專利名稱：自旋支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于測試磁頭或磁盤(disk)的自旋支架，特別地涉及具有底座以及通過滾動(dòng)軸承與底座相連接的平臺的自旋支架。
背景技術(shù)：
在用于對作為硬盤驅(qū)動(dòng)器的構(gòu)成要素的磁頭和磁盤中的至少一個(gè)進(jìn)行測試的裝置中，使用了自旋支架(例如，參照日本專利文獻(xiàn)特表2003-515859號公報(bào)的圖1，日本專利文獻(xiàn)特開2001-101853號公報(bào)的第5頁，以及日本專利文獻(xiàn)特開平6-150269號公報(bào)的第4頁)。
自旋支架是使磁盤旋轉(zhuǎn)，并相對于旋轉(zhuǎn)的磁盤來對磁頭進(jìn)行相對定位的裝置。作為主要的結(jié)構(gòu)元件，自旋支架包括底座、磁盤旋轉(zhuǎn)裝置以及定位裝置。磁盤旋轉(zhuǎn)裝置和定位裝置被安裝在底座上。定位裝置包括支撐磁頭的平臺、使平臺移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，以及用于檢測平臺位置的位置檢測裝置。并且，平臺通過軸承被安裝在底座上。
平臺在不同于驅(qū)動(dòng)裝置的力的外力的作用下會(huì)產(chǎn)生擾動(dòng)。當(dāng)前正在探求使自旋支架中的磁頭的定位精度在2～3毫微米以下。因此，在自旋支架中，為了維持所要求的定位精度，在將平臺移到預(yù)期位置之后使平臺固定在底座上，由此來穩(wěn)定磁頭的位置。作為將平臺固定在底座上的代表性裝置有氣動(dòng)卡盤(例如，參照日本專利文獻(xiàn)特表2003-515859號公報(bào)的第九頁以及日本專利文獻(xiàn)特開2001-101853號公報(bào)的第五頁)。
在自旋支架中，當(dāng)通過滾球軸承等滾動(dòng)軸承來連接底座和平臺時(shí)，在定位之后的平臺的位置穩(wěn)定性方面會(huì)有問題。首先，通過板簧而被安裝在平臺上的氣動(dòng)卡盤吸附在底座上，由此通過滾球軸承而連接到底座上的線性平臺被間接地固定在底座上。板簧雖然主要在一特定方向上變形，但在其它方向上仍會(huì)有輕微變形。從而使得氣動(dòng)卡盤和平臺的相對位置關(guān)系并不穩(wěn)定。此外，由于在以往的自旋支架中沒有采用旋轉(zhuǎn)式支架的示例，因此沒有將旋轉(zhuǎn)式支架固定在底座上的在先技術(shù)。簡而言之，當(dāng)前在通過滾動(dòng)軸承來連接底座和平臺的自旋支架中，沒有一種將平臺穩(wěn)定地固定到底座上的方法。然而，自旋支架所要求的定位精度卻在年年提高。另外，由于自旋支架是頻繁進(jìn)行定位的裝置，因此也同時(shí)要求其要快速進(jìn)行定位動(dòng)作。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種可將通過滾動(dòng)軸承而被安裝在底座上的平臺高穩(wěn)定性且快速地固定在所述底座上的自旋支架。
本發(fā)明的第一方式是一種用于測試磁頭或磁盤的自旋支架，包括底座和通過滾動(dòng)軸承而被安裝在所述底座上的平臺，所述自旋支架的特征在于具有固定裝置，該固定裝置通過與所述底座的吸附以及與所述平臺的吸附而與所述底座以及所述平臺成為一體，由此將所述平臺固定在所述底座上，并能夠控制與所述底座和所述平臺的一體化以及與所述底座和所述平臺的分離。
本發(fā)明的第二方式的特征在于，在本發(fā)明的第一方式中，所述固定裝置的通過吸附來連接所述底座和所述平臺的部分由非可動(dòng)部分的固體來構(gòu)成。
另外，本發(fā)明的第三方式的特征在于，在本發(fā)明的第一方式或本發(fā)明的第二方式中，還包括對所述固定裝置和所述底座的吸附狀態(tài)或所述固定裝置和所述平臺的吸附狀態(tài)進(jìn)行確認(rèn)的裝置。
另外，本發(fā)明的第四方式的特征在于，在本發(fā)明的第一方式、本發(fā)明的第二方式或本發(fā)明的第三方式中，在所述固定裝置和所述底座以及所述平臺結(jié)合成為一體之后，所述固定裝置和所述底座相吸附的力以及所述固定裝置和所述平臺相吸附的力與結(jié)合成為一體之前相比有所減弱。
另外，本發(fā)明的第五方式的特征在于，在本發(fā)明的第一方式、本發(fā)明的第二方式、本發(fā)明的第三方式或本發(fā)明的第四方式中，所述平臺具有第一磁性體，所述底座具有第二磁性體，所述固定裝置具有在電磁力的作用下吸附在所述第一磁性體以及所述第二磁性體上的電磁鐵。
另外，本發(fā)明的第六方式的特征在于，在本發(fā)明的第五方式中，還具有當(dāng)所述電磁鐵吸附在所述第一磁性體和所述第二磁性體上時(shí)，使所述電磁鐵與所述第一磁性體和所述第二磁性體分離開的裝置。
另外，本發(fā)明的第七方式的特征在于，在本發(fā)明的第一方式、本發(fā)明的第二方式、本發(fā)明的第三方式或本發(fā)明的第四方式中，所述平臺具有第一平滑面，所述底座具有第二平滑面，所述固定裝置具有可在氣壓的控制下而在所述第一平滑面以及所述第二平滑面上裝卸的氣動(dòng)卡盤。
根據(jù)本發(fā)明，由于將非可動(dòng)部分的固體吸附到底座和平臺上，因此可以強(qiáng)有力地將底座和平臺結(jié)合為一體，從而將平臺固定到底座上。另外，由于沒有對底座和平臺施壓，因此可以減輕附加到與底座和平臺相連的軸承部分等可動(dòng)部分上的負(fù)荷。
另外，根據(jù)本發(fā)明，由于對底座和平臺的吸附狀態(tài)進(jìn)行確認(rèn)，因此可以穩(wěn)定且可靠地發(fā)揮固定裝置的固定能力。
另外，根據(jù)本發(fā)明，由于強(qiáng)行將處于吸附狀態(tài)的電磁鐵分離，因此可以在預(yù)定時(shí)間內(nèi)解除平臺的固定狀態(tài)。
另外，根據(jù)本發(fā)明，由于固定裝置吸附到平臺和底座上后，固定裝置的吸附力有所減弱，因此可以控制所需要的電能或抑制熱量的產(chǎn)生。由此，可以減輕例如對電磁鐵周邊的機(jī)械或電氣電路以及檢查對象的熱影響。


圖1是表示自旋支架100的上方斜視圖；圖2是表示自旋支架100的下方斜視圖；圖3是本發(fā)明的固定裝置300的截面圖；圖4是本發(fā)明的固定裝置300的截面圖；圖5是本發(fā)明的固定裝置300的截面圖；圖6是本發(fā)明的固定裝置400的截面圖；圖7是本發(fā)明的固定裝置400的截面圖；
圖8是表示自旋支架500的上方斜視圖；圖9是本發(fā)明的固定裝置700的截面圖；圖10是本發(fā)明的固定裝置700的截面圖。
具體實(shí)施例方式
下面根據(jù)附圖所示的優(yōu)選實(shí)施方式對本發(fā)明進(jìn)行說明。本發(fā)明的第一實(shí)施方式是用于檢查磁頭和磁盤中至少一個(gè)的自旋支架100。這里參照圖1和圖2。圖1是從上方斜視自旋支架100的圖。圖2是從下方斜視自旋支架100的圖。在圖2中，與圖1相同的元件被標(biāo)注相同的參照編號。
自旋支架100具有底座110、磁盤旋轉(zhuǎn)裝置120、壓電平臺130以及旋轉(zhuǎn)平臺140。底座110具有頂板111和側(cè)板112。磁盤旋轉(zhuǎn)裝置120是用于使圖中未示出的磁盤旋轉(zhuǎn)的裝置。壓電平臺130是對磁頭200進(jìn)行直線式精細(xì)定位的裝置，并被安裝在旋轉(zhuǎn)平臺140的頂板141上。壓電平臺130對磁頭200在箭頭A的方向上進(jìn)行定位。該箭頭A的方向是與磁頭200的圖中未示出的間隙中心線相垂直的方向，或包含該方向的方向。旋轉(zhuǎn)平臺140通過滾動(dòng)軸承150被安裝在底座110上。旋轉(zhuǎn)平臺140通過圖中未示出的驅(qū)動(dòng)裝置和圖中未示出的位置檢測裝置對壓電平臺130在箭頭B的方向上進(jìn)行旋轉(zhuǎn)定位。當(dāng)對壓電平臺130進(jìn)行了旋轉(zhuǎn)定位時(shí)，壓電平臺130的定位方向A也會(huì)有所變動(dòng)。
此外，自旋支架100具有固定裝置300。固定裝置300是使用電磁鐵330將旋轉(zhuǎn)平臺140固定在底座110上的裝置。電磁鐵330磁力吸附在底座110和旋轉(zhuǎn)平臺140上并與之成為一體，由此將旋轉(zhuǎn)平臺140固定在底座110上。底座110具有用于吸附電磁鐵330的磁性板220。另外，旋轉(zhuǎn)平臺140具有用于吸附電磁鐵330的磁性板210。磁性板210和磁性板220為鐵制平板。
下面參照圖2和圖3。圖3是圖2中的C-C截面圖。圖3中和圖2相同的元件被標(biāo)注了相同的參照編號。磁性板210的面211和磁性板220的面221之間無階梯差。另外，面211和面221與旋轉(zhuǎn)平臺140的旋轉(zhuǎn)軸相垂直。電磁鐵330以吸附面331與面211和面221相對的方式，通過板簧340被安裝在底座110上。電磁鐵330的吸附面331具有可同時(shí)與面211和面221緊密接觸的形狀。板簧340形成為橋形，且其端部341被固定在底座110上。此外，磁性板380被安裝在板簧340的安裝電磁鐵330的面的相反面上。磁性板380是鐵制平板。磁性板380和板簧340之間設(shè)有絕緣體370。絕緣體370例如由MC尼龍(商標(biāo))來成型形成。另外，通過支撐體360將電磁鐵350安裝在底座110上，使之與磁性板380相對。并且，電磁鐵350沒有被固定在磁性板380上。電磁鐵330和電磁鐵350通過圖中未示出的控制電路C來控制各自產(chǎn)生的磁力的打開/關(guān)閉和各自磁力的大小?？刂齐娐稢(圖中未示出)既可以是自旋支架100的一部分，也可以是外部裝置。
下面對上述結(jié)構(gòu)的固定裝置300的動(dòng)作進(jìn)行說明。圖3示出旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110沒有被固定的狀態(tài)。該狀態(tài)為普通狀態(tài)。在這里，若對電磁鐵330施加電壓，則電磁鐵330在其產(chǎn)生的磁力的作用下吸附到磁性板210和磁性板220上。在這里參照圖4。雖然圖4和圖3相同，同樣也是圖2的C-C截面圖，但和圖3不同的是，電磁鐵330吸附到了磁性板210和磁性板220上。圖4中和圖3相同的元件被標(biāo)注了相同的參照編號。在圖4中，磁性板210通過電磁鐵330被固定，使得與磁性板220成為一體。由于磁性板210被固定在旋轉(zhuǎn)平臺140上，而磁性板220被固定在底座110上，因此旋轉(zhuǎn)平臺140通過電磁鐵330而與底座110固定為一體。由于連接旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110的電磁鐵330是非可動(dòng)部分的一個(gè)固體，因此旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110被強(qiáng)有力地結(jié)合成一體，從而可處于穩(wěn)定的固定狀態(tài)。此外，由于電磁鐵330吸附在磁性板210和磁性板220上，因此不會(huì)因固定而向旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110施加力。從而施加于旋轉(zhuǎn)平臺140的旋轉(zhuǎn)軸(圖中未示出)和滾動(dòng)軸承150的負(fù)荷也很少。
如前所述，電磁鐵330的吸附面331具有可同時(shí)與面211和面221緊密接觸的形狀。因此，底座110和旋轉(zhuǎn)平臺140被強(qiáng)有力地結(jié)合成為一體。但是，若面211或面221與吸附面331之間有灰塵等，則面和面之間就不能達(dá)到完全地接觸，其結(jié)果是，旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110的固定狀態(tài)就會(huì)變得不穩(wěn)定。此外，當(dāng)沒有精準(zhǔn)控制電磁鐵330時(shí)，旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110的固定狀態(tài)仍會(huì)不穩(wěn)定。若在這樣的不穩(wěn)定的固定狀態(tài)下，使壓電平臺130對磁頭200進(jìn)行定位，則在驅(qū)動(dòng)磁頭200的反作用力的作用下，旋轉(zhuǎn)平臺140有時(shí)會(huì)活動(dòng)，在這種情況下旋轉(zhuǎn)平臺140和磁頭200就不會(huì)有高精度的定位。因此，本實(shí)施方式的固定裝置300通過給板簧340施加電壓以確認(rèn)板簧340和磁性板220之間的導(dǎo)通狀態(tài)的方式來確認(rèn)面221和吸附面331之間的接觸狀態(tài)。由此能夠確認(rèn)磁性板210和電磁鐵330的吸附狀態(tài)以及磁性板220和電磁鐵330的吸附狀態(tài)，所以，可穩(wěn)定地發(fā)揮固定裝置的固定能力。為了進(jìn)行該導(dǎo)通確認(rèn)，電磁鐵330和磁性板220具有導(dǎo)電性。并且，雖然也可以對磁性板210施加電壓來確認(rèn)磁性板210和磁性板220之間的導(dǎo)通，但由于吸附面331具有可同時(shí)接觸面211和面221的形狀，所以難以考慮到吸附面331只和面211或面221中的一個(gè)面相接觸的情況。因此如上所述，足以確認(rèn)面211或面221中的任一面和吸附面331的接觸狀態(tài)。
這里，電磁鐵330所產(chǎn)生的磁力線的路徑如圖5所示。圖中，電磁鐵330具有線圈332和磁心333。電磁鐵330的磁力由線圈332產(chǎn)生。當(dāng)線圈332中有電流通過時(shí)，線圈332的中心附近為S極，外圍附近為N極。除了電磁鐵330與磁性板210以及磁性板220相對的面之外，磁心333覆蓋了電磁鐵330的全體。當(dāng)電磁鐵330吸附在磁性板210和磁性板220上時(shí)，線圈332所產(chǎn)生的磁力線通過磁性板210和磁性板220而形成磁通量閉環(huán)334。此外，線圈332所產(chǎn)生的磁力線同樣與磁心333形成磁通量閉環(huán)(圖中未示出)。此外，磁性板210和磁性板220幾乎能夠覆蓋電磁鐵330的吸附面331的全部。從而當(dāng)電磁鐵330吸附在磁性板210和磁性板220上時(shí)，線圈332所產(chǎn)生的磁力線不會(huì)泄漏到外部。此外，由于電磁鐵330的吸附面331以接近磁性板210和磁性板220的方式被配置，因此即使在電磁鐵330吸附到磁性板210和磁性板220上之前，線圈332所產(chǎn)生的磁力線也幾乎不會(huì)泄漏到外部。這對于檢查磁頭200等磁性元件的裝置是極為重要的。這是由于可以減輕檢查結(jié)果所受到的周圍電磁場的影響的緣故。
此外，電磁鐵330在吸附到磁性板210和磁性板220上之前產(chǎn)生強(qiáng)磁力，而在吸附之后所產(chǎn)生的磁力減弱。例如，當(dāng)想要使電磁鐵330進(jìn)行吸附時(shí)，給電磁鐵330施加20V電壓，而在吸附后將施加電壓下降到10V。這是由于若電磁鐵330吸附到了磁性板210和磁性板220上，則維持該吸附狀態(tài)所需的磁力與將要進(jìn)行吸附時(shí)相比可以減小的緣故。通過這樣的對施加電壓的控制，可以降低電磁鐵330所產(chǎn)生的熱量。
下面對解除電磁鐵330的吸附狀態(tài)，即解除電磁鐵330和磁性板210的吸附狀態(tài)以及電磁鐵330和磁性板220的吸附狀態(tài)的操作進(jìn)行說明。在圖4中，首先將施加到電磁鐵330上的電壓變?yōu)榱恪Ｓ捎趯⑹┘拥诫姶盆F330上的電壓變?yōu)榱悴⒉灰馕吨鴽]有了磁通量閉環(huán)334，因此可以維持電磁鐵330的吸附狀態(tài)。此外，當(dāng)向電磁鐵330施加與吸附時(shí)相反的電壓時(shí)，也只是使圖5所示的磁通量閉環(huán)334的朝向相反，所以仍舊維持電磁鐵330的吸附狀態(tài)。因此，為了迅速解除電磁鐵330的吸附狀態(tài)，需要強(qiáng)行將電磁鐵330從磁性板210和磁性板220上分離。具體來說，由電磁鐵350來吸引磁性板380，從而將電磁鐵330從磁性板210和磁性板220上分離。其結(jié)果是，固定裝置300成為圖3所示狀態(tài)。并且，盡管圖中未示出，但電磁鐵350和電磁鐵330相同，具有線圈和磁心。而電磁鐵350和電磁鐵330不同的之處在于，雖然在吸附到磁性板380之前產(chǎn)生強(qiáng)磁力，但在吸附之后所產(chǎn)生的磁力變?yōu)榱?。若將電磁鐵330從磁性板210和磁性板220上分離，則在此之后，固定裝置300在板簧340的作用下回落到圖3所示的狀態(tài)，因此電磁鐵350沒有必要繼續(xù)產(chǎn)生磁力。并且，由于確保了磁性板380用于吸附的適當(dāng)面積，并且電磁鐵350以接近磁性板380的方式被設(shè)置，因此可以抑制從電磁鐵350向外泄漏磁力線。該利用電磁鐵350的方法例如與在電磁鐵330上附帶上鉛錘，并在其重力的作用下進(jìn)行分離的方法相比，能夠可靠地在確定的時(shí)間內(nèi)進(jìn)行分離，因此能夠穩(wěn)定且高速地解除電磁鐵330的吸附狀態(tài)。
電磁鐵330和電磁鐵350產(chǎn)生磁場。該磁場有時(shí)成為測試磁頭200等磁性元件時(shí)產(chǎn)生誤差的主要原因。在自旋支架100中，由于在磁頭200和電磁鐵330以及電磁鐵350之間具有磁性板210，因此可以抑制磁場對磁頭200的測試的影響。
在第一實(shí)施方式中，面211和面221也可以有階梯差，且吸附面331也可以為與該階梯差相吻合的階梯狀。此外，面211、面221以及吸附面331也可以是曲面而不是平面。重要的是只要將其構(gòu)成為可同時(shí)吸附即可，而對其形狀則并無要求。
下面對本發(fā)明的第二實(shí)施方式進(jìn)行說明。本發(fā)明的第二實(shí)施方式為與圖1和圖2所示大體相同的、用于檢查磁頭或磁盤的自旋支架。但在本發(fā)明的第二實(shí)施方式中，在自旋支架100中使用固定裝置400以代替固定裝置300。并因該變動(dòng)而去掉或改變了幾個(gè)元件。固定裝置400的特征在于，作為吸附裝置，其使用氣動(dòng)卡盤來代替電磁鐵。
在這里，固定裝置400的截面圖如圖6所示。在圖6中，與圖2和圖3相同的元件被標(biāo)注了相同的參照編號。在兩圖中，固定裝置400是使用吸附塊430將旋轉(zhuǎn)平臺140固定在底座110上的裝置。吸附塊430吸附在旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110上而成為一體，由此將旋轉(zhuǎn)平臺140固定在底座110上。旋轉(zhuǎn)平臺140具有用于吸附塊430吸附的平滑板230。底座110具有用于吸附塊430吸附的平滑板240。平滑板230和平滑板240是鋁制平板。平滑板230和平滑板240分別具有平面度在5微米以下的平滑面231和平滑面241。平滑面231和平滑面241垂直于旋轉(zhuǎn)平臺140的旋轉(zhuǎn)軸。
吸附塊430具有氣動(dòng)卡盤460和吸附面431。吸附塊430通過板簧340，以吸附面431與平滑面231和平滑面241相對的方式被安裝在底座110上。吸附塊430的吸附面431具有可同時(shí)吸附在平滑面231和平滑面241上的形狀。板簧340形成為橋形，且其端部341被固定在底座110上。并且，通過經(jīng)由通氣道470而連接到氣動(dòng)卡盤460上的給排氣裝置P(圖中未示出)來控制在氣動(dòng)卡盤460中產(chǎn)生的氣壓的打開/關(guān)閉以及該氣壓的大小。給排氣裝置P(圖中未示出)既可以是自旋支架100的一部分，也可以是外部裝置。
下面對上述結(jié)構(gòu)的固定裝置400的動(dòng)作進(jìn)行說明。圖6示出旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110沒有被固定的狀態(tài)。該狀態(tài)為固定裝置400的普通狀態(tài)。在這里，通過給排氣裝置P(圖中未示出)的作用使得氣動(dòng)卡盤460吸氣。這樣在氣動(dòng)卡盤460中就會(huì)產(chǎn)生負(fù)壓。吸附塊430在所產(chǎn)生的負(fù)壓的作用下吸附到平滑板230和平滑板240上。這里參照圖7。雖然圖7和圖6相同，也是固定裝置400的截面圖，但和圖6不同的是，吸附塊430吸附到平滑板230和平滑板240上。圖7中和圖6相同的元件被標(biāo)注了相同的參照編號。在圖7中，平滑板230通過吸附塊430與平滑板240被固定成一體。由于平滑板230被固定在旋轉(zhuǎn)平臺140上，平滑板240被固定在底座110上，因此旋轉(zhuǎn)平臺140通過吸附塊430與底座110被固定成一體。由于連接旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110的吸附塊430是非可動(dòng)部分的一個(gè)固體，因此旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110被強(qiáng)有力地結(jié)合成一體，從而可處于穩(wěn)定的固定狀態(tài)。此外，由于吸附塊430吸附在旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110上，因此不會(huì)因固定而向旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110施加力。從而，施加于旋轉(zhuǎn)平臺140的旋轉(zhuǎn)軸(圖中未示出)和滾動(dòng)軸承150的負(fù)荷也很少。
如前所述，吸附塊430的吸附面431具有可同時(shí)與平滑面231和平滑面241緊密接觸的形狀。由此，旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110被強(qiáng)有力地結(jié)合成一體。但是，若平滑面231或平滑面241與吸附面431之間有灰塵等，則面和面之間就不能達(dá)到完全地接觸，其結(jié)果是，旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110的固定狀態(tài)就會(huì)變得不穩(wěn)定。此外，當(dāng)沒有精準(zhǔn)控制氣動(dòng)卡盤460時(shí)，旋轉(zhuǎn)平臺140和底座110的固定狀態(tài)仍會(huì)不穩(wěn)定。若在這樣的不穩(wěn)定的固定狀態(tài)下使壓電平臺130對磁頭200進(jìn)行定位，則在驅(qū)動(dòng)磁頭200的反作用力的作用下，旋轉(zhuǎn)平臺140有時(shí)會(huì)活動(dòng)，在這種情況下旋轉(zhuǎn)平臺140和磁頭200就不會(huì)有高精度的定位。因此，本實(shí)施方式的固定裝置400通過確認(rèn)給排氣裝置P(圖中未示出)的負(fù)荷狀態(tài)來確認(rèn)平滑面231和吸附面431的接觸狀態(tài)以及平滑面241和吸附面431的接觸狀態(tài)。這是利用了完全接觸和不完全接觸時(shí)附加到給排氣裝置P(圖中未示出)上的負(fù)荷的大小有所不同這一點(diǎn)。由此，固定裝置400的固定能力得以穩(wěn)定地發(fā)揮。
此外，吸附塊430在吸附到平滑板230和平滑板240上之前產(chǎn)生強(qiáng)負(fù)壓，而在吸附之后所產(chǎn)生的負(fù)壓可以減弱。這是由于當(dāng)吸附塊430吸附到平滑板230和平滑板240上時(shí)，維持該吸附狀態(tài)所需的負(fù)壓與將要吸附時(shí)相比可以減小的緣故。當(dāng)然，在吸附后所產(chǎn)生的負(fù)壓也可以不減小。
下面對解除吸附塊430的吸附狀態(tài)，即解除平滑板230和吸附塊430的吸附狀態(tài)以及平滑板240和吸附塊430的吸附狀態(tài)的操作進(jìn)行說明。在圖7中，在給排氣裝置P(圖中未示出)的作用下而從氣動(dòng)卡盤460噴氣。這樣就在氣動(dòng)卡盤460中產(chǎn)生正壓。吸附塊430在該產(chǎn)生的正壓的作用下從平滑板230和平滑板240上分離。解除吸附塊430的吸附狀態(tài)的固定裝置300如圖6所示。若將吸附塊430從平滑板230和平滑板240上分離，則在此之后的固定裝置400回落到圖6所示的狀態(tài)，因此氣動(dòng)卡盤460沒有必要繼續(xù)產(chǎn)生正壓。使用該氣動(dòng)卡盤460的解除方法與使用電磁鐵的情況相同，由于能夠可靠地在確定的時(shí)間內(nèi)對吸附塊430進(jìn)行分離，因此能夠穩(wěn)定且高速地解除吸附塊430的吸附狀態(tài)。此外，該使用氣動(dòng)卡盤460的方法與使用電磁鐵的情況相比，不需要追加用于解除吸附塊430的吸附狀態(tài)的裝置。另外，該使用氣動(dòng)卡盤460的方法難以對磁頭的檢查結(jié)果產(chǎn)生影響。
下面對本發(fā)明的第三實(shí)施方式進(jìn)行說明。本發(fā)明的第三實(shí)施方式是用于對磁頭和磁盤中至少一方進(jìn)行檢查的自旋支架500。這里參照圖8。圖8是從上方斜視自旋支架500的圖。
自旋支架500具有底座510和線性平臺520。底座510具有頂板511和在頂板511上直立的支柱512以及支柱513。支柱512在其上部具有磁性板611。支柱513在其上部具有磁性板612。在磁性板611的上面安裝有作為滾動(dòng)軸承的一個(gè)示例的直線導(dǎo)軌531。在磁性板612的上面安裝有作為滾動(dòng)軸承的一個(gè)示例的直線導(dǎo)軌532。線性平臺520被直線導(dǎo)軌531和直線導(dǎo)軌532支撐，并由驅(qū)動(dòng)源540在箭頭D的方向上定位。此外，線性平臺520在其下側(cè)具有磁性板620。
下面參照圖9和圖10。圖9是圖8的E-E截面圖。圖10是圖9的F-F截面圖。在圖9中和圖8相同的元件被標(biāo)注了相同的參照編號。此外，在圖10中和圖9相同的元件被標(biāo)注了相同的參照編號。自旋支架500具有固定裝置700。固定裝置700是使用電磁鐵710和電磁鐵750而將線性平臺520固定在底座510上的裝置。電磁鐵710吸附在磁性板611和磁性板620上而成為一體，電磁鐵750吸附在磁性板612和磁性板620上而成為一體。固定裝置700在這些部件一體化的作用下將旋轉(zhuǎn)平臺140固定在底座110上。
電磁鐵710通過板簧720被安裝在底座510上。電磁鐵750通過板簧760被安裝在底座510上。電磁鐵710具有可同時(shí)吸附在磁性板611和磁性板620上的形狀。電磁鐵750具有可同時(shí)吸附在磁性板612和磁性板620上的形狀。板簧720形成為橋形，且其端部721被固定在底座510上。板簧760形成為橋形，并被固定在底座510上。此外，磁性板730被安裝在板簧720的安裝電磁鐵710的面的相反面上。磁性板770被安裝在板簧760的安裝電磁鐵750的面的相反面上。磁性板730和磁性板770是鐵制平板。磁性板730和板簧720電絕緣。磁性板770和板簧760電絕緣。另外，電磁鐵740以與磁性板730相對的方式被安裝在底座510上。而電磁鐵780以與磁性板770相對的方式被安裝在底座510上。電磁鐵710、電磁鐵740、電磁鐵750以及電磁鐵780通過圖中未示出的控制電路G來控制各自產(chǎn)生的磁力的打開/關(guān)閉和各自磁力的大小。控制電路G(圖中未示出)既可以是自旋支架500的一部分，也可以是外部裝置。
下面對上述結(jié)構(gòu)的固定裝置700的動(dòng)作進(jìn)行說明。圖9和圖10示出線性平臺520和底座510沒有被固定的狀態(tài)。該狀態(tài)為普通狀態(tài)。在這里，當(dāng)對電磁鐵710和電磁鐵750施加電壓時(shí)，電磁鐵710磁力吸附到磁性板611和磁性板620上，而電磁鐵750磁力吸附到磁性板612和磁性板620上。電磁鐵710、磁性板611、磁性板612以及磁性板620具有導(dǎo)電性。由此和第一實(shí)施方式相同，電磁鐵710與磁性板611和磁性板620的吸附狀態(tài)以及電磁鐵750與磁性板612和磁性板620的吸附狀態(tài)可以進(jìn)行電氣確認(rèn)。由于磁性板620被固定在線性平臺520上，磁性板611和磁性板612被固定在底座510上，因此線性平臺520通過電磁鐵710和電磁鐵750而與底座510固定為一體。由于連接線性平臺520和底座510的電磁鐵710以及電磁鐵750是非可動(dòng)部分的一個(gè)固體，因此線性平臺520和底座510被強(qiáng)有力地結(jié)合成一體，從而處于穩(wěn)定的固定狀態(tài)。此外，也不會(huì)因固定而向線性平臺520和底座510施壓。另外，電磁鐵710和電磁鐵750在吸附到磁性板620等上之前產(chǎn)生強(qiáng)磁力，而在吸附之后減弱所產(chǎn)生的磁力。當(dāng)解除電磁鐵710和電磁鐵750的吸附狀態(tài)時(shí)，向電磁鐵710和電磁鐵750施加的電壓變?yōu)榱悖⒂呻姶盆F740和電磁鐵780將電磁鐵710和電磁鐵750強(qiáng)行從磁性板620等上分離。
在第一實(shí)施方式和第三實(shí)施方式中，由于磁性板只要是電磁鐵可以吸附的磁性體即可，因此也可以由鎳或鈷來制成，而并不僅限于鐵。
此外在第二實(shí)施方式中，由于平滑板只要是吸附塊可以吸附的光滑的平面即可，因此也可以由鐵等其它金屬或樹脂等制成，而不僅限于鋁。
另外，在從第一實(shí)施方式到第三實(shí)施方式中的各個(gè)實(shí)施方式中，吸附狀態(tài)的確認(rèn)也可以采用光學(xué)方法或機(jī)械方法，而不僅限于電氣方法。
另外，在從第一實(shí)施方式到第三實(shí)施方式中的各個(gè)實(shí)施方式中，吸附部分的形狀不是必須為平面。
另外，在從第一實(shí)施方式到第三實(shí)施方式中的各個(gè)實(shí)施方式中，由于絕緣體只要是具有電絕緣效果的材料即可，因此也可以由半導(dǎo)體或橡膠等來制成。
另外，在從第一實(shí)施方式到第三實(shí)施方式中的各個(gè)實(shí)施方式中，固定裝置也可以不依靠電磁力和負(fù)壓，而是采用其它的吸附方法。
權(quán)利要求
1.一種用于測試磁頭或磁盤的自旋支架，包括底座和通過滾動(dòng)軸承而被安裝在所述底座上的平臺，所述自旋支架的特征在于，其具有固定裝置，該固定裝置通過與所述底座的吸附以及與所述平臺的吸附而與所述底座以及所述平臺成為一體，由此將所述平臺固定在所述底座上，并能夠控制與所述底座和所述平臺的一體化以及與所述底座和所述平臺的分離。
2.如權(quán)利要求1所述的自旋支架，其特征在于，所述固定裝置的通過吸附來連接所述底座和所述平臺的部分由非可動(dòng)部的固體來構(gòu)成。
3.如權(quán)利要求1或2所述的自旋支架，其特征在于，還包括對所述固定裝置和所述底座的吸附狀態(tài)或所述固定裝置和所述平臺的吸附狀態(tài)進(jìn)行確認(rèn)的裝置。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的自旋支架，其特征在于，在所述固定裝置和所述底座以及所述平臺結(jié)合成為一體之后，所述固定裝置和所述底座相吸附的力以及所述固定裝置和所述平臺相吸附的力與結(jié)合成為一體之前相比變小了。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的自旋支架，其特征在于，所述平臺具有第一磁性體，所述底座具有第二磁性體，所述固定裝置具有在電磁力的作用下吸附在所述第一磁性體以及所述第二磁性體上的電磁鐵。
6.如權(quán)利要求5所述的固定裝置，其特征在于，還包括當(dāng)所述電磁鐵吸附到所述第一磁性體和所述第二磁性體上時(shí)，將所述電磁鐵從所述第一磁性體和所述第二磁性體上分離的裝置。
7.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的自旋支架，其特征在于，所述平臺具有第一平滑面，所述底座具有第二平滑面，所述固定裝置具有可通過氣壓的控制而在所述第一平滑面以及所述第二平滑面上裝卸的氣動(dòng)卡盤。
全文摘要
本發(fā)明是一種用于測試磁頭或磁盤的自旋支架，該自旋支架包括底座和通過滾動(dòng)軸承連接在底座上的平臺，并可將平臺快速且高穩(wěn)定性地固定在底座上。在本發(fā)明的自旋支架中，固定裝置被吸附連接到底座和平臺上，從而將平臺固定到底座上。
文檔編號G11B5/84GK1813287SQ20048001785
公開日2006年8月2日 申請日期2004年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月25日
發(fā)明者石本英司 申請人:安捷倫科技有限公司