專利名稱：雙層光盤及其記錄/再現(xiàn)光盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及利用非常小的光斑(optical spot)記錄或再現(xiàn)數(shù)據(jù)的記錄/再現(xiàn)光盤裝置(記錄型光盤裝置)，以及與該記錄型光盤裝置一起使用的雙層光盤。
背景技術(shù)：
在利用非常小的光斑記錄或再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光盤領(lǐng)域，除了在其上預(yù)先形成有模壓的數(shù)據(jù)凹坑陣列的只再現(xiàn)光盤ROM(只讀存儲器)介質(zhì)外，能夠記錄數(shù)據(jù)的光盤如CD-R(可記錄致密盤)和DVD-R(可記錄數(shù)字通用盤)已被廣泛使用。另外，可重寫記錄的數(shù)據(jù)的CD-RW(可重寫CD)和DV D-RW(可重寫DVD)也已被使用。此外，已經(jīng)開發(fā)了作為下一代DVD的可以利用藍(lán)光記錄的光盤格式，稱作HD DVD-R。在本說明書中，可以記錄或重寫數(shù)據(jù)的光盤通稱為記錄型光盤。
在記錄型光盤上，用于跟蹤的螺旋溝槽軌道(或者說預(yù)刻槽)被形成在光盤基板上，并且由包括有機材料的多層薄膜形成的記錄層被形成在具有螺旋溝槽軌道的光盤基板上。數(shù)據(jù)是這樣的記錄的，即通過將高功率激光束匯聚到記錄層上并使記錄層部分變形，從而形成記錄凹坑。在記錄之后，由于利用與ROM介質(zhì)相同的數(shù)據(jù)格式可以獲得具有與其上形成有模壓的數(shù)據(jù)凹坑陣列的ROM介質(zhì)類似的特性的伺服信號，所以具有可以利用只再現(xiàn)驅(qū)動設(shè)備來容易地執(zhí)行再現(xiàn)的優(yōu)點。
此外，近來，在這種記錄型光盤中，已開發(fā)并制造了這樣的光盤介質(zhì)，其通過形成雙記錄層，并且在同一基板入射表面上記錄或從該入射表面再現(xiàn)，從而增大了記錄容量。例如，在DVD-R中，已制造出了這種雙層介質(zhì)。
在只再現(xiàn)ROM介質(zhì)中，同樣在DVD-R中，雙層光盤已被廣泛的制造出。然而，為了使記錄光盤能夠具有雙層，必須要解決它們的特有的問題。
具體而言，如圖7所示，雙層光盤具有兩個記錄表面，稱作第零記錄層和第一記錄層。利用激光束對這兩個記錄層的訪問是分別從入射表面4執(zhí)行的。當(dāng)對相對遠(yuǎn)離入射表面4的第一記錄層執(zhí)行記錄時，匯聚光束總是穿過第零記錄層。然后，在第零記錄層的未記錄部分5和已記錄部分6中，一般來說，透射率是不同的。因此，如果通過第零層的未記錄部分和已記錄部分對第一記錄層執(zhí)行記錄操作，則將到達第一記錄層的匯聚光束的功率在記錄期間會改變，脫離最優(yōu)狀況，并且難以在良好狀況下進行記錄。
為了解決該問題，在日本未審查專利申請公開No.10-26957中描述了一種方法，該方法在第一記錄層的全部都被記錄后，才執(zhí)行對第零記錄層的記錄，從而使得總是在相同的條件下執(zhí)行對第一記錄層的記錄。
此外，對于DVD-R的雙層介質(zhì)，當(dāng)在第一記錄層上執(zhí)行數(shù)據(jù)記錄時，該記錄是通過第零記錄層的處于已記錄狀態(tài)的部分執(zhí)行的。
在在第零記錄層上的記錄是在全部第一記錄層已被記錄后才執(zhí)行的方法中，必須分別向兩個記錄層中的每一層提供用于記錄控制的控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域，該控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域一般設(shè)置在光盤的內(nèi)周部分，因此處理被復(fù)雜化。此外，整個雙層光盤的記錄狀態(tài)不能通過僅再現(xiàn)記錄層之一的控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域來檢查。
在數(shù)據(jù)被記錄到第一記錄層上時，在記錄總是通過第零記錄層的已記錄部分被執(zhí)行的格式中，在設(shè)置在光盤的內(nèi)周部分或外周部分的用于優(yōu)化和檢查記錄條件的測試區(qū)中，因為相應(yīng)的第零記錄層不總是被記錄，所以必須利用通過在未記錄狀態(tài)中的測試記錄檢查得到的最優(yōu)記錄條件來估計已記錄部分中的最優(yōu)記錄條件。
此外，如果兩個記錄層之間的間隔變窄，則可能發(fā)生下述其他問題。
即，如圖8所示，記錄或再現(xiàn)是通過匯聚激光束(用實線示出)而在一個記錄層上執(zhí)行的，來自另一個記錄層的反射作為相干光(用虛線示出)返回到用于記錄或再現(xiàn)的光頭。在圖8中，在右側(cè)示出了激光束被匯聚到第零記錄層的情形，在基本中間和左側(cè)示出了激光束被匯聚到第一記錄層的情形。
在激光束被匯聚到第零記錄層時，來自第一記錄層的相干光變?yōu)榕c虛匯聚點出現(xiàn)在后側(cè)距離為記錄層之間的間隔兩倍的位置的情形中相同的反射光，而當(dāng)激光束被匯聚到第一記錄層時，來自第零記錄層的相干光變?yōu)榕c虛匯聚點出現(xiàn)在前側(cè)距離為記錄層之間的間隔兩倍的位置的情形中相同的反射光。
如果記錄層之間的間隔較寬，則由于這些相干光可以被認(rèn)為是來自遠(yuǎn)離實際匯聚點的虛匯聚點的反射光，所以到達光頭中的光電探測器的相干光的百分比較小，并且基本上不成問題。但是，如果記錄層之間的間隔變窄，從而到達光電探測器的相干光量變?yōu)橄喈?dāng)可觀的水平，則會發(fā)生問題。一個顯著的問題是在反射光是在已記錄部分6和未記錄部分5之間的邊沿部分處產(chǎn)生的情形中(圖中右側(cè)示出的)匯聚光束的兩個位置。在這種情形中，在相干光中產(chǎn)生了光功率不平衡。在用于記錄型光盤的光頭中采用了推挽法，在該方法中，從預(yù)刻槽產(chǎn)生的反射光的橫截面中的不平衡被探測為跟蹤誤差信號。因此，如果光頭接收到不平衡的相干光，則是跟蹤誤差信號的偏移的可能性較高。如果這種偏移量變顯著，則記錄操作和再現(xiàn)操作都不能穩(wěn)定地實現(xiàn)。
相干光的這種不平衡不僅可能在已記錄部分和未記錄部分之間的邊界處產(chǎn)生，而且也可以在通常在用于控制信息記錄的光盤內(nèi)周部分上設(shè)置的只再現(xiàn)的凹坑區(qū)域3和未記錄區(qū)域5之間的邊界處產(chǎn)生(圖中的左側(cè)的匯聚光束位置)。
如上所述，已知的記錄型光盤具有以下問題對控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的處理被復(fù)雜化，并且為了獲知記錄狀態(tài)，必須訪問兩個記錄層的控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域。另外，其他已知記錄型光盤具有必須估計最優(yōu)記錄條件的問題。此外，已知記錄型光盤還有記錄層之間的間隔變得越窄，相干光影響越大的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個目的是提供減少了上述問題的光盤和光盤裝置。
根據(jù)本發(fā)明一個方面，提供了一種具有兩層記錄層的雙層光盤，在所述記錄層上形成有可記錄螺旋軌道，并且所述記錄層上的記錄或再現(xiàn)是從同一入射表面透過透明基板執(zhí)行的；從每個記錄層的內(nèi)周一側(cè)到外周一側(cè)，軌道被劃分成內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域、用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域；并且內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域中的每一個都分別具有用于檢查該區(qū)域內(nèi)的記錄條件的測試區(qū)。所述雙層光盤在與每個測試區(qū)所在的記錄層不同的記錄層上具有保護區(qū)，該保護區(qū)的內(nèi)周一端和外周一端的地址設(shè)置位置是這樣的在內(nèi)周一側(cè)和外周一側(cè)，所述內(nèi)周一端和外周一端的地址設(shè)置位置與所述測試區(qū)的內(nèi)周一端和外周一端的地址位置分開的間隔大于等于預(yù)定間距值。
根據(jù)本發(fā)明另一個方面，在該雙層光盤中，所述保護區(qū)是其上記錄有啞數(shù)據(jù)的區(qū)域或者其上未形成記錄數(shù)據(jù)的區(qū)域，并且設(shè)置在靠近所述入射表面的記錄層上的所述保護區(qū)是用于記錄啞數(shù)據(jù)的區(qū)域。
根據(jù)本發(fā)明另一個方面，提供了一種具有兩層記錄層的雙層光盤，在所述記錄層上形成有可記錄螺旋軌道，并且所述記錄層上的記錄或再現(xiàn)是從同一入射表面透過透明基板執(zhí)行的；從每個記錄層的內(nèi)周一側(cè)到外周一側(cè)，軌道被劃分成只再現(xiàn)凹坑區(qū)域、未記錄區(qū)域、內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域。在每個記錄層上的邊界A和邊界B的兩個邊界設(shè)置地址位置是這樣設(shè)置的在內(nèi)周一側(cè)和外周一側(cè)，所述兩個邊界設(shè)置地址位置與不同記錄層上的邊界A、邊界B和邊界C的三個邊界設(shè)置地址位置分開的間隔大于等于預(yù)定間距值，其中所述邊界A是所述未記錄區(qū)域和所述內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域之間的邊界，所述邊界B是所述內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和所述用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域之間的邊界，而所述邊界C是所述只再現(xiàn)凹坑區(qū)域和所述未記錄區(qū)域之間的邊界。
根據(jù)本發(fā)明另一個方面，在該雙層光盤中，所述兩層記錄層之間的間隔小于40μm，并且用于在所述光盤上記錄數(shù)據(jù)或再現(xiàn)來自所述光盤的數(shù)據(jù)的光頭的NA小于等于0.65。
根據(jù)本發(fā)明另一個方面，提供了一種記錄/再現(xiàn)光盤裝置，用于對具有兩層記錄層的光盤執(zhí)行記錄或再現(xiàn)，在所述記錄層上形成有可記錄螺旋軌道，并且所述記錄層上的記錄或再現(xiàn)是從同一入射表面透過透明基板執(zhí)行的。每個記錄層上的記錄操作或再現(xiàn)操作是這樣執(zhí)行的，即通過區(qū)分一個地址相對于形成在不同記錄層上的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界的地址位置的距離是在預(yù)定間距值內(nèi)還是在預(yù)定間距值外。
根據(jù)本發(fā)明另一個方面，提供了一種具有兩層記錄層的雙層光盤，在所述記錄層上設(shè)置有用于檢查記錄條件的測試區(qū)。在所述記錄層之一上設(shè)置有保護區(qū)，以便與設(shè)置在另一個記錄層上的測試區(qū)相對應(yīng)，并且所述保護區(qū)的內(nèi)周一端被布置在比所述測試區(qū)的內(nèi)周一端更內(nèi)周一側(cè)，兩個內(nèi)周一端之間的間隔大于等于預(yù)定間距值，并且所述保護區(qū)的外周一端被布置在比所述測試區(qū)的外周一端更外周一側(cè)，兩個外周一端之間的間隔大于等于所述預(yù)定間距值。
根據(jù)本發(fā)明，在記錄層之間具有狹窄間隔的雙層記錄型光盤中，可以實現(xiàn)穩(wěn)定的記錄和再現(xiàn)操作。


圖1是示出了本發(fā)明被應(yīng)用到的記錄型光盤的平面圖；圖2是用于解釋本發(fā)明原理的圖示；圖3是示出了記錄層間隔和相干光量之間的關(guān)系的測量結(jié)果的曲線圖；圖4是示出了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的光盤的格式示例的圖示；圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明第二實施例的光盤的格式示例的圖示；圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明第三實施例的記錄/再現(xiàn)光盤裝置的配置的圖示；圖7是用于解釋已知雙層光盤的問題的圖示；以及圖8是用于解釋已知雙層光盤的其他問題的圖示。
具體實施例方式
現(xiàn)在參考下面的附圖描述根據(jù)本發(fā)明的光盤和光盤裝置。
圖1是示出了本發(fā)明被應(yīng)用到的光盤的示例的圖示。在光盤1上，形成有螺旋記錄軌道2。在記錄軌道2的內(nèi)周區(qū)域中，可以形成只再現(xiàn)凹坑區(qū)域3。具有這種記錄軌道的兩個記錄層形成在與圖中的表面垂直的方向上，并且其表面按從離入射表面較近一側(cè)開始的順序被稱作第零記錄層和第一記錄層。在雙層記錄型光盤中，通常使用這樣的記錄格式從第零記錄層的內(nèi)周一側(cè)向外周一側(cè)執(zhí)行記錄，并且在第一記錄層中從外周一側(cè)向內(nèi)周一側(cè)執(zhí)行記錄。然而，本發(fā)明不限于這種格式，并且記錄方向也可以與這種格式不同。
本發(fā)明最大的特征在于在一個記錄層上記錄或者一個記錄層的再現(xiàn)是通過避開另一層的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界(下文簡稱為邊界)來執(zhí)行的。因此，需要計算兩個記錄層的地址位置的相對精度，并且確定防止受一個記錄層的邊界影響所必須的某一間距值。
每個記錄層上的記錄軌道都被劃分成預(yù)定長度的單元，并且特定的地址被賦予每個單元。根據(jù)該設(shè)計，第零記錄層的記錄軌道的中心和第一記錄層的記錄軌道的中心彼此對應(yīng)，并且在兩個記錄層中相同的地址被賦予到中心距離相等的軌道區(qū)域。因此，首先，根據(jù)設(shè)計應(yīng)當(dāng)有相同地址的第零記錄層的軌道位置和第一記錄層的軌道位置之間的相對差值被估計出，以發(fā)現(xiàn)在實際光盤上該相對差值是多少度。
圖2是示出了根據(jù)設(shè)計應(yīng)當(dāng)有相同地址(相同半徑)的第零記錄層的軌道和第一記錄層的軌道之間的關(guān)系的示例的圖示。用于確定預(yù)定間距值的第一因素是軌道半徑的相對位移量|R0-R1|＝Rr，該量被假設(shè)相同。相對位移量Rr是根據(jù)制造精度計算出的，例如該值為約40μm。
用于確定預(yù)定間距值的第二因素是偏心率。在雙層光盤中，通常為每個記錄層設(shè)置不同的偏心量容許上限。例如，第零記錄層的上限為40μmp-p，第一記錄層的上限為60μmp-p。在這種情形中，兩個記錄層的軌道之間的最大相對偏心位移量Re為(40+60)/2＝50μm。因此，在上面的數(shù)值示例中，徑向方向上兩個軌道之間的最大位移量為90μm。
然后，估計出在光線被匯聚到一個記錄層上的情形中在另一個記錄層的表面處(在圖8中，如果激光束被匯聚到第零記錄層上，則是第一記錄層的下表面，而如果激光束被匯聚到第一記錄層上，則是第零記錄層的下表面)的反射光(相干光)的半徑Rb。例如，如果假設(shè)記錄層之間的間隔為30μm，并且匯聚光束的數(shù)值孔徑NA為0.65，記錄層之間的材料的折射系數(shù)為1.5，則Rb＝約15μm。然而，實際上，在具有圓形橫截面的匯聚光束的外圍部分照射在另一個記錄層的邊界部分上時，對檢測信號的影響比較小，并且試驗證實考慮理論半徑的約三分之二就足夠了。因此，在這種子數(shù)值示例中，半徑Rb為10μm。
最后，三個值的和Rr+Re+Rb就是預(yù)定的間距，并且在上述數(shù)值示例中，該值為100μm。即，當(dāng)一個記錄層的邊界在地址處時，如果在內(nèi)圓周或外圓周的方向上地址被分開大于或等于間距值＝100μm，則來自另一個記錄層上的邊界的影響可以被忽略。
在匯聚光束被形成在一個記錄層上的情形中，來自另一個記錄層的相干光的影響隨著記錄層之間的間隔變窄而變得更顯著。這是因為匯聚光束的焦點和相干光的明顯匯聚點彼此趨近。此外，因為即使記錄層之間的間隔相同，如果匯聚光束的發(fā)散角較小，即，要被匯聚的透鏡的數(shù)值孔徑NA變小，由光頭接收到的相干光量也會增加，因此影響增大。
在圖3中，利用一般條件下的光頭實際測量要被探測的相干光量，在該一般條件中，光頭中的接收來自光盤的反射光的光電探測器的光接收部件的尺寸對應(yīng)于10×10μm，該尺寸被換算為光盤上的匯聚光束的會聚點。匯聚透鏡的NA為0.65。如果層間隔變?yōu)樾∮?0μm，則要被探測的相干光量超過允許的相干光量。該允許的相干光量表示可以發(fā)現(xiàn)跟蹤誤差信號沒有顯著改變的狀況。產(chǎn)生相干光的層的反射系數(shù)是焦點在其上的層的反射系數(shù)的兩倍。反射系數(shù)差值是在雙層光盤的一般格式中所允許的最大值。
結(jié)果，在記錄層間隔小于等于40μm的光盤中，不能忽略來自邊界的相干光。在本發(fā)明中，通過采用上述間距值，可以減小記錄層間隔的大小的影響。此外，如果匯聚透鏡的數(shù)值孔徑NA變更小，則相干光量總體上趨向增加。然而，由于同樣的原因，可以減小匯聚透鏡的數(shù)值孔徑NA的大小的影響。因此，本發(fā)明對于具有小于等于40μm的記錄層間隔的光盤是有效的。對于NA小于等于0.65的系統(tǒng)本發(fā)明也是有效的。
參考圖4，該圖描述了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的光盤的格式布置的示例。在圖4中，左側(cè)是光盤的內(nèi)周一側(cè)，右側(cè)是光盤的外周一側(cè)。
在每個記錄層中，從內(nèi)周一側(cè)開始，其被劃分成內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域、用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域。
第零記錄層的內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域具有空白區(qū)13、保護區(qū)10、測試區(qū)11和其他記錄區(qū)12。其他記錄區(qū)12具有用于適當(dāng)?shù)赜涗涥P(guān)于正被記錄的地址位置的控制信息等的部分。第一記錄層的內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域具有空白區(qū)13、測試區(qū)11和保護區(qū)10。
第零記錄層的外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域具有保護區(qū)10、測試區(qū)11和空白區(qū)13。第一記錄層的外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域具有保護區(qū)10、測試區(qū)11和空白區(qū)13。保護區(qū)10是用于記錄啞數(shù)據(jù)(dummy data)的區(qū)域，空白區(qū)13是不執(zhí)行記錄的區(qū)域。保護區(qū)10和空白區(qū)13共同之處在于保護區(qū)10和空白區(qū)13都不具有已記錄部分和未記錄部分之間的邊界。因此，空白區(qū)13可以被認(rèn)為是一種保護區(qū)。
在上面的布置中，在一個記錄層的與另一個記錄層的設(shè)置了測試區(qū)11的位置相對應(yīng)的位置處，總是設(shè)置比測試區(qū)11更寬的保護區(qū)10或空白區(qū)13。即，與每個測試區(qū)11相對應(yīng)的保護區(qū)10或空白區(qū)13的內(nèi)周一端被布置在內(nèi)側(cè)，其位置與相應(yīng)測試區(qū)的內(nèi)周一端的位置相比大于或等于上述預(yù)定間距值。此外，與每個測試區(qū)11相對應(yīng)的保護區(qū)10或空白區(qū)13的外周一端被布置在外側(cè)，其位置與相應(yīng)測試區(qū)的外周一端的位置相比大于或等于上述預(yù)定間距值。圖中所示的兩個記錄層之間的雙向箭頭表示與測試區(qū)11相比大于預(yù)定間距值的距離。
根據(jù)圖4所示的記錄格式，即使第零記錄層和第一記錄層中的任何測試區(qū)被使用，都可以在不受另一個記錄層的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界的影響的情況下工作。
此外，在第一記錄層的測試區(qū)11被使用之前，如果完成了第零記錄層的保護區(qū)10上的記錄，則可以優(yōu)化通過已記錄的第零記錄層的記錄條件。即，當(dāng)在用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上執(zhí)行記錄時，如果在第零記錄層上的記錄完成后執(zhí)行第一記錄層上的記錄，則可以利用測試區(qū)11在與第一記錄層的用戶記錄區(qū)域上的記錄情形中相同的條件下執(zhí)行測試。
測試區(qū)11可以具有用于由盤制造商執(zhí)行產(chǎn)品檢驗的記錄區(qū)。在該記錄區(qū)上的記錄之后，光盤具有了部分已記錄部分。如果記錄區(qū)較大，與現(xiàn)有技術(shù)中相同，會發(fā)生由于已記錄部分和未記錄部分之間的邊界導(dǎo)致的問題。然而，如果記錄區(qū)塊的寬度被設(shè)置為例如小于等于匯聚光束直徑的10％，則可以基本上忽略另一個記錄表面上的相干光的改變。因此，即使在用戶使用光盤之前僅該記錄區(qū)已被記錄也不會有問題。在上述數(shù)值示例中，徑向方向上記錄區(qū)的寬度可以被限制為小于等于3μm。
在圖4所示的情形中，光盤具有從內(nèi)周到外周的區(qū)域布置，并且利用下面的記錄過程，數(shù)據(jù)在第零記錄層上是從內(nèi)周向外周順序記錄在用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上的，而在第一記錄層上是從外周向內(nèi)周順序記錄在用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上的，從而可以在不受邊界影響的情況下執(zhí)行穩(wěn)定的記錄。
首先，在第零記錄層的內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的測試區(qū)11中執(zhí)行對記錄條件的優(yōu)化。然后，必要的控制信息被記錄到其他記錄區(qū)12中。然后，啞數(shù)據(jù)被記錄到內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的保護區(qū)10上。最后，沿朝向外周的方向在用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上順序執(zhí)行記錄。在記錄期間，如果必要的話，在內(nèi)周或外周的測試區(qū)11中執(zhí)行記錄條件測試，或者在其他記錄區(qū)12上執(zhí)行控制數(shù)據(jù)的額外記錄。
在第零記錄層的用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上的所有記錄都完成后，啞數(shù)據(jù)被記錄到第零記錄層的外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的保護區(qū)10上。在該狀態(tài)中，第一次開始在第一記錄層進行記錄。然后，因為第一記錄層的內(nèi)周或外周的測試區(qū)已是可通過第零記錄層的已記錄部分進行記錄的，所以可以在任意時刻執(zhí)行第一記錄層的記錄條件測試。此外，在第一記錄層的用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上，類似地，可以執(zhí)行通過第零記錄層的已記錄部分的記錄。
在上述過程之后，啞數(shù)據(jù)被記錄到第一記錄層的外周的保護區(qū)上，然后沿朝向內(nèi)周的方向順序執(zhí)行用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上的記錄。在記錄期間，如果必要的話，可以在其他記錄區(qū)12上記錄額外的控制信息。
在第一記錄層上的所有用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域都被記錄后，執(zhí)行記錄后處理。
首先，使第零記錄層的內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域中的測試區(qū)11的剩余部分和其他記錄區(qū)12的全部(或者幾乎全部)未記錄部分成為已記錄狀態(tài)。然后，啞數(shù)據(jù)被記錄到第一記錄層的內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的保護區(qū)10上，此后，過程結(jié)束。
在上述記錄過程中，一個記錄層上的記錄總是在確保距離另一個記錄層的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界預(yù)定間距值的情況下被執(zhí)行的，并且可以實現(xiàn)穩(wěn)定的記錄。
在其他記錄區(qū)12中，一部分可以留作未記錄狀態(tài)。在這種情形中，如果在徑向方向上未記錄區(qū)域的寬度足夠窄，并且在設(shè)置了用于光盤制造商的記錄區(qū)的情形中，則對另一個記錄層的記錄操作沒有影響。
參考圖5描述根據(jù)本發(fā)明第二實施例的光盤的格式布置。如同圖4所示一樣，在圖5中，左側(cè)是光盤的內(nèi)周一側(cè)，右側(cè)是外周一側(cè)。
在圖5中，每個記錄層從內(nèi)周一側(cè)開始具有只再現(xiàn)凹坑區(qū)域、未記錄區(qū)域、內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域。
一個記錄層的兩個邊界，即，未記錄區(qū)域和內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域之間的邊界A、內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域之間的邊界B，被布置為具有距另一個記錄層的三個邊界大于等于預(yù)定間距值的余量，這三個邊界值即邊界A、邊界B和只再現(xiàn)凹坑區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的邊界C。只再現(xiàn)凹坑區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的邊界C與已記錄區(qū)域和未記錄區(qū)域之間的邊界一樣，對另一個記錄層上的記錄或另一個記錄層的再現(xiàn)產(chǎn)生負(fù)面影響。
圖中所示的記錄層之間的雙向箭頭表示在考慮間距值的情況下的距離。通過如此考慮，并且利用圖5所示記錄格式，可以在不受相干光對跟蹤誤差的影響的情況下執(zhí)行記錄或再現(xiàn)。
圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明第三實施例的記錄/再現(xiàn)光盤裝置的結(jié)構(gòu)示例的視圖。
該光盤裝置具有驅(qū)動機構(gòu)60、信號檢測電路61、地址確定電路62和光頭位置控制電路63。驅(qū)動機構(gòu)60具有用于驅(qū)動光盤1旋轉(zhuǎn)的主軸20，以及用于將信息寫到光盤上和讀取記錄的信息的光頭21。
光盤裝置利用光頭21將信號記錄到安置到主軸20的雙層光盤1上，或者再現(xiàn)信號。來自光頭21的再現(xiàn)信號通過信號檢測電路61被發(fā)送到地址確定電路62，然后匯聚光束的當(dāng)前地址位置被檢測出。利用這種操作，確定出匯聚光束是在間距值內(nèi)還是間距值外，其中在間距值外，匯聚光束受到來自與當(dāng)前正在訪問的記錄層不同的記錄層的匯聚光束的相干光的影響，從而確定出必要的操作，然后光頭位置控制電路63對光頭21執(zhí)行位置控制。
如果將被訪問的區(qū)域?qū)?yīng)于另一個記錄層的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界并且該區(qū)域跨越該邊界，則在該邊界附近，通過利用無需以推挽信號使用跟蹤伺服的方法執(zhí)行訪問，可以實現(xiàn)穩(wěn)定的操作。
如果必須在一個記錄部分的邊界上方探測來自相應(yīng)區(qū)域中的另一已記錄部分的信號，則利用與推挽法不同的方法執(zhí)行跟蹤，例如，相位差探測方法是有利的，在該方法中，反射光的不平衡的影響也較小。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置能夠通過以下方式來執(zhí)行每個記錄層上的記錄或再現(xiàn)操作，從而能夠執(zhí)行穩(wěn)定的記錄或再現(xiàn)操作通過限定一個地址相對于形成在另一記錄層上的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界的地址位置是否在預(yù)定間距值內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種具有兩層記錄層的雙層光盤，在所述記錄層上形成有可記錄螺旋軌道，并且所述記錄層上的記錄或再現(xiàn)是從同一入射表面透過透明基板執(zhí)行的；從每個記錄層的內(nèi)周一側(cè)到外周一側(cè)，軌道被劃分成內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域、用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域；并且內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和外周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域中的每一個都分別具有用于檢查所述區(qū)域內(nèi)的記錄條件的測試區(qū)；其中，所述雙層光盤在與每個測試區(qū)所在的記錄層不同的記錄層上具有保護區(qū)，該保護區(qū)的內(nèi)周一端和外周一端的地址設(shè)置位置是這樣的在內(nèi)周一側(cè)和外周一側(cè)，所述內(nèi)周一端和外周一端的地址設(shè)置位置與所述測試區(qū)的內(nèi)周一端和外周一端的地址位置分開的間隔大于等于預(yù)定間距值。
2.如權(quán)利要求1所述的雙層光盤，其中，所述保護區(qū)是其上記錄有啞數(shù)據(jù)的區(qū)域或者其上未形成記錄數(shù)據(jù)的區(qū)域，并且設(shè)置在靠近所述入射表面的記錄層上的所述保護區(qū)是用于記錄啞數(shù)據(jù)的區(qū)域。
3.一種具有兩層記錄層的雙層光盤，在所述記錄層上形成有可記錄螺旋軌道，并且所述記錄層上的記錄或再現(xiàn)是從同一入射表面透過透明基板執(zhí)行的；從每個記錄層的內(nèi)周一側(cè)到外周一側(cè)，軌道被劃分成只再現(xiàn)凹坑區(qū)域、未記錄區(qū)域、內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域；其中，在每個記錄層上的邊界A和邊界B的兩個邊界設(shè)置地址位置是這樣設(shè)置的在內(nèi)周一側(cè)和外周一側(cè)，所述兩個邊界設(shè)置地址位置與不同記錄層上的邊界A、邊界B和邊界C的三個邊界設(shè)置地址位置分開的間隔大于等于預(yù)定間距值，其中所述邊界A是所述未記錄區(qū)域和所述內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域之間的邊界，所述邊界B是所述內(nèi)周控制數(shù)據(jù)記錄區(qū)域和所述用戶數(shù)據(jù)記錄區(qū)域之間的邊界，而所述邊界C是所述只再現(xiàn)凹坑區(qū)域和所述未記錄區(qū)域之間的邊界。
4.如權(quán)利要求1或3所述的雙層光盤，其中，所述兩層記錄層之間的間隔小于40μm，并且用于在所述光盤上記錄數(shù)據(jù)或再現(xiàn)來自所述光盤的數(shù)據(jù)的光頭的NA小于等于0.65。
5.一種記錄/再現(xiàn)光盤裝置，用于對具有兩層記錄層的光盤執(zhí)行記錄或再現(xiàn)，在所述記錄層上形成有可記錄螺旋軌道，并且所述記錄層上的記錄或再現(xiàn)是從同一入射表面透過透明基板執(zhí)行的；其中每個記錄層上的記錄操作或再現(xiàn)操作是這樣執(zhí)行的，即通過區(qū)分一個地址相對于形成在不同記錄層上的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界的地址位置的距離是在預(yù)定間距值內(nèi)還是在預(yù)定間距值外。
6.一種具有兩層記錄層的雙層光盤，在所述記錄層上設(shè)置有用于檢查記錄條件的測試區(qū)；其中，在所述記錄層之一上設(shè)置有保護區(qū)，以便與設(shè)置在另一個記錄層上的所述測試區(qū)相對應(yīng)；并且其中，所述保護區(qū)的內(nèi)周一端被布置在比所述測試區(qū)的內(nèi)周一端更內(nèi)周一側(cè)，兩個內(nèi)周一端之間的間隔大于等于預(yù)定間距值，并且所述保護區(qū)的外周一端被布置在比所述測試區(qū)的外周一端更外周一側(cè)，兩個外周一端之間的間隔大于等于所述預(yù)定間距值。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種能夠在不受另一個記錄層影響的情況下實現(xiàn)穩(wěn)定的記錄和再現(xiàn)的雙層記錄型光盤，以及用于該雙層記錄型光盤的光盤裝置。在該光盤的各個區(qū)域的布局中，形成在一個記錄層上的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界的位置是這樣設(shè)置的，即使得該位置相對于形成在另一記錄層上的已記錄部分和未記錄部分之間的邊界的位置總是相距某個預(yù)定間距量。此外，到遠(yuǎn)離入射表面的記錄層的測試記錄或數(shù)據(jù)記錄總是通過較近記錄層上的已記錄部分執(zhí)行的。
文檔編號G11B20/12GK1941102SQ20061012756
公開日2007年4月4日 申請日期2006年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月12日
發(fā)明者山中豐, 大久保修一, 渡部一雄, 柏原裕, 小川昭人 申請人:日本電氣株式會社, 株式會社東芝