專利名稱：盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種盤裝置，用于從例如CD(高密度盤)和DVD(數(shù)字化多用盤)的盤中讀取或者向其寫入等。特別地，本發(fā)明涉及一種可以操作來(lái)限制由于電動(dòng)機(jī)旋轉(zhuǎn)而引起盤浮動(dòng)的盤裝置。
背景技術(shù)：
已知的盤裝置在安裝的盤以高速進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，依靠光拾取器從例如CD和DVD的盤中讀取或者向其寫入?？繆A持裝置將盤置于轉(zhuǎn)臺(tái)上并且可以依靠轉(zhuǎn)臺(tái)電動(dòng)機(jī)在轉(zhuǎn)臺(tái)上轉(zhuǎn)動(dòng)。
在這樣的盤裝置中，當(dāng)盤以8,000rpm或者更高的高速度旋轉(zhuǎn)的時(shí)候，盤面附近的空氣也旋轉(zhuǎn)，并且由于離心力而從盤的內(nèi)部流向外部。這樣的氣流使得盤內(nèi)部上方的空氣壓力降低，從而迫使盤在轉(zhuǎn)臺(tái)上浮動(dòng)。使得盤浮動(dòng)的力大于夾持機(jī)構(gòu)的夾持力會(huì)迫使盤克服夾持力而從轉(zhuǎn)臺(tái)上釋放出來(lái)。
已經(jīng)公開(kāi)了避免這種盤浮動(dòng)的技術(shù)，例如在日本的未審專利公開(kāi)No.2001-250301中。圖14中示出了該文件中公開(kāi)的覆蓋盤裝置外殼的頂板(防護(hù)元件)102。圖14示出了面朝著盤2上表面的頂板102的表面。頂板102具有幾個(gè)從盤內(nèi)部向盤外部的弧形突起元件104。突起元件104迫使空氣從盤外部向內(nèi)部流動(dòng)，限制內(nèi)部上方空氣壓力的降低，從而限制盤的浮動(dòng)。
本發(fā)明的發(fā)明者測(cè)試了這種技術(shù)并且發(fā)現(xiàn)除非優(yōu)化地確定突起元件104的構(gòu)造，否則無(wú)法充分限制盤的浮動(dòng)。詳細(xì)地，降低盤內(nèi)部上方的空氣壓力取決于突起元件104的高度和/或數(shù)量、盤2和元件104之間的間隙等，這可能會(huì)造成無(wú)法有效限制浮動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種盤裝置，在盤高速旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，有效地限制了盤在轉(zhuǎn)臺(tái)上方浮動(dòng)。
本發(fā)明提供了一種用于從盤中讀取或者向盤記錄數(shù)據(jù)的盤裝置，包括托盤，具有其上放置盤的臺(tái)；以及覆蓋托盤的防護(hù)元件，該防護(hù)元件具有圓形開(kāi)口以及多個(gè)弧形突起元件，各個(gè)弧形突起元件設(shè)置在覆蓋托盤的防護(hù)元件的內(nèi)表面上，并向著放在臺(tái)上的盤的上表面突起，各個(gè)弧形突起元件的一端位于開(kāi)口附近，并且各個(gè)弧形突起元件的突起端從防護(hù)元件內(nèi)表面的高度范圍為從1.0mm至1.5mm。


圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的盤裝置的分解透視圖；圖2為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的頂板內(nèi)表面的透視圖；圖3的透視圖示出了對(duì)于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的盤裝置和已知盤裝置在，盤的下表面下方的氣流；圖4的透視圖示出了對(duì)于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的盤裝置和已知盤裝置，在盤的上表面上方的氣流；圖5為已知盤裝置的截面圖；圖6的透視圖示出了在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的盤裝置中突起元件附近的氣流；圖7是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的突起元件一部分的放大視圖；圖8是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的具有突起元件的盤裝置的截面圖；圖9示出了帶有或不帶根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的突起元件的情況下，作用在盤的上下表面的空氣壓力的模擬結(jié)果；圖10表示出了與根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的突起元件相關(guān)的尺寸；圖11示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的突起元件的高度變化引起的盤浮動(dòng)和盤面波動(dòng)的變化；圖12示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的突起元件的數(shù)量變化引起的盤浮動(dòng)和盤面波動(dòng)的變化；圖13示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的突起元件和盤之間的間隙變化引起的盤浮動(dòng)和盤面波動(dòng)的變化；圖14示出了覆蓋已知盤裝置的外殼的頂板。
具體實(shí)施例方式
圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的盤裝置MA的分解透視圖。盤裝置MA封閉在盒狀外殼10中。外殼10包括頂部開(kāi)口的外殼主體1和覆蓋外殼主體1頂部的頂板(防護(hù)元件)6。這樣的結(jié)構(gòu)在外殼10中獲得氣密的狀態(tài)，基本上不會(huì)存在灰塵污染等。
在外殼10中設(shè)置有轉(zhuǎn)臺(tái)3，裝附在作為主軸電動(dòng)機(jī)的電動(dòng)機(jī)11的旋轉(zhuǎn)軸上。盤2可拆卸地置于轉(zhuǎn)臺(tái)3上。光拾取器4安裝在轉(zhuǎn)臺(tái)3中，可以在盤2的下面沿著盤的徑向方向往復(fù)運(yùn)動(dòng)。拾取器4用于向盤2記錄或者從盤2再現(xiàn)。電動(dòng)機(jī)11安裝在固定于外殼主體1的基座9上，如圖5所示，將在后面敘述。
外殼主體1具有托盤5，用于將盤2裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)3上以及從轉(zhuǎn)臺(tái)3上卸下。托盤5可以在水平方向上通過(guò)在主體1一端形成的導(dǎo)向槽(未示出)往復(fù)運(yùn)動(dòng)。托盤5比主體1更窄，從而在托盤移動(dòng)的縱向方向上，在托盤5縱向(托盤5移動(dòng)的方向)的各個(gè)側(cè)壁和主體1的相應(yīng)內(nèi)壁之間存在有間隙。托盤5具有開(kāi)口5a和臺(tái)5b，開(kāi)口5a對(duì)應(yīng)于電動(dòng)機(jī)11和光拾取器4，盤2放在臺(tái)5b上。
盤2放在從外殼1主體拉出的托盤5的臺(tái)5b上并且引導(dǎo)進(jìn)入主體1中。一旦引入盤2，轉(zhuǎn)臺(tái)3向著下面要敘述的夾持機(jī)構(gòu)7上升。盤2隨后置于轉(zhuǎn)臺(tái)3上并且靠夾持機(jī)構(gòu)7固定在其上。盤2從臺(tái)5b上分離開(kāi)的時(shí)候旋轉(zhuǎn)。
頂板6具有帶有厚圓形壁部分6c的圓形開(kāi)口6a，如圖1以及圖2所示。夾持機(jī)構(gòu)7安裝在開(kāi)口6a中，用于將盤2固定在轉(zhuǎn)臺(tái)3上。在頂板6的外表面60上設(shè)置有蓋子8覆蓋著安裝在開(kāi)口6a中的機(jī)構(gòu)7。開(kāi)6a的中心基本上符合轉(zhuǎn)臺(tái)3的旋轉(zhuǎn)中心。
圖2的透視圖示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的面朝著托盤5以及放在托盤臺(tái)5b上的盤2上表面的頂板6的內(nèi)表面61，帶有突起元件。
在內(nèi)表面61上設(shè)置與開(kāi)口6a同心的圓周部分6d。還在內(nèi)表面61上設(shè)置幾個(gè)突起元件6b，作為氣流引導(dǎo)裝置，每個(gè)都形成為從厚壁部分6c開(kāi)始到圓周部分6d并且連接這些部分的弧形。
如此形成弧形突起元件6b，使得所有突起部分都定向?yàn)橄嗤姆较?。元?b形成為弧形，但是可以不是完全的弧形。如下詳細(xì)敘述的，元件6b將由于盤2旋轉(zhuǎn)引起的氣流引導(dǎo)至旋轉(zhuǎn)中心。
在這個(gè)實(shí)施例中，突起元件6b形成為具有相同半徑的弧形?；⌒蔚钠鹗键c(diǎn)沿著厚壁部分6c的圓周彼此分開(kāi)。在圖2中，弧形的起始點(diǎn)以恒定的間隔彼此分開(kāi)。
在最近的盤裝置中，盤旋轉(zhuǎn)速度達(dá)到10,000rpm左右從而進(jìn)行高速記錄。另外，如上所述，盤裝置MA具有氣密結(jié)構(gòu)，幾乎沒(méi)有灰塵污染。因此，當(dāng)盤2高速旋轉(zhuǎn)的時(shí)候，在盤上方和下方的空氣也會(huì)旋轉(zhuǎn)，隨后由于離心力而從盤的內(nèi)部流到外部，從而使得盤內(nèi)部上方的空氣壓力降低。
將簡(jiǎn)短地討論盤裝置MA和已知的不帶突起元件的盤裝置的這種氣流，參考圖3和4。圖3的透視圖示出了盤裝置MA以及已知盤裝置的盤2的要被記錄的表面(盤的下表面)下的氣流。圖4的透視圖示出了盤裝置MA以及已知盤裝置的盤2的與上述表面相反的表面(盤的上表面)上的氣流。
如圖3和4所示，空氣在沿箭頭R所示的方向旋轉(zhuǎn)的盤2上方和下方旋轉(zhuǎn)，隨后由于離心力從盤內(nèi)部向外部流動(dòng)。
圖5為已知盤裝置的截面圖。詳細(xì)地，圖5示出了從已知裝置截面看時(shí)的對(duì)應(yīng)于圖3和4的氣流。
已知盤裝置的對(duì)應(yīng)于盤裝置MA的那些元件在所有附圖中都給出了相同的數(shù)字標(biāo)記。
在盤2下方，氣流如圖5箭頭所示地循環(huán)。詳細(xì)地，在托盤5上方從盤內(nèi)部到外部的氣流在盤的外緣向下轉(zhuǎn)，在托盤下方從盤外部向內(nèi)部運(yùn)動(dòng)，并且上升通過(guò)托盤的開(kāi)口5a。該空氣循環(huán)不會(huì)導(dǎo)致盤內(nèi)部下方的空氣壓力降低，而是造成低的負(fù)氣壓LNP。
相反地，盤2上方的空氣只是從盤內(nèi)部高速移動(dòng)到外部，而沒(méi)有通道從外部流向內(nèi)部。這使得盤內(nèi)部上方的空氣壓力降低，在盤2上方造成了比其下方更高的負(fù)氣壓HNP。當(dāng)盤2高速旋轉(zhuǎn)的時(shí)候，由于盤內(nèi)部上方的空氣壓力降低而產(chǎn)生了使得盤向上浮動(dòng)的力，這可能迫使盤從夾持機(jī)構(gòu)7上釋放出來(lái)。
圖6的透視圖示出了從頂板6的內(nèi)表面61看時(shí)，盤裝置MA(本發(fā)明實(shí)施例)中的突起元件6b附近的氣流。
如圖6中的箭頭所示，當(dāng)盤2向著箭頭L所示方向旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的氣流被突起元件6b引導(dǎo)而朝向盤的旋轉(zhuǎn)中心。
圖7是弧形突起元件6b的一部分的放大視圖。當(dāng)盤2向著箭頭A所示方向旋轉(zhuǎn)的時(shí)候，產(chǎn)生氣流并且氣流由于離心力而向著箭頭B所示的方向運(yùn)動(dòng)。然而，向著箭頭B方向運(yùn)動(dòng)的氣流與弧形突起元件6b碰撞并將其方向改為向著元件6b弧形的切線方向。隨后，氣流向著箭頭C所示的方向沿著弧形向著盤的旋轉(zhuǎn)中心運(yùn)動(dòng)。
當(dāng)更靠近盤的旋轉(zhuǎn)中心時(shí)，用于引導(dǎo)氣流的通道變得更窄，盤旋轉(zhuǎn)中心附近的空氣壓力根據(jù)伯努利法則而增大。這用來(lái)防止在高旋轉(zhuǎn)速度下盤2從夾持機(jī)構(gòu)7上釋放出來(lái)，而在沒(méi)有提供這樣的突起時(shí)會(huì)發(fā)生。
圖8為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的具有突起元件6b的盤裝置MA的截面圖。詳細(xì)地，圖8示出了從裝置MA的截面看時(shí)，對(duì)應(yīng)于圖3、4和6的氣流。
在盤2下方，氣流與圖5所示類似進(jìn)行循環(huán)。詳細(xì)地，在托盤5上方從盤內(nèi)部到外部的氣流在盤的外緣向下轉(zhuǎn)，在托盤下方從盤外部向內(nèi)部運(yùn)動(dòng)，并且上升通過(guò)托盤的開(kāi)口5a。該空氣循環(huán)不會(huì)導(dǎo)致盤內(nèi)部下方的空氣壓力降低，而是造成低的負(fù)氣壓LNP。
相反地，在盤2上方具有兩種類型的氣流一種從盤內(nèi)部運(yùn)動(dòng)到外部；另一種在突起元件6b的幫助下向著盤的旋轉(zhuǎn)中心運(yùn)動(dòng)，如上所述。
在本實(shí)施例中從盤內(nèi)部向外部的氣流要比沒(méi)有這種突起元件6b的更慢，其速度LS比圖5中的HS更低。這樣較慢的氣流限制了盤旋轉(zhuǎn)中心附近空氣壓力的降低，導(dǎo)致較低的負(fù)氣壓LNP。這用于限制盤2向上浮動(dòng)并防止它在高旋轉(zhuǎn)速度下從夾持機(jī)構(gòu)上釋放出來(lái)。
圖9中示出了在帶有或不帶根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的突起元件6b的情況下，作用在盤2的用于記錄的下表面或者相反的上表面的空氣壓力的模擬結(jié)果。
圖9中的圖(A)示出了作用在盤的上表面的負(fù)氣壓，在頂板6上沒(méi)有突起元件6b。圖9中的圖(B)示出了作用在盤的下表面的負(fù)氣壓，在頂板6上沒(méi)有突起元件6b。
圖9中的圖(C)示出了作用在盤的上表面的負(fù)氣壓，在頂板6上帶有突起元件6b。圖9中的圖(D)示出了作用在盤的下表面的負(fù)氣壓，在頂板6上帶有突起元件6b。
圖9中的圖(C)和(D)示出了在頂板6上提供了24個(gè)突起元件6b的模擬結(jié)果。
在圖9各圖的模擬中采用了相同的盤裝置，除了在圖(A)和(B)的模擬中頂板6具有平的表面而沒(méi)有突起元件6b以外。
圖9中圖(A)的模擬示出了盤旋轉(zhuǎn)中心附近的最高的負(fù)氣壓PL低于PL的中等負(fù)氣壓PM；以及當(dāng)更加靠近盤的外部時(shí)最低的負(fù)氣壓PS，，即越靠近旋轉(zhuǎn)中心，空氣壓力的降低就更大。圖9中圖(B)的模擬示出了在盤下表面下方的幾乎恒定的低的負(fù)氣壓PS。
圖9中圖(A)和圖(B)教導(dǎo)了當(dāng)在頂板6上不設(shè)置突起元件6b時(shí)比下表面更高的負(fù)氣壓作用于盤上表面，特別是在盤旋轉(zhuǎn)中心附近。
圖9中圖(C)的模擬示出了在盤上表面上方的幾乎恒定的低的負(fù)氣壓PS，帶有僅作用于上表面一部分的負(fù)氣壓PM。圖9中圖(D)的模擬也示出了在盤下表面下方的幾乎恒定的低的負(fù)氣壓PS，帶有只作用于部分下表面的負(fù)氣壓PM。
圖9中圖(C)和圖(D)教導(dǎo)了當(dāng)在頂板6上設(shè)置突起元件6b時(shí)幾乎相等的負(fù)氣壓作用在盤的上下表面上。
根據(jù)圖9中各圖的模擬，發(fā)現(xiàn)在本發(fā)明實(shí)施例的盤裝置MA中的頂板6上設(shè)置的突起元件6b，用于在盤的上表面提供幾乎恒定的負(fù)氣壓，并且也在盤的上下表面提供幾乎相等的負(fù)氣壓。
接下來(lái)討論突起元件6b如何影響根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的盤裝置MA中的氣流。
在速度8,000rpm的旋轉(zhuǎn)速度下進(jìn)行作用于盤上下表面的空氣壓力模擬，其參數(shù)為設(shè)置在頂板6上的突起元件6b的高度和數(shù)量，以及盤2和元件6b之間的間隙。
表1至3中示出的模擬結(jié)果具有三個(gè)等級(jí)“最好”表示在盤上下表面之間幾乎沒(méi)有空氣壓力的差；“良好”表示在其間有小的差；而“不好”表示其間有大的差。
圖10中定義了與突起元件6b相關(guān)的尺寸L1···各元件6b從其裝附在頂板6上的上端到面對(duì)著盤2的下端的高度；L2···下端和盤上表面之間的間隙。
表1示出了各突起元件6b的高度L1變化的模擬結(jié)果。
表1

表1示出在高度L1為0.7至1.7mm的范圍中盤上下表面之間的壓力差為良好，而在1.0至1.5mm的范圍中為最好。因此，突起元件6b高度L1的優(yōu)選范圍是從0.7至1.7mm，更優(yōu)選的是從1.0mm至1.5mm。
表2示出了突起元件6b的數(shù)量變化的模擬結(jié)果。
表2

表2示出在突起元件6b數(shù)量為8至30的范圍中盤上下表面之間的壓力差為良好，而在8至24的范圍中為最好。因此，突起元件6b數(shù)量的優(yōu)選范圍是從8至30，更優(yōu)選的是從8至24。
表3示出了突起元件6b和盤2之間的間隙L2變化的模擬結(jié)果。
表1


此外，在計(jì)算微分方程時(shí)，變量初始值的一例使用表2的值。
表2


另外，本例中所用的常數(shù)和基準(zhǔn)值的一例采用表3的值。
圖11中的圖(A)示出當(dāng)各突起元件6b的高度L1降低的時(shí)候，盤浮動(dòng)的平均量變大。根據(jù)圖11中的圖(A)，高度L1必須至少為1mm。當(dāng)高度L1變得更大時(shí)，盤浮動(dòng)的平均量變小，然而，盤面波動(dòng)量變大，如圖11中的圖(B)所示。根據(jù)圖11中的圖(B)，高度L1必須為1.5mm或更小，以在高轉(zhuǎn)速下將盤面波動(dòng)限制為6060μm或更小。
突起元件6b的高度L1變低造成盤浮動(dòng)量變大的原因是，它限制了氣流從盤外部流向內(nèi)部從而降低了盤內(nèi)部上方的空氣壓力。相反地，突起元件6b的高度L1變大高造成盤面波動(dòng)量變大的原因是，它會(huì)使得過(guò)多的氣流從盤外部流向內(nèi)部從而使得各突起元件6b的弧形內(nèi)外部之間的空氣壓力差變大，造成了空氣湍流使得盤2波動(dòng)。
因此，突起元件6b的高度L1的最佳范圍為1.0至1.5mm。
圖12中的圖(A)和(B)分別示出了突起元件6b的高度L1為1.2mm，元件6b數(shù)量為12、24和36時(shí)的盤浮動(dòng)和盤面波動(dòng)的變化。詳細(xì)地，圖12中的圖(A)示出盤浮動(dòng)的平均量相比于盤的旋轉(zhuǎn)速度，而圖12中的圖(B)示出盤面波動(dòng)量相比于盤的旋轉(zhuǎn)速度。
圖12中的圖(A)示出相對(duì)于突起元件6b數(shù)量變化，盤浮動(dòng)的平均量大致為恒定。相反地，圖12中的圖(B)示出當(dāng)突起元件6b的數(shù)量增加時(shí)，盤波動(dòng)的量在較高的旋轉(zhuǎn)速度突然變大。在由于盤內(nèi)部和外部之間的空氣湍流使得外部激勵(lì)頻率接近盤2的高階諧振頻率時(shí)產(chǎn)生的盤2的諧振造成了波動(dòng)。
根據(jù)圖12中的圖(A)和(B)，突起元件6b的最佳數(shù)量為24或者更少。表2也示出突起元件6b的數(shù)量范圍從8至24時(shí)給出的盤上下表面之間的空氣壓力差為最好。因此，突起元件6b的最佳數(shù)量范圍為從8至24。
圖13中的圖(A)和(B)分別示出了12個(gè)突起元件6b的高度L1為1.2mm，盤2和元件6b之間的間隙L2為1.25mm、1.5mm、1.75mm、2mm以及2.25mm時(shí)的盤浮動(dòng)和盤面波動(dòng)的變化。詳細(xì)地，圖13中的圖(A)示出盤浮動(dòng)的平均量相比于盤的旋轉(zhuǎn)速度，而圖13中的圖(B)示出盤面波動(dòng)量相比于盤的旋轉(zhuǎn)速度。
圖13中的圖(A)和(B)示出當(dāng)盤2和突起元件6b之間的間隙L2變窄的時(shí)候，在高旋轉(zhuǎn)速度下盤浮動(dòng)的平均量和盤面波動(dòng)的量都增大。這是由于當(dāng)間隙L2變窄時(shí)盤2和元件6b之間的氣流延遲造成了從盤外部流向內(nèi)部氣流的限制，從而使得盤內(nèi)部上方的空氣壓力降低。
根據(jù)圖13中的圖(A)和(B)，最佳的間隙L2為1.5mm或者更寬。
如上所述，確保下面的要求，從而使得作用于高速旋轉(zhuǎn)的盤2上下表面的空氣壓力差較小。
各突起元件6b從其附在頂板6的上端至其下端的高度L10.7mm至1.7mm；元件6b的數(shù)量8至30；以及盤2和元件6b之間的間隙L21.2mm至3.0mm。
另外，用于有效限制盤浮動(dòng)和盤面波動(dòng)的最佳要求如下高度L11.0mm至1.5mm；突起元件6b的數(shù)量8至24；以及間隙L21.5mm至3.0mm。
如詳細(xì)公開(kāi)的，達(dá)到上面列出的高度L1、突起元件數(shù)量以及間隙L2要求的本發(fā)明，有效限制了盤2高速旋轉(zhuǎn)時(shí)盤內(nèi)部上空氣壓力的降低。
另外，本發(fā)明有效限制了盤的浮動(dòng)從而防止盤2從夾持機(jī)構(gòu)7上釋放出來(lái)。
此外，本發(fā)明有效較低了作用在盤2上表面將盤2向著電動(dòng)機(jī)11推動(dòng)的負(fù)氣壓，從而限制了在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)盤表面的波動(dòng)，即使盤2的重心從原始點(diǎn)移開(kāi)的時(shí)候，其提供穩(wěn)定的記錄或再現(xiàn)。
另外，有了這種對(duì)盤面波動(dòng)的限制，本發(fā)明提供了產(chǎn)生較少噪音的高質(zhì)量的盤裝置。
權(quán)利要求
1.一種用于向盤記錄或從其讀取數(shù)據(jù)的盤裝置，包括托盤，具有其上放置盤的臺(tái)；以及覆蓋托盤的防護(hù)元件，該防護(hù)元件具有圓形開(kāi)口以及多個(gè)弧形突起元件，各個(gè)弧形突起元件設(shè)置在覆蓋托盤的防護(hù)元件的內(nèi)表面上，并向著放在托盤臺(tái)上的盤的上表面突起，各個(gè)弧形突起元件的一端位于開(kāi)口附近，并且各個(gè)弧形突起元件的突起端從防護(hù)元件內(nèi)表面的高度范圍為從1.0mm至1.5mm。
2.如權(quán)利要求1的盤裝置，其特征在于防護(hù)元件具有都設(shè)置在其內(nèi)表面上的內(nèi)圓形部分以及外圓形部分，沿著圓形開(kāi)口設(shè)置內(nèi)圓形部分，外圓形部分與開(kāi)口同心，并設(shè)置弧形突起元件設(shè)置為連接內(nèi)外部分。
3.如權(quán)利要求2的盤裝置，其特征在于弧形突起元件在內(nèi)外部分之間定向在相同的方向。
4.如權(quán)利要求2的盤裝置，其特征在于弧形突起元件具有相同的半徑。
5.如權(quán)利要求2的盤裝置，其特征在于位于開(kāi)口附近的弧形突起元件的端部沿著內(nèi)圓形部分的圓周彼此分隔開(kāi)。
6.如權(quán)利要求5的盤裝置，其特征在于弧形突起元件的端部彼此分隔開(kāi)恒定的間隔。
7.如權(quán)利要求1的盤裝置，其特征在于各個(gè)弧形突起元件的突起端部與放在托盤臺(tái)上的盤的上表面分隔開(kāi)至少1.5mm。
8.如權(quán)利要求1的盤裝置，其特征在于弧形突起元件的數(shù)量等于或大于8個(gè)，但是等于或小于24個(gè)。
全文摘要
一種用于從盤中讀取或者向其記錄數(shù)據(jù)的盤裝置，包括具有其上放置盤的臺(tái)的托盤，以及覆蓋托盤的防護(hù)元件。該防護(hù)元件具有圓形開(kāi)口以及多個(gè)弧形突起元件。各個(gè)弧形突起元件設(shè)置在覆蓋托盤的防護(hù)元件的內(nèi)表面上，并向著放在托盤臺(tái)上的盤的上表面突起。各個(gè)弧形突起元件的一端位于開(kāi)口附近。各個(gè)弧形突起元件的突起端從防護(hù)元件內(nèi)表面的高度范圍為從1.0mm至1.5mm。
文檔編號(hào)G11B25/04GK1862685SQ20061007789
公開(kāi)日2006年11月15日 申請(qǐng)日期2006年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月10日
發(fā)明者德永智士 申請(qǐng)人:日本勝利株式會(huì)社