專利名稱：使用擺動(dòng)信號(hào)的記錄介質(zhì)和伺服控制裝置和控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤，尤其涉及一種擺動(dòng)紋間表面(wobbled land)軌跡與擺動(dòng)紋槽(wobbled groove)軌跡具有不同相位的記錄介質(zhì)、一種利用從該記錄介質(zhì)拾取的擺動(dòng)信號(hào)穩(wěn)定地控制拾波器運(yùn)動(dòng)的伺服控制裝置、和伺服控制方法。
為了記錄和/或再現(xiàn)高清晰度電視(HDTV)水平的圖像，必需進(jìn)行大容量的記錄和高速的再現(xiàn)。于是，對(duì)能夠在諸如可重寫或只讀高密度數(shù)字通用光盤(HD-DVD)上進(jìn)行大量信息記錄和/或再現(xiàn)的多介質(zhì)技術(shù)的要求日益增加。
為了滿足大量記錄和高速再現(xiàn)的要求，已經(jīng)提出了各種方法。例如，可以增加光盤的面積或提高轉(zhuǎn)動(dòng)速度，但是這種作法不實(shí)用，因?yàn)樗鼤?huì)增大光盤或光盤播放器的體積、并增加制造成本。因此，增加單位面積的記錄密度更加有效和可行。
激光點(diǎn)的尺寸與激光波長(zhǎng)(λ)成正比、而與物鏡的數(shù)值孔徑(NA)成反比。于是，為了提高單位面積的記錄密度，必須減小激光波長(zhǎng)或用高NA的物鏡減小軌跡間距。在即將可能被廣泛使用的可重寫或只讀HD-DVDs中，軌跡間距減小到0.30-0.34μm。因此，將光學(xué)拾取單元(下文簡(jiǎn)稱為拾波器)移動(dòng)到寫入或讀出數(shù)據(jù)的所需位置、并無誤差地進(jìn)行定位是重要的。
在使用紋間表面/紋槽記錄方法的光盤中，拾波器對(duì)基本記錄單元或特定區(qū)域的定位能力受到尋址坑或紋槽的結(jié)構(gòu)和排列的極大影響。所以，在采用紋間表面/紋槽記錄方法的常規(guī)光盤中，為了對(duì)物理區(qū)進(jìn)行無誤差定位，在尋址過程中使用地理地址區(qū)和具有預(yù)定頻率的擺動(dòng)信號(hào)。在物理識(shí)別(ID)標(biāo)題記錄在光盤上的情況下，必須從被記錄的紋間表面或紋槽中心起、以二分之一軌跡間距移動(dòng)該物理識(shí)別標(biāo)題。于是，物理識(shí)別(ID)標(biāo)題的定位在訪問所需的紋間表面或紋槽中被使用。
但是，由于物理識(shí)別(ID)標(biāo)題(下文簡(jiǎn)稱為PID)從被記錄的紋間表面或紋槽中心起、以二分之一軌跡間距移動(dòng)，在單光束原版制作時(shí)，光密度和基于光束移動(dòng)的位置控制在紋槽軌跡的形成與PID的形成之間是不同的。既使在雙光束原版制作時(shí)，準(zhǔn)確地控制光束位置和光密度也十分困難。另外，如果光盤產(chǎn)生傾斜，由于紋間表面和紋槽中的PIDs的再現(xiàn)特性彼此不同，所以必須使用附加的傾斜校正方法。
為了解決上述問題，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有擺動(dòng)紋槽軌跡的記錄介質(zhì)，該擺動(dòng)紋槽軌跡的相位與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位不同、但其頻率與該擺動(dòng)紋間表面軌跡所具有的預(yù)定頻率相同。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一個(gè)利用從記錄介質(zhì)拾取的擺動(dòng)信號(hào)對(duì)拾波器的運(yùn)動(dòng)進(jìn)行控制、進(jìn)而穩(wěn)定地將拾波器移動(dòng)到所需的物理區(qū)域的伺服控制裝置，該記錄介質(zhì)的擺動(dòng)紋槽軌跡的相位與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位不同、但其頻率與該擺動(dòng)紋間表面軌跡所具有的預(yù)定頻率相同。
本發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一個(gè)利用從記錄介質(zhì)拾取的擺動(dòng)信號(hào)對(duì)拾波器的運(yùn)動(dòng)進(jìn)行控制、進(jìn)而穩(wěn)定地將拾波器移動(dòng)到所需的物理區(qū)域的伺服控制方法，該記錄介質(zhì)的擺動(dòng)紋槽軌跡的相位與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位不同、但其頻率與該擺動(dòng)紋間表面軌跡所具有的預(yù)定頻率相同。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的第一個(gè)目的，提供一種具有紋間表面軌跡和紋槽軌跡的記錄介質(zhì)，其中紋間表面軌跡和紋槽軌跡均擺動(dòng)，單個(gè)紋槽軌跡或單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同，而其它單個(gè)軌跡的擺動(dòng)相位相同。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種具有紋間表面軌跡和紋槽軌跡的記錄介質(zhì)，其中紋間表面軌跡和紋槽軌跡均擺動(dòng)，單個(gè)紋槽軌跡和單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的第二個(gè)目的，在具有用于跟蹤光記錄介質(zhì)的拾取單元的光記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備中，提供一個(gè)伺服控制裝置，包含光電檢測(cè)器，用于從光記錄介質(zhì)輸出兩個(gè)通道的光信號(hào)；在該記錄介質(zhì)中，單個(gè)紋槽軌跡或單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同、而其它單個(gè)軌跡的擺動(dòng)相位相同，或單個(gè)紋槽軌跡和單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同；一個(gè)擺動(dòng)信號(hào)檢測(cè)器從兩個(gè)通道的至少一個(gè)通道中檢測(cè)擺動(dòng)信號(hào)，一個(gè)擺動(dòng)信號(hào)確定器確定當(dāng)前被拾取單元跟蹤的軌跡是紋槽軌跡還是紋間表面軌跡，并產(chǎn)生一個(gè)確定信號(hào)；控制器產(chǎn)生一個(gè)用于伺服控制的控制信號(hào)，以便利用該確定信號(hào)和檢測(cè)的擺動(dòng)信號(hào)移動(dòng)拾波器。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的第三個(gè)目的，提供一種控制光記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備的方法，該設(shè)備具有跟蹤光記錄介質(zhì)的拾波器，該方法的步驟包括(a)從光記錄介質(zhì)輸出兩個(gè)通道的光信號(hào)，在該記錄介質(zhì)中，單個(gè)紋槽軌跡或單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同、而其它單個(gè)軌跡的擺動(dòng)相位相同，或單個(gè)紋槽軌跡和單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同；(b)從兩個(gè)通道的至少一個(gè)通道中檢測(cè)擺動(dòng)信號(hào)；(c)確定當(dāng)前被拾波器跟蹤的軌跡是紋槽軌跡還是紋間表面軌跡，并產(chǎn)生一個(gè)確定信號(hào)；(d)利用該確定信號(hào)和檢測(cè)的擺動(dòng)信號(hào)對(duì)拾波器的移動(dòng)進(jìn)行伺服控制。
通過下面結(jié)合附圖對(duì)優(yōu)選實(shí)施例的具有說明，本發(fā)明的以上目的和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚。
圖1表示具有擺動(dòng)紋槽軌跡、擺動(dòng)紋間表面軌跡和物理識(shí)別(PID)區(qū)的普通記錄介質(zhì)；圖2A和2B表示從圖1所示的記錄介質(zhì)拾取的、從第一和第二通道輸出的波形；圖3表示本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)的擺動(dòng)紋槽軌跡與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位不同；圖4A和4B表示從圖3所示的記錄介質(zhì)拾取的、從第一和第二通道輸出的波形；圖5表示本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)的擺動(dòng)紋槽軌跡與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位不同；圖6A和6B表示從圖5所示的記錄介質(zhì)拾取的、從第一和第二通道輸出的波形；圖7是本發(fā)明利用擺動(dòng)信號(hào)對(duì)拾取進(jìn)行取控制的伺服控制裝置的電路圖。
下面將結(jié)合


本發(fā)明的一種擺動(dòng)紋間表面軌跡與擺動(dòng)紋槽軌跡具有不同相位的記錄介質(zhì)、一個(gè)使用擺動(dòng)信號(hào)的伺服控制裝置和一種伺服控制方法。
為了充分理解本發(fā)明，首先參考圖1和2說明具有擺動(dòng)紋槽軌跡的普通記錄介質(zhì)以及從該記錄介質(zhì)中拾取的擺動(dòng)信號(hào)。
圖1表示具有擺動(dòng)紋槽軌跡、擺動(dòng)表面軌跡和物理識(shí)別(PID)區(qū)的普通記錄介質(zhì)，其中的各擺動(dòng)紋槽軌跡和擺動(dòng)表面軌跡均具有相同的頻率和相位。PID從紋間表面軌跡或紋槽軌跡的中心以二分之一軌跡間距移動(dòng)后被記錄，它用于訪問所需的紋間表面或紋槽軌跡。換言之，通過預(yù)刻在物理地址區(qū)的第一PID到第四PID的位置可以知曉當(dāng)前拾取的軌跡是紋間表面軌跡、還是紋道軌跡，該位置分別由圖中的標(biāo)題1字段、標(biāo)題2字段、標(biāo)題3字段和標(biāo)題4字段表示。另外，第一PID到第四PID的位置也可用作紋間表面/紋槽切換信息。圖1中，標(biāo)號(hào)N表示每個(gè)軌跡的扇區(qū)數(shù)。圖1所示的記錄介質(zhì)還包括一個(gè)鄰接PIDs的鏡面字段。
如果軌跡如圖1所示地?cái)[動(dòng)，由于光從紋間表面軌跡和紋槽軌跡衍射，則會(huì)從由雙分光電二極管構(gòu)成的光電檢測(cè)器輸出兩個(gè)信號(hào)，從其差信號(hào)可得到擺動(dòng)信號(hào)。使用該擺動(dòng)信號(hào)可使光軸偏移或使光盤傾斜。換言之，如圖2A所示，相對(duì)于光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)的總和，在第一通道(CH1)中，紋槽軌跡和紋間表面軌跡上均不產(chǎn)生擺動(dòng)信號(hào)。如圖2B所示，對(duì)于光電檢測(cè)器的兩信號(hào)之間的差值，在第二通道(CH2)中產(chǎn)生擺動(dòng)信號(hào)。所以，擺動(dòng)信號(hào)只相對(duì)因平行于軌跡的線而位于相對(duì)側(cè)的信號(hào)之間的差值、而在第二通道CH2中的紋槽軌跡和紋間表面軌跡上產(chǎn)生。這里，從紋間表面軌跡(下文簡(jiǎn)稱“紋間表面擺動(dòng)信號(hào)”)檢測(cè)的擺動(dòng)信號(hào)與從紋槽軌跡(下文簡(jiǎn)稱為“紋槽擺動(dòng)信號(hào)”)檢測(cè)的擺動(dòng)信號(hào)具有相同的頻率和相位。
圖3表示本發(fā)明的一個(gè)記錄介質(zhì)實(shí)例，該記錄介質(zhì)的擺動(dòng)紋槽軌跡與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位不同。一個(gè)可用于本發(fā)明的光盤采用聚碳酸酯基底，其直徑120mm、厚度0.6mm、和軌跡間距0.34μm。這里所用光源的波長(zhǎng)是410nm，閱讀功率是0.5mW。
在圖3中，形成在紋槽軌跡上的擺動(dòng)圖案與形成在紋間表面軌跡上的擺動(dòng)圖案的相位差是π，包含軌跡和區(qū)段號(hào)的PIDs位于軌跡的中心。在多個(gè)標(biāo)題字段中，標(biāo)題字段的上半段以軌跡間距從標(biāo)題字段的下半段被移動(dòng)。這里，如圖1所示，PID在從紋間表面軌跡或紋槽軌跡以二分之一的軌跡間距移動(dòng)之后，該P(yáng)ID可以被記錄。
于是，如圖4A所示，在用于記錄和/或再現(xiàn)具有圖3所示結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)的設(shè)備中，與紋間表面擺動(dòng)信號(hào)相位不同的紋槽擺動(dòng)信號(hào)和紋間表面擺動(dòng)信號(hào)輸出到與從光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)的總和相對(duì)應(yīng)的第一通道CH1。在圖4A中，紋槽擺動(dòng)信號(hào)的波形用細(xì)線表示，而紋間表面擺動(dòng)信號(hào)的波形用粗線表示，該表示也可以顛倒。如圖4B所示，在與從光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)間的差值相對(duì)應(yīng)的第二通道CH2中，擺動(dòng)信號(hào)既不從紋槽軌跡、也不從紋間表面軌跡輸出，即信號(hào)被相互抵消。因此，所有信號(hào)均可利用輸出到第一通道CH1的包括用戶數(shù)據(jù)、擺動(dòng)信號(hào)和PIDs的信號(hào)進(jìn)行處理。另外，紋槽軌跡或紋間表面軌跡的位置信息可以利用與輸出到第一通道CH1的擺動(dòng)信號(hào)的相位差進(jìn)行檢測(cè)。
參看圖3，由于PIDs位于軌跡中心，所以在原版制作期間不必反射光束。既便使用兩個(gè)光束，也只需控制光束強(qiáng)度而不必控制位置精度。
圖5表示本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)的擺動(dòng)槽道軌跡與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位不同，單個(gè)紋槽軌跡的擺動(dòng)具有π相位差，單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)的相位相同。另外，即使在同一紋槽軌跡中、擺動(dòng)信號(hào)的相位也在徑向交替地反向，即使在同一紋間表面軌跡中、擺動(dòng)信號(hào)的相位也在徑向交替地反向。換言之，紋槽軌跡與最接近的紋槽軌跡之間的擺動(dòng)相位差、以及紋間表面軌跡與最接近的紋間表面軌跡之間的擺動(dòng)相位差均是π。
另一方面，單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)可以具有π相位差，而單個(gè)紋槽軌跡的擺動(dòng)的相位相同。類似地，紋槽軌跡與緊接的紋槽軌跡之間的擺動(dòng)相位差、以及紋間表面軌跡與緊接的紋間表面軌跡之間的擺動(dòng)相位差均是π。
包含軌跡和區(qū)段號(hào)的PID區(qū)與軌跡中心重合。此外，如圖1所示，PID區(qū)可以從紋間表面軌跡或紋槽軌跡的中心移動(dòng)二分之一的軌跡間距。如果PID區(qū)與軌跡中心重合，則在原版制作時(shí)不需光束折射、也不需使用兩個(gè)光束。即便使用兩個(gè)光束，也只需控制光束強(qiáng)度而不必進(jìn)行位置控制。
于是，在用于從具有圖5所示結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)進(jìn)行記錄和/或再現(xiàn)的設(shè)備中，即單個(gè)紋槽軌跡的擺動(dòng)的相位差是π、而單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)的相位相同，紋槽擺動(dòng)信號(hào)輸出到與從光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)總和相對(duì)應(yīng)的第一通道CH1，如圖6A所示。另外，如圖6B所示，紋間表面擺動(dòng)信號(hào)輸出到與從光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)之間的相位差相對(duì)應(yīng)的第二通道CH2。類似地，在單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)的相位差是π、而單個(gè)紋槽軌跡的擺動(dòng)的相位相同的記錄介質(zhì)中，紋間表面擺動(dòng)信號(hào)輸出到第一通道CH1、紋槽擺動(dòng)信號(hào)輸出到第二通道CH2。
因此，可以利用第一和第二通道CH1和CH2的擺動(dòng)信號(hào)確定當(dāng)前所拾取的軌跡是紋槽軌跡、還是紋間表面軌跡。并且，可以利用輸出到第一和第二通道CH1和CH2的擺動(dòng)信號(hào)和在軌跡中心產(chǎn)生的PID、以穩(wěn)定的方式控制拾波器到所需物理區(qū)域的移動(dòng)。此外，不僅在可重寫光盤、而且在只讀光盤中，當(dāng)拾波器的位置從紋間表面軌跡轉(zhuǎn)換到紋槽軌跡時(shí)、或當(dāng)拾波器的位置從紋槽軌跡轉(zhuǎn)換紋間表面軌跡時(shí)，從第一和第二通道CH1和CH2輸出的擺動(dòng)信號(hào)可以有效地用于伺服控制。
圖7是在使用圖5所示的記錄介質(zhì)的情況下，本發(fā)明用于控制拾波器的伺服控制裝置的方框圖。在圖7中，伺服控制裝置包括記錄介質(zhì)102、拾波器104、光電檢測(cè)器118、第一和第二差分放大器120和122、第一和第二抽樣保持(S/H)電路124和126、擺動(dòng)信號(hào)確定器128、控制器130、和伺服裝置132。這里，第一和第二差分放大器120和122、與第一和第二抽樣保持(S/H)電路124和126可以組合成擺動(dòng)信號(hào)檢測(cè)器。
下面將說明拾波器104的激光束流。即，電極化面平行于紋間表面的線偏振光束從半導(dǎo)體激光器106發(fā)射出來。于是，橢圓形發(fā)散的該偏振光束由也稱作耦合透鏡的準(zhǔn)直器108進(jìn)行準(zhǔn)直。
在這種方式中，偏振面平行于紋間表面的線偏振光束通過分束器110和由1/4波片112構(gòu)成的光隔離器，而后變?yōu)閳A偏振光束。該圓偏振光束從光盤反射、且再次通過1/4波片112，并變成偏振面垂直于紋間表面的線偏振光束。之后，線偏振光束從分束器110反射，并導(dǎo)向也稱為檢測(cè)透鏡的聚焦透鏡116。這里，入射到光盤102的光束是偏振光束，但是非偏振光束也可以入射到光盤102。
光電檢測(cè)器118將通過聚焦透鏡116發(fā)射的光信號(hào)分解，并把兩個(gè)分解信號(hào)提供給第一和第二差分放大器120和122。第一差分放大器120通過第一通道CH1將光電檢測(cè)器118的兩個(gè)信號(hào)的總和提供給第一S/H電路124，第二差分放大器122通過第二通道CH2將光電檢測(cè)器118的兩個(gè)信號(hào)之間的差值提供給第二S/H電路126。
從第一S/H電路124輸出、并從第一通道CH1檢測(cè)的紋槽(或紋間表面)擺動(dòng)信號(hào)被提供到擺動(dòng)信號(hào)確定器128和控制器130。另外，通過第一S/H電路124而從第一通道CH1檢測(cè)的PID提供到控制器130，再現(xiàn)信號(hào)被提供到再現(xiàn)信號(hào)處理器(未示出)。從第二S/H電路126輸出、并從第二通道CH2檢測(cè)的紋間表面(或紋槽)擺動(dòng)信號(hào)被提供到擺動(dòng)信號(hào)確定器128和控制器130?？刂破?30控制第一和第二S/H電路124和126的定時(shí)。
如果擺動(dòng)信號(hào)從第一通道CH1被檢測(cè)，則擺動(dòng)信號(hào)確定器128確定該擺動(dòng)信號(hào)在紋槽(或紋間表面)軌跡中。如果擺動(dòng)信號(hào)從第二通道CH2被檢測(cè)，則擺動(dòng)信號(hào)確定器128確定該擺動(dòng)信號(hào)在紋間表面(或紋槽)軌跡中?？刂破?30產(chǎn)生一個(gè)控制伺服裝置132的控制信號(hào)，以便根據(jù)從擺動(dòng)信號(hào)確定器128提供的確定信號(hào)、通過第一S/H電路124而從第一通道CH1檢測(cè)的紋槽(或紋間表面)擺動(dòng)信號(hào)和PID、和通過第二S/H電路126而從第二通道CH2檢測(cè)的紋間表面(或紋槽)擺動(dòng)信號(hào)，將拾波器穩(wěn)定地移動(dòng)到所需的物理區(qū)域。該信號(hào)可以是控制主軸電機(jī)轉(zhuǎn)速的信號(hào)、或是控制伺服跟蹤的信號(hào)。
因此，在本發(fā)明中，如果拾波器當(dāng)前跟蹤紋槽(或紋間表面)軌跡，則擺動(dòng)信號(hào)輸出到第一通道CH1。如果拾波器當(dāng)前跟蹤紋間表面(或紋槽)軌跡，則擺動(dòng)信號(hào)輸出到第二通道CH2。另外，由于單個(gè)紋槽軌跡和單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位是交替的，所以能夠確定紋槽或紋間表面軌跡號(hào)是奇數(shù)號(hào)、還是偶數(shù)號(hào)，從而確保尋址。
此外，在采用紋間表面/紋槽記錄方法的只讀光盤中，第一和第二通道的擺動(dòng)信號(hào)被用作紋槽軌跡與紋間表面軌跡之間的轉(zhuǎn)換信號(hào)。所以，在制作原版時(shí)，只使用軌跡號(hào)和扇區(qū)號(hào)就可以將帶有所需信息的PID記錄在準(zhǔn)確位置。
如上所述，利用兩個(gè)通道的擺動(dòng)信號(hào)、從擺動(dòng)紋槽軌跡與擺動(dòng)紋間表面軌跡具有不同相位的記錄介質(zhì)上確定紋槽軌跡或紋間表面軌跡。另外，可以確定紋槽(或紋間表面)軌跡號(hào)是奇數(shù)號(hào)、還是偶數(shù)號(hào)。因此，可保證尋址并有效地進(jìn)行伺服控制。
權(quán)利要求
1.一種具有紋間表面軌跡和紋槽軌跡的記錄介質(zhì)，其中，所述的紋間表面軌跡和紋槽軌跡是擺動(dòng)的，單個(gè)紋槽軌跡的擺動(dòng)或單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)的相位不同，而其它單個(gè)軌跡擺動(dòng)的相位相同。
2.如權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中，在徑向上、形成在紋道軌跡上的每個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位差是π，在徑向上、形成在紋間表面軌跡上的每個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位差是π。
3.如權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中，單個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位不同，單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位相同。
4.如權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中，單個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位差是π。
5.如權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中，單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位不同，單個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位相同。
6.如權(quán)利要求5的記錄介質(zhì)，其中，單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位差是π。
7.如權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中，用于儲(chǔ)存軌跡號(hào)和扇區(qū)號(hào)的物理識(shí)別標(biāo)題預(yù)刻在所述軌跡中心。
8.如權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中，用于儲(chǔ)存軌跡號(hào)和扇區(qū)號(hào)的物理識(shí)別標(biāo)題從所述軌跡中心位移、而后被預(yù)刻。
9.一種具有紋間表面軌跡和紋槽軌跡的記錄介質(zhì)，其中，所述的紋間表面軌跡和紋槽軌跡是擺動(dòng)的，單個(gè)紋槽軌跡和單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)的相位不同。
10.如權(quán)利要求9的記錄介質(zhì)，其中，單個(gè)紋間表面軌跡和單個(gè)紋槽軌跡形成的擺動(dòng)的相位差分別是π。
11.如權(quán)利要求9的記錄介質(zhì)，其中，用于儲(chǔ)存軌跡號(hào)和扇區(qū)號(hào)的物理識(shí)別標(biāo)題預(yù)刻在所述的軌跡中心。
12.如權(quán)利要求9的記錄介質(zhì)，其中，用于儲(chǔ)存軌跡號(hào)和扇區(qū)號(hào)的物理識(shí)別標(biāo)題從所述軌跡中心位移、而后被預(yù)刻。
13.在具有跟蹤光記錄介質(zhì)的拾波器的光記錄和/再現(xiàn)設(shè)備中，一個(gè)伺服控制裝置包括一個(gè)光電檢測(cè)器，用于將從光記錄介質(zhì)反射的光信號(hào)輸出為兩個(gè)通道的信號(hào)，在所述的光記錄介質(zhì)中，不是單個(gè)紋槽軌跡就是單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)的相位不同、或者單個(gè)紋槽軌跡和紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位不同；一個(gè)擺動(dòng)信號(hào)檢測(cè)器，用于從所述兩個(gè)通道中的至少一個(gè)通道檢測(cè)擺動(dòng)信號(hào)；一個(gè)擺動(dòng)信號(hào)確定器，用于確定當(dāng)前被跟蹤的軌跡是紋槽軌跡還是紋間表面軌跡，并產(chǎn)生一個(gè)確定信號(hào)；一個(gè)控制器，用于產(chǎn)生進(jìn)行伺服控制的控制信號(hào)，以便利用所述的確定信號(hào)和檢測(cè)的擺動(dòng)信號(hào)移動(dòng)所述的拾波器。
14.如權(quán)利要求13的伺服控制裝置，其中，如果所述單個(gè)紋間表面軌跡和單個(gè)紋槽軌跡的擺動(dòng)的相位不同，則所述的擺動(dòng)檢測(cè)器檢測(cè)從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)總和相對(duì)應(yīng)的第一通道輸出的紋槽擺動(dòng)信號(hào)和紋間表面擺動(dòng)信號(hào)，所述檢測(cè)的紋槽擺動(dòng)信號(hào)和紋間表面擺動(dòng)信號(hào)的相位彼此不同。
15.如權(quán)利要求13的伺服控制裝置，其中，如果所述單個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位差是π、所述單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位相同、所述形成在紋槽軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋槽軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，并且如果所述形成在紋間表面軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋間表面軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，則所述擺動(dòng)信號(hào)檢測(cè)器從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)間的差值相對(duì)應(yīng)的第一通道檢測(cè)紋槽擺動(dòng)信號(hào)，且所述擺動(dòng)信號(hào)檢測(cè)器從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)的總和相對(duì)應(yīng)的第二通道檢測(cè)紋間表面擺動(dòng)信號(hào)。
16.如權(quán)利要求13的伺服控制裝置，其中，所述的控制器根據(jù)所述的確定信號(hào)和紋槽及紋間表面擺動(dòng)信號(hào)，檢測(cè)所述紋間表面軌跡和紋槽軌跡的位置、并檢測(cè)所述的紋槽/紋間表面軌跡號(hào)是奇數(shù)號(hào)還是偶數(shù)號(hào)。
17.如權(quán)利要求13的伺服控制裝置，其中，如果所述單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位差是π、所述單個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位相同、所述形成在紋槽軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋槽軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，并且如果所述形成在紋間表面軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋間表面軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，則所述擺動(dòng)信號(hào)檢測(cè)器從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)間的差值相對(duì)應(yīng)的第一通道檢測(cè)紋間表面擺動(dòng)信號(hào)，且所述擺動(dòng)信號(hào)檢測(cè)器從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)的總和相對(duì)應(yīng)的第二通道檢測(cè)紋槽擺動(dòng)信號(hào)。
18.如權(quán)利要求17的伺服控制裝置，其中，所述的控制器根據(jù)所述的確定信號(hào)和紋槽及紋間表面擺動(dòng)信號(hào)，檢測(cè)所述紋間表面軌跡和紋槽軌跡的位置、并檢測(cè)所述的紋槽/紋間表面軌跡號(hào)是奇數(shù)號(hào)還是偶數(shù)號(hào)。
19.一種用于光記錄和/或再現(xiàn)設(shè)備的伺服控制方法，該設(shè)備具有跟蹤光記錄介質(zhì)的拾波器，該伺服控制方法的步驟包括(a)經(jīng)光記錄介質(zhì)的反射輸出兩個(gè)通道的光信號(hào)，在該記錄介質(zhì)中，單個(gè)紋槽軌跡或單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同、而其它單個(gè)軌跡的擺動(dòng)相位相同，或單個(gè)紋槽軌跡和單個(gè)紋間表面軌跡的擺動(dòng)相位不同；(b)從所述的兩個(gè)通道的至少一個(gè)通道中檢測(cè)擺動(dòng)信號(hào)；(c)確定當(dāng)前被所述拾波器跟蹤的軌跡是紋槽軌跡還是紋間表面軌跡，并產(chǎn)生一個(gè)確定信號(hào)；(d)利用所述的確定信號(hào)和檢測(cè)的擺動(dòng)信號(hào)對(duì)拾波器的移動(dòng)進(jìn)行伺服控制。
20.如權(quán)利要求19的方法，其中，如果單個(gè)紋間表面軌跡和單個(gè)紋槽軌跡的擺動(dòng)的相位相同，在步驟(b)中，紋槽擺動(dòng)信號(hào)和紋間表面擺動(dòng)信號(hào)從與光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)的總和相對(duì)應(yīng)的第一通道被檢測(cè)。
21.如權(quán)利要求19的方法，其中，如果所述單個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位差是π、所述單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位相同、所述形成在紋槽軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋槽軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，并且如果所述形成在紋間表面軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋間表面軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，在步驟(b)中，紋槽擺動(dòng)信號(hào)從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)間的差值相對(duì)應(yīng)的第一通道被檢測(cè)、而紋間表面擺動(dòng)信號(hào)從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)總和相對(duì)應(yīng)的第二通道被檢測(cè)。
22.如權(quán)利要求21的方法，還包括步驟(e)根據(jù)所述的確定信號(hào)和紋槽及紋間表面擺動(dòng)信號(hào)，檢測(cè)所述紋間表面軌跡和紋槽軌跡的位置、并檢測(cè)所述的紋槽/紋間表面軌跡號(hào)是奇數(shù)號(hào)還是偶數(shù)號(hào)。
23.如權(quán)利要求19的方法，其中，如果所述單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位差是π、所述單個(gè)紋槽軌跡擺動(dòng)的相位相同、所述形成在紋間表面軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋間表面軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，并且如果所述形成在紋槽軌跡上的擺動(dòng)與最接近的紋槽軌跡的擺動(dòng)相比在徑向上的相位差是π，在步驟(b)中，紋槽表面擺動(dòng)信號(hào)從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)間的差值相對(duì)應(yīng)的第一通道被檢測(cè)、而紋槽擺動(dòng)信號(hào)從與所述光電檢測(cè)器輸出的兩個(gè)信號(hào)總和相對(duì)應(yīng)的第二通道被檢測(cè)。
24.如權(quán)利要求23的方法，還包括步驟(e)根據(jù)所述的確定信號(hào)和紋槽及紋間表面擺動(dòng)信號(hào)，檢測(cè)所述紋間表面軌跡和紋槽軌跡的位置、并檢測(cè)所述的紋槽/紋間表面軌跡號(hào)是奇數(shù)號(hào)還是偶數(shù)號(hào)。
全文摘要
一種擺動(dòng)紋槽軌跡與擺動(dòng)紋間表面軌跡的相位差不同的記錄介質(zhì)、使用擺動(dòng)信號(hào)的伺服控制裝置和伺服控制方法。所述的記錄介質(zhì)具有紋間表面軌跡和紋槽軌跡,所述紋間表面軌跡和紋槽軌跡是擺動(dòng)的,所述單個(gè)紋槽軌跡或單個(gè)紋間表面軌跡擺動(dòng)的相位不同,而其它單個(gè)軌跡擺動(dòng)的相位相同。因此,能夠可靠地確定當(dāng)前被拾波器跟蹤的紋槽(或紋間表面)軌跡是紋槽軌跡還是紋間表面軌跡,因此可以確保尋址、并有效地進(jìn)行伺服控制。
文檔編號(hào)G11B7/24GK1264111SQ00104518
公開日2000年8月23日 申請(qǐng)日期2000年2月5日 優(yōu)先權(quán)日1999年2月5日
發(fā)明者李坰根 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社