厚度方向上分開的內(nèi)側(cè)區(qū)域X和靠近光讀寫頭一側(cè)的區(qū)域Y。即，利用使多層光記錄介質(zhì)10的疊層反射率單調(diào)增減的技術(shù)，以及以該疊層反射率作為閾值而使成為該閾值以下的記錄再現(xiàn)層屬于第一對象，并使該閾值以上的記錄再現(xiàn)層屬于第二對象的記錄再現(xiàn)技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)極其合理的光記錄再現(xiàn)技術(shù)。另外，若以疊層反射率的大小為基準將記錄再現(xiàn)層分組為第一、第二對象，則能夠使必須分別與第一、第二光讀寫頭700A、700B相對應(yīng)的記錄再現(xiàn)功率的要求范圍變小，從而能夠大幅度抑制第一、第二光讀寫頭700A、700B的制造成本。具體而言，能夠?qū)⒌谝还庾x寫頭700A的第一光源701A在額定值范圍內(nèi)作為高功率輸出專用激光器使用，而將第二光讀寫頭700B的第二光源701B在額定值范圍內(nèi)作為低功率輸出專用激光器使用。并且，將利用照射至第一對象的LO L4記錄再現(xiàn)層14A 14E上的第一光束770A來進行記錄時的平均出射功率設(shè)定為高功率，將利用照射至第二對象的L5 L9記錄再現(xiàn)層14F 14J上的第二光束770B來進行記錄時的平均出射功率設(shè)定為低功率。如以往技術(shù)那樣，利用一個光源對應(yīng)從高功率到低功率的范圍，則必須采用能夠輸出高頻帶功率的昂貴的激光器。另外，在利用與高頻帶功率相對應(yīng)的激光器來照射低功率光束時，作為噪聲對策，需要進行如圖12示出那樣的高頻重疊。該高頻重疊是指這樣的技術(shù)以利用最低功率Pot的光束照射作為基礎(chǔ)，疊加數(shù)百皮秒的高功率Phiot的高頻脈沖，利用其積分平均來輸出所需的低功率P的光束。若采用該技術(shù)，則除了會導(dǎo)致激光驅(qū)動電路復(fù)雜化之外，高功率Phiot高頻脈沖還會使多層光記錄介質(zhì)10劣化。另一方面，在本實施方式中，通過將第一光源701A和第二光源701B設(shè)定為額定輸出不同的相互獨立的專用激光器，能夠不需高頻重疊的控制。接著，對第二實施方式的光記錄再現(xiàn)技術(shù)進行說明。此外，由于在該第二實施方式中使用的光記錄再現(xiàn)裝置90與第一實施方式相同，因而省略對內(nèi)部結(jié)構(gòu)的詳細說明及圖示。另一方面，由于在第二實施方式的多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想與第一實施方式不同，因而首先對第二實施方式的多層光記錄介質(zhì)的設(shè)計思想進行說明。如在上述第一實施方式的設(shè)計理論中說明的那樣，多層光記錄介質(zhì)10的透過率tk是大于0且小于I的值，因此伴隨記錄再現(xiàn)層的層數(shù)n+1的增加而反射光強度Ia減少。若反射光強度Ia過低，貝1JSNR(signal-noise ratio :信噪比)會變小，光讀寫頭的光電檢測器的靈敏度會達到臨界。因此，只要使用一種記錄再現(xiàn)層的組成及膜厚來構(gòu)成所有的記錄再現(xiàn)層，則增加記錄再現(xiàn)層的層數(shù)會達到臨界。因此，就第二實施方式的設(shè)計思想而言，首先，采用第一記錄材料和膜厚設(shè)置，來 從光入射面一側(cè)向內(nèi)側(cè)依次層疊光學(xué)常數(shù)相同的記錄再現(xiàn)層，并在其疊層反射率R達到了光讀寫頭能夠處理的下限的情況下，從下一個內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層開始改變記錄材料和膜厚(采用新的第二記錄材料和膜厚)。具體而言，使單層的反射率r比靠近光讀寫頭一側(cè)的記錄再現(xiàn)層高出規(guī)定值以上。于是，記錄再現(xiàn)層的疊層反射率R變高(轉(zhuǎn)變?yōu)樵黾?，因而光讀寫頭重新能夠進行處理。因此，利用該第二記錄材料和膜厚，進一步向內(nèi)側(cè)依次層疊記錄再現(xiàn)層，直到再次達到光讀寫頭能夠進行處理的靈敏度臨界的下限為止。通過重復(fù)該設(shè)計工序，能夠降低所有記錄再現(xiàn)層間的疊層狀態(tài)的反射率R的變動(最大值和最小值之差)，并且，能夠減少記錄再現(xiàn)層的種類(材料組成和膜厚種類)。即，在第二實施方式的光記錄再現(xiàn)方法中，采用大致相同的材料組成和膜厚，將光學(xué)常數(shù)相互一致的記錄再現(xiàn)層分組為記錄再現(xiàn)層組，并準備多個該記錄再現(xiàn)層組，來作為多層光記錄介質(zhì)。在圖13中示出了基于該方案而使用兩個記錄再現(xiàn)層組A、B來構(gòu)成多層光記錄介質(zhì)的概念。在位于最靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B中，沿從位于最靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Llri層)開始到位于最靠近內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Lk)的方向，其疊層反射率R單調(diào)減少。同樣地，在與該記錄再現(xiàn)層組B的內(nèi)側(cè)相鄰的記錄再現(xiàn)層組A中，沿從位于最靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層仏㈠層)開始到位于最內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Ltl)的方向，其疊層反射率R單調(diào)減少。進而，記錄再現(xiàn)層組A的位于光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Llri層)的疊層狀態(tài)下的反射率Rlri，被設(shè)定為大于記錄再現(xiàn)層組B的位于最內(nèi)側(cè)的兩個記錄再現(xiàn)層(Lk層、Lk+1層)的反射率Rk、Rk+1的最大值?？赏ㄟ^該反射率的逆轉(zhuǎn)現(xiàn)象來區(qū)分記錄再現(xiàn)層組A、B。換言之，只要分別在各記錄再現(xiàn)層組A、B中，將特定的記錄再現(xiàn)層的疊層狀態(tài)的反射率，設(shè)定為小于與該記錄再現(xiàn)層相鄰的更靠近光入射面一側(cè)的兩個記錄再現(xiàn)層的疊層狀態(tài)的反射率的最大值即可。例如，如圖14所示，還能夠容許如下情況，在記錄再現(xiàn)層組B中，記錄再現(xiàn)層(Lk+1)的疊層狀態(tài)的反射率Rk+1，大于與該記錄再現(xiàn)層(Lk+1)相鄰的靠近光入射面一側(cè)的一個記錄再現(xiàn)層(Lk+2)的疊層狀態(tài)的反射率Rk+2，并且，小于與該記錄再現(xiàn)層(Lk+1)隔著一層相鄰的靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Lk+3)的疊層狀態(tài)的反射率Rk+3。若是這樣的狀態(tài)，則在記錄再現(xiàn)層組B中，即使有些增減，也能夠使整體的疊層反射率為減少傾向。
另外，若Lk層和Llri層的反射率Rk和Rlri之差過大，則對反射率低的Lk層進行對焦伺服時，會受到Llri層的反射的影響而常常變得難以控制。具體而言，從對Lk層進行對焦伺服的角度出發(fā)，優(yōu)選Rk_jPRk的比率在3 I以內(nèi)，即，優(yōu)選R1ZRlriS (1/3)，更優(yōu)選在
2 I以內(nèi)。為了實現(xiàn)上述方案，優(yōu)選將記錄再現(xiàn)層組A的位于光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Llri層)的反射率Rlri，設(shè)定為與記錄再現(xiàn)層組B的位于最靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層(Llri層)的反射率Rlri相同程度的反射率，或?qū)⑵湓O(shè)定為小于該反射率Rlrit5另外，Lk層的疊層狀態(tài)的反射率Rk，優(yōu)選設(shè)定為光記錄再現(xiàn)裝置能夠容許的范圍內(nèi)的最低值。由此，能夠使最靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B包含較多的記錄再現(xiàn)層。另外，根據(jù)在第一實施方式中示出的第一數(shù)學(xué)式的主光線的反射光量Ia可知，由于在靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B中能夠使疊層反射率的單調(diào)減少量(曲線圖中的傾斜度)變小，因而能夠增加屬于該記錄再現(xiàn)層組B中的記錄再現(xiàn)層的層數(shù)。同樣地，針對Ltl層的 反射率Rtl,能夠采用小于R1^1的任意的值，但與Rk同樣地，優(yōu)選設(shè)定為光記錄再現(xiàn)裝置能夠容許的范圍內(nèi)的最低值。其結(jié)果，在記錄再現(xiàn)層組A中，也能夠增加記錄再現(xiàn)層的層數(shù)。其結(jié)果，對于包含在記錄再現(xiàn)層組A、B中的記錄再現(xiàn)層的層數(shù)，優(yōu)選使與光入射面距離近的一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B中所含的層數(shù)更大。屬于與入射面遠的一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組A的記錄再現(xiàn)層的單層反射率r，被設(shè)定為大于屬于記錄再現(xiàn)層組B的記錄再現(xiàn)層的單層反射率r。若重復(fù)說明，則根據(jù)第一數(shù)學(xué)式的主光線的反射光量Ia可知，內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層組A中所含的記錄再現(xiàn)層的反射光量的減少量，即疊層反射率的單調(diào)減少量(圖13、圖14中的曲線圖的傾斜度)，大于靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B中所含的記錄再現(xiàn)層的疊層反射率的單調(diào)減少量。即，內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層組A中所含的記錄再現(xiàn)層的疊層反射率變動，大于靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B中所含的記錄再現(xiàn)層的疊層反射率變動。在這樣的狀況下，為了在所有記錄再現(xiàn)層間減少疊層反射率的變動，優(yōu)選使反射率變動小的靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B包含盡量多的層數(shù)。若采用上面的方案，則重要的是，在記錄再現(xiàn)層組A、B中，通過對靠近光入射面一側(cè)的記錄再現(xiàn)層組B中所含的所有記錄再現(xiàn)層的疊層反射率的最大值和最小值之差進行比較，來使內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層組A中所含的所有記錄再現(xiàn)層的疊層反射率的最大值和最小值之差變小。在圖15、圖16及圖17中示出了基于上述第二實施方式的設(shè)計思想而具體構(gòu)成具有多個記錄再現(xiàn)層組的多層光記錄介質(zhì)110例子。此外，關(guān)于在下面的說明中使用的構(gòu)件的附圖標記，使其后兩位數(shù)字與已經(jīng)在第一實施方式中示出的多層光記錄介質(zhì)10的說明中使用的附圖標記相一致，省略其詳細說明。就該多層光記錄介質(zhì)110而言，從光入射面的內(nèi)側(cè)開始，依次層疊了 16層的LO L15記錄再現(xiàn)層114A 114P。另外，在這些LO L15記錄再現(xiàn)層114A 114P之間，層疊了第一 第一五中間層116A 1160。并且，該多層光記錄介質(zhì)110具有第一、第二記錄再現(xiàn)層組113A、113B。第一、第二記錄再現(xiàn)層組113AU13B，分別具有按照層疊順序而連續(xù)的多個記錄再現(xiàn)層，在從與光入射面距離近的一側(cè)開始向與光入射面距離遠的內(nèi)側(cè)的方向上，各記錄再現(xiàn)層的疊層反射率相同或遞減。具體而言，第一記錄再現(xiàn)層組113A是具有LO L4記錄再現(xiàn)層114A 114E的5層結(jié)構(gòu)，而第二記錄再現(xiàn)層組113B是具有L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P的11層結(jié)構(gòu)。內(nèi)側(cè)的第一記錄再現(xiàn)層組113A的記錄再現(xiàn)層的層數(shù)被設(shè)定為小于靠近光入射面一側(cè)的第二記錄再現(xiàn)層組113B的記錄再現(xiàn)層的層數(shù)。在各記錄再現(xiàn)層組113AU13B中，將屬于這些各記錄再現(xiàn)層組的記錄再現(xiàn)層的疊層反射率，設(shè)定為小于在光入射面一側(cè)與該記錄再現(xiàn)層相鄰的兩個記錄再現(xiàn)層的疊層反射率的最大值。例如，在第一記錄再現(xiàn)層組113A中，LI記錄再現(xiàn)層114B的疊層反射率，被設(shè)定為小于在光入射面一側(cè)與該LI記錄再現(xiàn)層114B相鄰的兩個L2、L3記錄再現(xiàn)層114C、114D的疊層反射率中的最大值(兩個值中大的一方)。此外，若限定在第一記錄再現(xiàn)層組113A中，則L3記錄再現(xiàn)層114D在光入射面一側(cè)僅與一個L4記錄再現(xiàn)層114E相鄰。因此，L3記錄再現(xiàn)層114D的疊層反射率被設(shè)定為小于L4記錄再現(xiàn)層114E的疊層反射率。只要各記錄再現(xiàn)層組113A、113B滿足這樣的條件，則在各記錄再現(xiàn)層組113AU13B中，能夠在從光入射面起向內(nèi)側(cè)的方向上，在容許疊層反射率有些增減的同時，使一邊使疊層反射率減少。
這樣，在各記錄再現(xiàn)層組113A、113B中，能夠使各記錄再現(xiàn)層的疊層反射率向內(nèi)側(cè)的方向而成為減少傾向，因而在對特定的記錄再現(xiàn)層進行再現(xiàn)時，能夠抑制與該特定的記錄再現(xiàn)層相鄰的內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層的反射光泄漏混入到再現(xiàn)光中。其結(jié)果，即使減少中間層的厚度也能夠抑制串擾，因而能夠增加記錄再現(xiàn)層組113AU13B中的記錄再現(xiàn)層的層疊數(shù)。該第一記錄再現(xiàn)層組113A和第二記錄再現(xiàn)層組113B，隔著中間層而相鄰。關(guān)于該相鄰的記錄再現(xiàn)層組113AU13B，與成為靠近光入射面一側(cè)的第二記錄再現(xiàn)層組113B的最內(nèi)側(cè)的兩層(即，L5記錄再現(xiàn)層114F和L6記錄再現(xiàn)層114G)的疊層反射率的最大值(在這里是L6記錄再現(xiàn)層114G的疊層反射率)相比，內(nèi)側(cè)的記錄再現(xiàn)層組113A的最靠近光入射面一側(cè)的L4記錄再現(xiàn)層114E的疊層反射率更高。即，若從光入射面一側(cè)起依次觀察，則從L15記錄再現(xiàn)層114P起到L5記錄再現(xiàn)層114F為止,按照層疊順序而疊層反射率減小，但是L4記錄再現(xiàn)層114E的層疊反射率轉(zhuǎn)變?yōu)橹辽俅笥诳拷馊肷涿嬉粋?cè)與其相鄰的兩層的疊層反射率，其后再次按照層疊順序，到LO記錄再現(xiàn)層114A為止疊層反射率減小。另外，在這些記錄再現(xiàn)層組113AU13B之間，與靠近光入射面一側(cè)的第二記錄再現(xiàn)層組113B中所含的所有L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P的疊層反射率的最大值相t匕,包含內(nèi)側(cè)的第一記錄再現(xiàn)層組113A中所含的所有LO L4記錄再現(xiàn)層114A 114E的疊層反射率的最大值被設(shè)定為與上述最大值(所有L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P的疊層反射率的最大值)相同或小于上述最大值。具體而言，與第二記錄再現(xiàn)層組113B中的最靠近光入射面一側(cè)的L15記錄再現(xiàn)層114P的疊層反射率相比，第一記錄再現(xiàn)層組113A中的最靠近光入射面一側(cè)的L4記錄再現(xiàn)層114E的疊層反射率被設(shè)定為與上述疊層反射率(L15記錄再現(xiàn)層114P的疊層反射率)相同或小于該疊層反射率。作為用于實現(xiàn)這樣的疊層反射率的膜設(shè)計，如圖16所示，針對屬于第一記錄再現(xiàn)層組113A的LO L4記錄再現(xiàn)層114A 114E，將單層狀態(tài)下的反射率(下面，稱之為“單層反射率”)設(shè)定為第一單層反射率，將單層狀態(tài)下的吸收率(下面，稱之為“單層吸收率”)設(shè)定為第一單層吸收率。具體而言，第一單層反射率被設(shè)定為1.5%，而第一單層吸收率被設(shè)定為6. 9%。另外，關(guān)于位于與光入射面一側(cè)近的一側(cè)的第二記錄再現(xiàn)層組113B，針對屬于該第二記錄再現(xiàn)層組113B的L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P，設(shè)定比第一單層反射率及第一單層吸收率小的第二單層反射率及第二單層吸收率。具體而言，第二單層反射率設(shè)定為0. 7 %，而第二單層吸收率設(shè)定為4. 5 %。在該多層光記錄介質(zhì)110中，對第一記錄再現(xiàn)層組113A的LO L4記錄再現(xiàn)層114A 114E，設(shè)定互為大致相同的單層反射率及單層吸收率；另外，對第二記錄再現(xiàn)層組113B的L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P，設(shè)定互為大致相同的單層反射率及單層吸收率。其結(jié)果，第一記錄再現(xiàn)層組113A和第二記錄再現(xiàn)層組113B，均設(shè)定為從光入射面一側(cè)起疊層反射率依次單調(diào)減小。另一方面，在第一記錄再現(xiàn)層組113A和第二記錄再現(xiàn)層組113B中，單層反射率及單層吸收率等光學(xué)常數(shù)被設(shè)定為互不相同。具體而言，與第二記錄再現(xiàn)層組113B相比，第一記錄再現(xiàn)層組113A的單層反射率更高。結(jié)果，與L5記錄再現(xiàn)層114F的疊層反射率相比，則L4記錄再現(xiàn)層114E的疊層反射率更高。另外，就該多層光記錄介質(zhì)110而言，在記錄再現(xiàn)層組113A、113B之間，與靠近光入射面一側(cè)的第二記錄再現(xiàn)層組113B中所含的所有L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P的疊層反射率的最大值和最小值之差相比，內(nèi)側(cè)的第一記錄再現(xiàn)層組113A中所含的所有LO L4記錄再現(xiàn)層114A 114E的疊層反射率的最大值和最小值之差更小。如圖17所示，對中間層116A 1160的膜厚，交替設(shè)定IOiim以上的第一距離Tl (12 u m)和比該第一距離大3 iim以上的第二距離T2(16iim)。在該多層光記錄介質(zhì)110中，按照從內(nèi)側(cè)起依次為第一中間層116八為1611111、第二中間層1168為12^!11、第三中間層116C為16iim、第四中間層116D為12iim、第五中間層116E為16iim、第六中間層116F為
12u m> ......的順序，交替層疊兩種膜厚(16 ii m, 12 ii m)的中間層。進而，就多層光記錄介質(zhì)110而言，位于第一記錄再現(xiàn)層組113A和第二記錄再現(xiàn)層組113B之間的第五中間層116E，被設(shè)定為膜厚大的第二距離12(16^!11)。因此，就該第五中間層116E而言，其膜厚被設(shè)定為大于隔著L4記錄再現(xiàn)層114E或L5記錄再現(xiàn)層114F而與該第五中間層116E的兩側(cè)相鄰的第四中間層116D及第六中間層116F的膜厚。如已上述，在L4記錄再現(xiàn)層114E和L5記錄再現(xiàn)層114F之間，由于內(nèi)側(cè)的L4記錄再現(xiàn)層114E的疊層反射率變高(逆轉(zhuǎn))而容易產(chǎn)生層間串擾。因此，通過增大介于該L4記錄再現(xiàn)層114E和L5記錄再現(xiàn)層114F之間的第五中間層116E的膜厚，來降低層間串擾。就該多層光記錄介質(zhì)110而言，如第一、第二記錄再現(xiàn)層組113A、113B那樣，以分兩個以上的組的方式而設(shè)計疊層反射率，其結(jié)果，與光入射面最近的L15記錄再現(xiàn)層114P以及與光入射面最遠的LO記錄再現(xiàn)層114A的疊層反射率之差變小。具體而言，關(guān)于所有的LO L15記錄再現(xiàn)層114A 114P，將其中最大的疊層反射率控制在最小的疊層反射率的5倍以內(nèi)。優(yōu)選控制在4倍以內(nèi)，且希望控制在3倍以內(nèi)。實際上，盡管是16層結(jié)構(gòu)，也能夠控制為小于4倍。這在各記錄再現(xiàn)層組113A、113B中也相同。另外，通過采用該疊層結(jié)構(gòu)，能夠?qū)盈B相同膜材料及膜厚的記錄再現(xiàn)層來形成各記錄再現(xiàn)層組113AU13B，因而能夠大幅度降低設(shè)計負擔及制造負擔。另外，就光記錄再現(xiàn)裝置90而言，由于也層疊大體上相同特性的記錄再現(xiàn)層來形成各記錄再現(xiàn)層組113A、113B,因而記錄再現(xiàn)條件的偏差變小，從而能夠使記錄再現(xiàn)控制簡單。即，若使設(shè)計簡單，則制造也變得簡單，其結(jié)果，能夠形成多層光記錄介質(zhì)的品質(zhì)穩(wěn)定并且記錄再現(xiàn)控制簡單這樣的良性循環(huán)。
接著，對使用本第二實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置90來對該多層光記錄介質(zhì)110進行記錄再現(xiàn)的方法進行說明。如圖18B所示，利用該光記錄再現(xiàn)裝置90的第一光讀寫頭700A的第一光束770A，來對第一記錄再現(xiàn)層組113A(L0 L4記錄再現(xiàn)層114A 114E)進行記錄或再現(xiàn)。另外，利用第二光讀寫頭700B的第二光束770B，來對第二記錄再現(xiàn)層組113B (L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P)進行記錄或再現(xiàn)。即，在本實施方式中，第一記錄再現(xiàn)層組113A相當于利用第一光束770A來進行記錄再現(xiàn)的第一對象記錄再現(xiàn)層，第二記錄再現(xiàn)層組113B相當于利用第二光束770B來進行記錄再現(xiàn)的第二對象記錄再現(xiàn)層。其結(jié)果，作為第一對象的第一記錄再現(xiàn)層組113A和作為第二對象的第二記錄再現(xiàn)層組113B，成為不同的記錄再現(xiàn)層，并且，以光入射面IlOA —側(cè)為基準，作為第一對象的第一記錄再現(xiàn)層組113A配置在比作為第二對象的第二記錄再現(xiàn)層組113B更靠近內(nèi)側(cè)的一側(cè)。、如已經(jīng)闡述的那樣，第一光束770A的進行記錄時的平均出射功率，大于第二光束770B的進行記錄時的平均出射功率。因此，就本實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置90的記錄再現(xiàn)方法而言，將第一光束770A照射至第一記錄再現(xiàn)層組113A的同時，將第二光束770B照射至第二記錄再現(xiàn)層組113B，由此能夠同時進行信息記錄或信息再現(xiàn)。由此，能夠飛躍性提高記錄或再現(xiàn)時的傳輸率。進而，第一光讀寫頭700A只要使第一光束770A聚焦在配置在多層光記錄介質(zhì)110的厚度方向上的內(nèi)側(cè)的區(qū)域X內(nèi)的第一記錄再現(xiàn)層組113A上即可，第二光讀寫頭700B只要使第二光束770B聚焦在配置在多層光記錄介質(zhì)110的厚度方向上靠近光入射面一側(cè)的區(qū)域Y內(nèi)的第二記錄再現(xiàn)層組113B上即可。其結(jié)果，第一、第二光讀寫頭700A、700B分別能夠縮小焦點的移動范圍，因而能夠收窄球差的修正范圍。另外，就本實施方式的多層光記錄介質(zhì)110而言，對屬于使用第一光讀寫頭700A來進行記錄再現(xiàn)的第一記錄再現(xiàn)層組113A中全部LO L4記錄再現(xiàn)層114A 114E,設(shè)定了大致相同的單層反射率及單層吸收率。另外，對屬于使用第二光讀寫頭700B來進行記錄再現(xiàn)的第二記錄再現(xiàn)層組113B中的全部L5 L15記錄再現(xiàn)層114F 114P,設(shè)定了相互大致相同的單層反射率及單層吸收率。其結(jié)果，如圖18A所示，在成為第一光讀寫頭700A的記錄再現(xiàn)對象(第一對象)的第一記錄再現(xiàn)層組113A中，從光入射面IlOA—側(cè)起，疊層反射率依次單調(diào)減少。同樣的，在成為第二光讀寫頭700B的記錄再現(xiàn)對象(第二對象)的第二記錄再現(xiàn)層組113B中，也從光入射面IlOA—側(cè)起，疊層反射率一側(cè)單調(diào)減少。這樣，只要與按照層疊順序而單調(diào)變動的疊層反射率相對應(yīng)地，對第一、第二光讀寫頭700A、700B各自的記錄再現(xiàn)功率進行控制即可，因而能夠使進行記錄再現(xiàn)時的功率控制變得簡單。此外，如圖16所示，第一記錄再現(xiàn)層組113A的疊層反射率的變化幅度與第二記錄再現(xiàn)層組113B的疊層反射率的變化幅度，比較接近。因此，在第一記錄再現(xiàn)層組113A成為第一對象記錄再現(xiàn)層且第二記錄再現(xiàn)層組113B成為第二對象記錄再現(xiàn)層的情況下，第一光源701A和第二光源701B優(yōu)選采用相同的激光器。另一方面，例如在圖19B中例示那樣，也可以與第一記錄再現(xiàn)層組113A和第二記錄再現(xiàn)層組113B的分割狀態(tài)無關(guān)地，根據(jù)所有LO L15記錄再現(xiàn)層114A 114P的疊層反射率的順序，來分組為成為第一對象SI的記錄再現(xiàn)層和成為第二對象S2的記錄再現(xiàn)層。具體而言，在這里，如圖19A所示，按以下方式進行分組將疊層反射率小于0. 35%的記錄再現(xiàn)層設(shè)定為第一對象SI，將疊層反射率在0. 35%以上的記錄再現(xiàn)層設(shè)定為第二對象S2。具體而言，屬于第一記錄再現(xiàn)層組113A的L0、LI、L2記錄再現(xiàn)層114A、114B、114C和屬于第二記錄再現(xiàn)層組113B的L5、L7、L8記錄再現(xiàn)層114F、114G、114H成為第一對象SI，而屬于第一記錄再現(xiàn)層組113A的L3、L4記錄再現(xiàn)層114D、114E和屬于第二記錄再現(xiàn)層組113B的L9 L15記錄再現(xiàn)層1141 114P成為第二對象S2。即，成為第一對象SI的記錄再現(xiàn)層屬于多個記錄再現(xiàn)層組113AU13B，且成為第二對象S2的記錄再現(xiàn)層也屬于多個記錄再現(xiàn)層組113AU13B。從層疊順序考慮，第一對象SI的記錄再現(xiàn)層和第二對象S2的記錄再現(xiàn)層成為交替排列的狀態(tài)。如圖19A、19B所示，若按照疊層反射率的順序來分組為第一對象SI、第二對象S2，則與第一實施方式同樣地，由于使用第一光讀寫頭700A來對疊層反射率平均值低的記錄再現(xiàn)層進行記錄再現(xiàn)，因而第一光源701A能夠作為高功率專用激光器使用。另外，由于使用第二光讀寫頭700B來對疊層反射率平均值高的記錄再現(xiàn)層進行記錄再現(xiàn)，因而第二光源701B能夠作為低功率專用激光器使用。
·
S卩，由于第一、第二光讀寫頭700A、700B分擔所被要求的動態(tài)范圍，其結(jié)果，能夠·增大位于最靠近光入射面一側(cè)的L15記錄再現(xiàn)層114P的疊層反射率(R15)和位于最靠近內(nèi)側(cè)的LO記錄再現(xiàn)層114A的疊層反射率(Rtl)之間的比率。此外，在該第二實施方式中，例示了具有兩組從光入射面一側(cè)起按照層疊順序使疊層反射率變低的記錄再現(xiàn)層組的結(jié)構(gòu)，來作為多層光記錄介質(zhì)110，但優(yōu)選具有三個以上的這樣的記錄再現(xiàn)層組的結(jié)構(gòu)。另外，例示了通過使各記錄再現(xiàn)層組的成膜條件一致來使疊層反射率單調(diào)減少的情況，但也可以不一定使記錄再現(xiàn)層組中的記錄再現(xiàn)層的成膜條件相互一致。假如在不使成膜條件一致的情況下，只要容許各記錄再現(xiàn)層組中的疊層反射率的有些增減，并在整體上使疊層反射率成為減少傾向即可。具體而言，將特定的記錄再現(xiàn)層的疊層反射率，設(shè)定為小于與該特定的記錄再現(xiàn)層的光入射面一側(cè)相鄰的兩個記錄再現(xiàn)層的疊層反射率的最大值。例如，只要將L5記錄再現(xiàn)層114F的疊層反射率設(shè)定為，小于與該L5記錄再現(xiàn)層114F的光入射面一側(cè)相鄰的L6及L7記錄再現(xiàn)層114GU14H的疊層反射率的最大值(L6及L7記錄再現(xiàn)層114G、114H的疊層反射率中的大的疊層反射率)(這里是L7記錄再現(xiàn)層114H)即可。進而，在上述第一、第二實施方式中，例示了多層光記錄介質(zhì)的各記錄再現(xiàn)層上形成有凹槽及岸臺的情況，但本發(fā)明并不限定于此。例如，如在圖20中放大示出的多層光記錄介質(zhì)210那樣，也可以具備無循軌控制用凹凸的記錄再現(xiàn)層組214和有循軌控制用凹凸或溝槽的伺服層219。在該情況下，通過在第一、第二光讀寫頭700A、700B上分別安裝循軌用光學(xué)系統(tǒng)，能夠一邊將循軌專用光束270A、270B照射至伺服層219上進行循軌，一邊照射第一、第二光束770A、770B來對記錄再現(xiàn)層組214進行記錄再現(xiàn)。顯然，也可以在第一、第二光讀寫頭700A、700B上不安裝循軌用光學(xué)系統(tǒng)，而是例如在使用第一光讀寫頭700A來進行記錄再現(xiàn)時，使用第二光讀寫頭700B照射伺服層219來進行循軌控制。同樣地，也可以在使用第二光讀寫頭700B來進行記錄再現(xiàn)時，使用第一光讀寫頭700A來照射伺服層219而進行循軌控制。
另外，在圖20中，示出了預(yù)先形成有記錄再現(xiàn)層組的情形，但本發(fā)明并不限定于此。例如，如在圖21中示出的多層光記錄介質(zhì)310那樣，也能夠使將來可能會成為記錄再現(xiàn)層組的部位整體，形成為具有規(guī)定厚度的整層313 (bulk layer)。若將記錄用光束770A、770B照射至該整層313，則僅在光束光斑的焦點部分發(fā)生狀態(tài)變化而形成記錄標記。S卩，多層光記錄介質(zhì)的記錄再現(xiàn)層還包括如下情形在整層313的平面區(qū)域，隨時形成記錄標記，并通過該記錄標記的集合體來事后形成多個記錄再現(xiàn)層314A 314J。另外，就本實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置90而言，示出了多層光記錄介質(zhì)10、110的一個表面一側(cè)配置了第一、第二光讀寫頭700A、700B的情形，但本發(fā)明并不限定于此。例如,如圖22所不,也可以將第一光讀寫頭700A配置在多層光記錄介質(zhì)410的一個表面410一側(cè)，而將第二光讀寫頭700B配置在多層光記錄介質(zhì)410的另一表面410B —側(cè)。此時，優(yōu)選將成為第一對象SI的多個記錄再現(xiàn)層414A 414E配置在多層光記錄介質(zhì)410的一個表面410A —側(cè)，而將成為第二對象S2的多個記錄再現(xiàn)層414F 414J配置在多層光記錄介質(zhì)410的另一表面410B —側(cè)。另外，就本實施方式的光記錄再現(xiàn)裝置90而言，示出了由記錄再現(xiàn)控制裝置95同時對第一、第二光讀寫頭700A、700B進行控制，由此對多個記錄再現(xiàn)層同時進行信息記錄或從多個記錄再現(xiàn)層同時進行信息再現(xiàn)的情形，但本發(fā)明并不限定于此，也可以分別獨立地使第一、第二光讀寫頭700A、700B進行動作而分別獨立地進行記錄再現(xiàn)。此外，本發(fā)明的光記錄再現(xiàn)裝置、光記錄再現(xiàn)方法并不限定于上述實施方式，而顯然能夠在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)實施各種各樣的變更。
本發(fā)明的光記錄再現(xiàn)裝置、光記錄再現(xiàn)方法，能夠廣泛應(yīng)用于具備多個記錄再現(xiàn)層的各種光記錄介質(zhì)。
權(quán)利要求
1.一種光記錄再現(xiàn)裝置，用于通過照射光來對具有多個記錄再現(xiàn)層的光記錄介質(zhì)進行信息的記錄再現(xiàn)，所述記錄再現(xiàn)層是預(yù)先層疊形成或事后形成的，其特征在于， 具有: 第一光學(xué)系統(tǒng)，其對成為第一對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射第一光束來進行信息的記錄再現(xiàn)； 第二光學(xué)系統(tǒng)，其對成為第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射第二光束來進行信息的記錄再現(xiàn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 進行記錄或再現(xiàn)時的所述第一光學(xué)系統(tǒng)的所述第一光束的平均出射功率，與進行記錄或再現(xiàn)時的所述第二光學(xué)系統(tǒng)的所述第二光束的平均出射功率，互不相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述第一光學(xué)系統(tǒng)的第一光源的額定輸出與所述第二光學(xué)系統(tǒng)的第二光源的額定輸出，互不相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述第一光學(xué)系統(tǒng)和所述第二光學(xué)系統(tǒng)，配置在所述光記錄介質(zhì)的一側(cè)光入射面一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 以所述光記錄介質(zhì)的所述一側(cè)光入射面一側(cè)為基準，成為所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層配置在成為所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的內(nèi)側(cè)； 進行記錄或再現(xiàn)時的所述第一光學(xué)系統(tǒng)的所述第一光束的平均出射功率，大于進行記錄或再現(xiàn)時的所述第二光學(xué)系統(tǒng)的所述第二光束的平均出射功率。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)，分別具有多個所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層及多個所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層。
7.根據(jù)權(quán)利要求I至6中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 具有記錄再現(xiàn)控制裝置，該記錄再現(xiàn)控制裝置同時對所述第一、所述第二光學(xué)系統(tǒng)進行控制，同時對所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層及所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層進行信息的記錄或再現(xiàn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至7中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)，實質(zhì)上互為相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求I至7中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的材料組成及膜厚，實質(zhì)上互為相同。
10.根據(jù)權(quán)利要求I至7中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)至少具有兩個以上的記錄再現(xiàn)層組，所述記錄再現(xiàn)層組由按照層疊順序而連續(xù)的多個所述記錄再現(xiàn)層構(gòu)成； 在所述記錄再現(xiàn)層組內(nèi)，沿從與光入射面距離近的一側(cè)開始到與該光入射面距離遠的內(nèi)側(cè)的方向，所述記錄再現(xiàn)層的疊層狀態(tài)的反射率被設(shè)定為相等或減少；所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，屬于所述兩個以上的所述記錄再現(xiàn)層組中的任一個記錄再現(xiàn)層組。
11.根據(jù)權(quán)利要求10記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述記錄再現(xiàn)層組內(nèi)的所述記錄再現(xiàn)層的所述光學(xué)常數(shù)實質(zhì)上互為相同，并且，多個所述記錄再現(xiàn)層組的所述光學(xué)常數(shù)互不相同。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于第一所述記錄再現(xiàn)層組，所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于第二所述記錄再現(xiàn)層組。
13.根據(jù)權(quán)利要求10或11記載的光記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于， 所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于多個所述記錄再現(xiàn)層組，所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層屬于多個所述記錄再現(xiàn)層組。
14.一種光記錄再現(xiàn)方法，通過照射光來對具有多個記錄再現(xiàn)層的光記錄介質(zhì)進行信息的記錄再現(xiàn)，所述記錄再現(xiàn)層是預(yù)先層疊形成或事后形成的，其特征在于， 具有 第一步驟，對成為第一對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射第一光束來進行信息的記錄再現(xiàn)； 第二步驟，對成為第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，照射第二光束來進行信息的記錄再現(xiàn)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14記載的光記錄再現(xiàn)方法，其特征在于， 以所述光記錄介質(zhì)的所述一側(cè)光入射面一側(cè)為基準，成為所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層配置在成為所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的內(nèi)側(cè)； 進行記錄或再現(xiàn)時的所述第一光束的平均出射功率大于進行記錄或再現(xiàn)時的所述第二光束的平均出射功率。
16.根據(jù)權(quán)利要求14或15記載的光記錄再現(xiàn)方法，其特征在于， 通過同時進行所述第一步驟及所述第二步驟，來同時對所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層及所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層進行信息的記錄或再現(xiàn)。
17.根據(jù)權(quán)利要求14至16中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)方法，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層的光學(xué)常數(shù)，實質(zhì)上互為相同。
18.根據(jù)權(quán)利要求14至17中的任一項記載的光記錄再現(xiàn)方法，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)至少具有兩個以上的記錄再現(xiàn)層組，所述記錄再現(xiàn)層組由按照層疊順序而連續(xù)的多個所述記錄再現(xiàn)層構(gòu)成； 在所述記錄再現(xiàn)層組內(nèi)，沿從與光入射面距離近的一側(cè)開始到與該光入射面距離遠的內(nèi)側(cè)的方向，所述記錄再現(xiàn)層的疊層狀態(tài)的反射率被設(shè)定為相等或減少； 在所述第一步驟中進行記錄再現(xiàn)的所述第一對象的所述記錄再現(xiàn)層和在所述第二步驟中進行記錄再現(xiàn)的所述第二對象的所述記錄再現(xiàn)層，屬于所述兩個以上的所述記錄再現(xiàn)層組中的任一個記錄再現(xiàn)層組。
全文摘要
提供光記錄再現(xiàn)裝置及光記錄再現(xiàn)方法，即使在光記錄介質(zhì)中采用多層記錄再現(xiàn)層，也能夠抑制進行記錄再現(xiàn)時的信號品質(zhì)惡化。進而能夠提高傳送率。光記錄再現(xiàn)裝置(90)具有第一光學(xué)系統(tǒng)和第二光學(xué)系統(tǒng)，在通過照射光來對具有多個記錄再現(xiàn)層(14)的光記錄介質(zhì)(10)進行信息記錄再現(xiàn)時，第一光學(xué)系統(tǒng)通過對成為第一對象的記錄再現(xiàn)層(14A～14E)照射第一光束(770A)來進行信息記錄再現(xiàn)，第二光學(xué)系統(tǒng)通過對成為第二對象的所述記錄再現(xiàn)層(14F～14J)照射第二光束(770B)來進行信息的記錄再現(xiàn)，并且，所述記錄再現(xiàn)層(14)是預(yù)先層疊形成或事后形成的。
文檔編號G11B7/24GK102708898SQ201210065799
公開日2012年10月3日 申請日期2012年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月9日
發(fā)明者丑田智樹, 井上素宏, 小須田敦子, 菊川隆 申請人:Tdk股份有限公司