在該校正區(qū)塊中的所述校正觸碰，而獲得多個(gè)校正坐標(biāo)位置；以及通過(guò)分別比對(duì)所述校正坐標(biāo)位置與多個(gè)默認(rèn)坐標(biāo)位置，來(lái)計(jì)算該變形誤差量，其中該校正區(qū)塊是由所述默認(rèn)坐標(biāo)位置所圍成的區(qū)塊。3.如權(quán)利要求2所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，該變形誤差量包括一第一誤差程度值與一第二誤差程度值，該校正參數(shù)組包括多個(gè)第一偏差值與多個(gè)第二偏差值， 上述通過(guò)分別比對(duì)所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置，來(lái)計(jì)算該變形誤差量的步驟包括: 分別計(jì)算所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置在一第一方向上的所述第一偏差值； 分別計(jì)算所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置在一第二方向上的所述第二偏差值； 基于所述第一偏差值獲得該第一誤差程度值；以及 基于所述第二偏差值獲得該第二誤差程度值。4.如權(quán)利要求3所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，該校正區(qū)塊為矩形，所述校正觸碰位于該校正區(qū)塊的4個(gè)角，所述默認(rèn)坐標(biāo)位置為該校正區(qū)塊的4個(gè)角的位置， 該第一誤差程度值的計(jì)算式為: Diff_X = I Δ Xl-Δ X2 | +1 Δ Xl-Δ Χ3 | +1 Δ Xl-Δ Χ4 | +1 Δ Χ2_ Δ Χ3 | +1 Δ Χ2_ Δ Χ4 | +1 Λ X3- Δ Χ4 ； 該第二誤差程度值的計(jì)算式為: Diff_Y = I Δ Yl-Δ Υ2 | +1 Δ Yl-Δ Υ3 | +1 Δ Yl-Δ Υ4 | +1 Δ Υ2_ Δ Υ3 | +1 Δ Υ2_ Δ Υ4 | +1 Λ Y3- Δ Υ4 ； 其中，Diff_X為該第一誤差程度值，ΛΧ1?ΛX4分別為所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置在該第一方向上的所述第一偏差值； Diff_Y為該第二誤差程度值，ΛΥ1?Λ Y4分別為所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置在該第二方向上的所述第二偏差值。5.如權(quán)利要求3所述的坐標(biāo)校正方法,其特征在于，該預(yù)設(shè)閾值包括一第一閾值與一第二閾值， 上述判斷該變形誤差量是否大于該預(yù)設(shè)閾值的步驟包括: 判斷該第一誤差程度值是否大于該第一閾值；以及 判斷該第二誤差程度值是否大于該第二閾值， 其中，若該第一誤差程度值大于該第一閾值或該第二誤差程度值大于該第二閾值，將該校正區(qū)塊切割為多個(gè)。6.如權(quán)利要求1所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，若該變形誤差量大于該預(yù)設(shè)閾值，還包括: (a)將該校正區(qū)塊切割為MXN個(gè)，而獲得所述切割后校正區(qū)塊；以及 (b)重新通過(guò)檢測(cè)該使用者在所述切割后校正區(qū)塊各自的所述校正觸碰，來(lái)計(jì)算所述切割后校正區(qū)塊各自的該變形誤差量； 其中，在該變形誤差量大于該預(yù)設(shè)閾值的情況下重復(fù)執(zhí)行上述步驟(a)?(b)，直到上述切割后校正區(qū)塊各自的該變形誤差量小于或等于該預(yù)設(shè)閾值。7.如權(quán)利要求1所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，還包括: 通過(guò)檢測(cè)該使用者的該觸碰行為，獲得該觸碰行為的一系統(tǒng)坐標(biāo)位置，其中該系統(tǒng)坐標(biāo)位置位于上述校正區(qū)塊及上述切割后校正區(qū)塊其中的一坐落區(qū)塊； 取得該坐落區(qū)塊對(duì)應(yīng)的該校正參數(shù)組；以及 以該校正參數(shù)組來(lái)校正該系統(tǒng)坐標(biāo)位置。8.如權(quán)利要求7所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，上述校正該系統(tǒng)坐標(biāo)位置的步驟還包括: 基于該系統(tǒng)坐標(biāo)位置與其所位于的該坐落區(qū)塊的多個(gè)邊的距離，獲得多個(gè)權(quán)重值；以及 依據(jù)該系統(tǒng)坐標(biāo)位置所位于的該坐落區(qū)塊的該校正參數(shù)組以及所述權(quán)重值，校正該系統(tǒng)坐標(biāo)位置。9.如權(quán)利要求8所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，上述基于該系統(tǒng)坐標(biāo)位置與其所位于的該坐落區(qū)塊的所述邊的距離，獲得所述權(quán)重值的步驟包括: 計(jì)算該系統(tǒng)坐標(biāo)位置與在一第一方向上相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比； 計(jì)算該系統(tǒng)坐標(biāo)位置在一第二方向上與另外相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比；以及 依據(jù)上述距離比來(lái)決定所述權(quán)重值。10.如權(quán)利要求9所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，該系統(tǒng)坐標(biāo)位置為(Tx，Ty)，而校正后的坐標(biāo)位置為(Τχ+Λ X，Ty+Λ Y)，ΛΧ與Λ Y的計(jì)算式為:ΔΧ = [(ΔΧ1ΧΨ3χ+ΔΧ3Xfflx) XW2y]+ [ ( ΔΧ2XW4x+ΔX4XW2x) Xffly]；ΔΥ = [(ΔΥ1ΧΨ2γ+ΔΥ2 Xffly) XW3y]+ [ ( Δ Υ3 XW4y+Δ Y4XW3y) Xfflx]； 其中，該校正參數(shù)組包括ΔΧ1?ΛΧ4與ΛΥ1?ΛΥ4，ΛΧ1?ΛΧ4分別為基于該使用者在該坐落區(qū)塊中的所述校正觸碰而獲得的多個(gè)校正坐標(biāo)位置與多個(gè)默認(rèn)坐標(biāo)位置在該第一方向上的多個(gè)第一偏差值，Λ Yl?Λ Υ4分別為所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置在該第二方向上的多個(gè)第二偏差值， 而該系統(tǒng)坐標(biāo)位置與在該第一方向上相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比為W1X:W3X以及W2x:W4x,其中 fflx+W3x = W2x+W4x = I ； 而該系統(tǒng)坐標(biāo)位置與在該第二方向上另外相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比為Wly:W2y以及W3y:W4y,其中 ffly+W2y = W3y+W4y = I。11.如權(quán)利要求2所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，上述通過(guò)分別比對(duì)所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置，來(lái)計(jì)算該變形誤差量的步驟包括: 依據(jù)所述校正坐標(biāo)位置，計(jì)算一第一面積； 依據(jù)所述默認(rèn)坐標(biāo)位置，計(jì)算一第二面積；以及 計(jì)算該第一面積與該第二面積的絕對(duì)差值，而以該絕對(duì)差值作為該變形誤差量。12.如權(quán)利要求1所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，該校正區(qū)塊為矩形，而在通過(guò)檢測(cè)該使用者在該校正區(qū)塊中的所述校正觸碰的步驟之前還包括: 切割一顯示畫(huà)面為MXN個(gè)上述校正區(qū)塊，以分別計(jì)算每一上述校正區(qū)塊的該變形誤差量。13.如權(quán)利要求1所述的坐標(biāo)校正方法，其特征在于，該一觸控裝置為光學(xué)式觸控裝置。14.一種觸控裝置，其特征在于，包括: 一顯示單元； 一獲得單元，獲得該顯示單元前方的一觸控對(duì)象的影像；以及 一控制單元，耦接該獲得單元，包括: 一位置檢測(cè)模塊，分析該獲得單元所獲得的該影像，借此來(lái)獲得一用戶(hù)通過(guò)該觸控對(duì)象在一校正區(qū)塊中進(jìn)行多個(gè)校正觸碰對(duì)應(yīng)的多個(gè)位置； 一校正計(jì)算模塊，在一校正程序中，依據(jù)該用戶(hù)在該校正區(qū)塊中的所述校正觸碰，計(jì)算該校正區(qū)塊的一變形誤差量，并且判斷該變形誤差量是否大于一預(yù)設(shè)閾值，若該變形誤差量大于該預(yù)設(shè)閾值，將該校正區(qū)塊切割為多個(gè)切割后校正區(qū)塊，并且重新通過(guò)檢測(cè)該使用者在所述切割后校正區(qū)塊各自的所述校正觸碰，來(lái)計(jì)算每一所述切割后校正區(qū)塊各自的該變形誤差量；若該變形誤差量小于或等于該預(yù)設(shè)閾值，取得該校正區(qū)塊的一校正參數(shù)組正；以及 一位置校正模塊，在一操作程序中，基于該校正參數(shù)組來(lái)對(duì)該用戶(hù)通過(guò)該觸控對(duì)象的觸碰行為進(jìn)行校正。15.如權(quán)利要求14所述的觸控裝置，其特征在于，該變形誤差量包括一第一誤差程度值與一第二誤差程度值，該校正參數(shù)組包括多個(gè)第一偏差值與多個(gè)第二偏差值，該預(yù)設(shè)閾值包括一第一閾值與一第二閾值， 該位置檢測(cè)模塊檢測(cè)該用戶(hù)在該校正區(qū)塊中的所述校正觸碰，而獲得多個(gè)校正坐標(biāo)位置，其中該校正區(qū)塊是由多個(gè)默認(rèn)坐標(biāo)位置所圍成的區(qū)塊； 該校正計(jì)算模塊分別計(jì)算所述校正坐標(biāo)位置與所述默認(rèn)坐標(biāo)位置在一第一方向上的所述第一偏差值以及在一第二方向上的所述第二偏差值，分別基于所述第一偏差值與所述第二偏差值獲得該第一誤差程度值與該第二誤差程度值，并且判斷該第一誤差程度值是否大于該第一閾值，以及判斷該第二誤差程度值是否大于該第二閾值， 在該第一誤差程度值大于該第一閾值或該第二誤差程度值大于該第二閾值的情況下，該校正計(jì)算模塊判定該變形誤差量大于該預(yù)設(shè)閾值。16.如權(quán)利要求14所述的觸控裝置，其特征在于， (a)該校正計(jì)算模塊在該變形誤差量大于該預(yù)設(shè)閾值的情況下，將該校正區(qū)塊切割為MXN個(gè)，而獲得所述切割后校正區(qū)塊； (b)該位置檢測(cè)模塊重新檢測(cè)該用戶(hù)在所述切割后校正區(qū)塊各自的所述校正觸碰，使得該校正計(jì)算模塊計(jì)算所述切割后校正區(qū)塊各自的該變形誤差量； 而在該變形誤差量大于該預(yù)設(shè)閾值的情況下，該校正計(jì)算模塊與該位置計(jì)算模塊重復(fù)執(zhí)行上述步驟(a)?(b)，直到上述切割后校正區(qū)塊各自的該變形誤差量小于或等于該預(yù)設(shè)閾值。17.如權(quán)利要求14所述的觸控裝置，其特征在于， 該位置檢測(cè)模塊在該操作程序中通過(guò)檢測(cè)該使用者的該觸碰行為，獲得該觸碰行為的一系統(tǒng)坐標(biāo)位置，其中該系統(tǒng)坐標(biāo)位置位于上述校正區(qū)塊及上述切割后校正區(qū)塊其中的一坐落區(qū)塊； 該位置校正模塊取得該坐落區(qū)塊對(duì)應(yīng)的該校正參數(shù)組，并且以該校正參數(shù)組來(lái)校正該系統(tǒng)坐標(biāo)位置。18.如權(quán)利要求17所述的觸控裝置，其特征在于，該位置校正模塊基于該系統(tǒng)坐標(biāo)位置與其所位于的該坐落區(qū)塊的多個(gè)邊的距離，獲得多個(gè)權(quán)重值，并且依據(jù)該系統(tǒng)坐標(biāo)位置所位于的該坐落區(qū)塊的該校正參數(shù)組以及所述權(quán)重值，校正該系統(tǒng)坐標(biāo)位置， 其中，該位置校正模塊計(jì)算該系統(tǒng)坐標(biāo)位置與在一第一方向上相對(duì)的兩個(gè)邊的距離t匕，以及計(jì)算該系統(tǒng)坐標(biāo)位置在一第二方向上與另外相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比，據(jù)以依據(jù)上述距離比來(lái)決定所述權(quán)重值。19.如權(quán)利要求14所述的觸控裝置，其特征在于，該校正計(jì)算模塊依據(jù)所述校正觸碰對(duì)應(yīng)的多個(gè)校正坐標(biāo)位置計(jì)算一第一面積，依據(jù)該校正區(qū)塊所包括的多個(gè)默認(rèn)坐標(biāo)位置計(jì)算一第二面積，以及計(jì)算該第一面積與該第二面積的絕對(duì)差值，而以該絕對(duì)差值作為該變形誤差量。20.如權(quán)利要求14所述的觸控裝置，其特征在于，該校正計(jì)算模塊切割一顯示畫(huà)面為MXN個(gè)上述校正區(qū)塊，以分別計(jì)算每一上述校正區(qū)塊的該變形誤差量。
【專(zhuān)利摘要】一種觸控裝置及其坐標(biāo)校正方法。通過(guò)計(jì)算校正區(qū)塊的變形誤差量來(lái)決定是否對(duì)校正區(qū)塊進(jìn)行切割，借此使得切割后的每一個(gè)校正區(qū)塊的變形誤差量小于或等于預(yù)設(shè)閾值。并且取得各校正區(qū)塊的校正參數(shù)組。據(jù)此，在操作程序中，基于校正參數(shù)組來(lái)對(duì)使用者的觸碰行為進(jìn)行校正。通過(guò)將顯示畫(huà)面切割為多個(gè)校正區(qū)塊，可降低校正區(qū)塊的變形程度，進(jìn)而提高校正后位置的精確度。
【IPC分類(lèi)】G06F3/041
【公開(kāi)號(hào)】CN105630219
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410603660
【發(fā)明人】甘偉國(guó), 黃國(guó)庭, 陳裕彥, 謝佳達(dá)
【申請(qǐng)人】緯創(chuàng)資通股份有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2014年10月31日
【公告號(hào)】US20160110019