觸控裝置及其坐標(biāo)校正方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是有關(guān)于一種觸控系統(tǒng)，且特別是有關(guān)于一種觸控裝置及其坐標(biāo)校正方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)觸控式的電子產(chǎn)品由于操作方便且直覺性高，因此深受消費(fèi)者喜愛而已逐漸成為市場(chǎng)上的主流趨勢(shì)。目前主要的觸控面板依照構(gòu)造和感測(cè)形式的不同可區(qū)分為:電阻式觸控面板、電容式觸控面板、音波式觸控面板、光學(xué)式觸控面板、電磁式觸控面板等。其中，光學(xué)式觸控面板由于具有成本低、準(zhǔn)確度佳等優(yōu)點(diǎn)，在競(jìng)爭(zhēng)的市場(chǎng)中更具有優(yōu)勢(shì)，目前也已成為大尺寸觸控屏幕的主要選擇。
[0003]光學(xué)式觸控面板是利用在屏幕的邊緣設(shè)置多個(gè)光學(xué)鏡頭，用以拍攝用戶手指在屏幕上操作的影像，而分析所拍攝影像中因手指遮斷光線所產(chǎn)生之陰影的位置，可得出手指觸碰點(diǎn)與光學(xué)鏡頭之間的相對(duì)角度，最后再根據(jù)已知光學(xué)鏡頭之間的距離，結(jié)合三角定位法即可計(jì)算出觸碰點(diǎn)對(duì)應(yīng)的系統(tǒng)位置。然而，光學(xué)式觸控面板會(huì)因?yàn)楣鈱W(xué)鏡頭的位置偏差而產(chǎn)生觸碰位置與系統(tǒng)位置不相符的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供一種觸控裝置及其坐標(biāo)校正方法，可減少觸控裝置轉(zhuǎn)換觸碰位置為系統(tǒng)位置的誤差。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)方案是提供一種坐標(biāo)校正方法，適用于一觸控裝置。坐標(biāo)校正方法包括下列步驟。通過(guò)檢測(cè)使用者在校正區(qū)塊中的多個(gè)校正觸碰，計(jì)算校正區(qū)塊的變形誤差量。判斷變形誤差量是否大于預(yù)設(shè)閾值。若變形誤差量大于預(yù)設(shè)閾值，將校正區(qū)塊切割為多個(gè)，并且重新通過(guò)檢測(cè)使用者在多個(gè)切割后校正區(qū)塊各自的校正觸碰，來(lái)計(jì)算每一個(gè)切割后校正區(qū)塊的變形誤差量。若變形誤差量小于或等于預(yù)設(shè)閾值，取得校正區(qū)塊的校正參數(shù)組，以基于該校正參數(shù)組來(lái)對(duì)該使用者后續(xù)的觸碰行為進(jìn)行校正。
[0006]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述通過(guò)檢測(cè)使用者在校正區(qū)塊中的校正觸碰，計(jì)算校正區(qū)塊的變形誤差量的步驟包括:通過(guò)檢測(cè)使用者在校正區(qū)塊中的校正觸碰，而獲得多個(gè)校正坐標(biāo)位置；以及通過(guò)分別比對(duì)這些校正坐標(biāo)位置與多個(gè)默認(rèn)坐標(biāo)位置，來(lái)計(jì)算變形誤差量，其中校正區(qū)塊是由上述默認(rèn)坐標(biāo)位置所圍成的區(qū)塊。
[0007]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述變形誤差量包括第一誤差程度值與第二誤差程度值，該校正參數(shù)組包括多個(gè)第一偏差值與多個(gè)第二偏差值。上述通過(guò)分別比對(duì)上述校正坐標(biāo)位置與上述默認(rèn)坐標(biāo)位置，來(lái)計(jì)算變形誤差量的步驟包括:分別計(jì)算上述校正坐標(biāo)位置與上述默認(rèn)坐標(biāo)位置在第一方向上的第一偏差值。分別計(jì)算上述校正坐標(biāo)位置與上述默認(rèn)坐標(biāo)位置在第二方向上的第二偏差值?；谏鲜龅谝黄钪但@得第一誤差程度值。基于上述第二偏差值獲得第二誤差程度值。
[0008]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述校正區(qū)塊為矩形，校正觸碰位于校正區(qū)塊的4個(gè)角，默認(rèn)坐標(biāo)位置為校正區(qū)塊的4個(gè)角的位置。在此，以ΛΧ1?ΛΧ4分別代表校正坐標(biāo)位置與默認(rèn)坐標(biāo)位置在第一方向上的第一偏差值，ΔΥ1?Δ Y4分別代表校正坐標(biāo)位置與默認(rèn)坐標(biāo)位置在第二方向上的第二偏差值。第一誤差程度值Diff_X與第二誤差程度值Diff_Y的計(jì)算式分別如下所示:
[0009]Diff_X = I Δ Xl-Δ X2 | +1 Δ Xl-Δ Χ3 | +1 Δ Xl-Δ Χ4 | +1 Δ Χ2_ Δ Χ3 | +1 Δ Χ2_ Δ Χ4 | +ΔΧ3-ΔΧ4I ；
[0010]Diff_Y = I Λ Yl-Λ Υ2 H ΔΥ1-ΔΥ3|+ Λ Yl-Λ Υ4 H Δ Υ2- Δ Υ3 | + Δ Υ2- Δ Υ4 | +ΔΥ3-ΔΥ4I。
[0011]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述預(yù)設(shè)閾值包括第一閾值與第二閾值。而判斷變形誤差量是否大于預(yù)設(shè)閾值的步驟包括:判斷第一誤差程度值是否大于第一閾值；以及判斷第二誤差程度值是否大于第二閾值。若第一誤差程度值大于第一閾值或第二誤差程度值大于第二閾值，將校正區(qū)塊切割為多個(gè)。
[0012]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，若變形誤差量大于預(yù)設(shè)閾值，還包括:(a)將校正區(qū)塊切割為MXN個(gè)，而獲得上述切割后校正區(qū)塊；以及(b)重新通過(guò)檢測(cè)使用者在每一個(gè)切割后校正區(qū)塊的校正觸碰，來(lái)計(jì)算每一個(gè)切割后校正區(qū)塊的變形誤差量。在變形誤差量大于預(yù)設(shè)閾值的情況下重復(fù)執(zhí)行上述步驟(a)?(b)，直到每一個(gè)切割后校正區(qū)塊的變形誤差量小于或等于預(yù)設(shè)閾值。
[0013]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述坐標(biāo)校正方法還包括通過(guò)檢測(cè)使用者的觸碰行為，獲得觸碰行為的系統(tǒng)坐標(biāo)位置，其中系統(tǒng)坐標(biāo)位置位于上述校正區(qū)塊及上述切割后校正區(qū)塊其中的一坐落區(qū)塊；取得坐落區(qū)塊對(duì)應(yīng)的校正參數(shù)組；以及以校正參數(shù)組來(lái)校正系統(tǒng)坐標(biāo)位置。
[0014]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述校正系統(tǒng)坐標(biāo)位置的步驟還包括:基于系統(tǒng)坐標(biāo)位置與其所位于的坐落區(qū)塊的多個(gè)邊的距離，獲得多個(gè)權(quán)重值；以及依據(jù)系統(tǒng)坐標(biāo)位置所位于的坐落區(qū)塊的校正參數(shù)組以及權(quán)重值，校正系統(tǒng)坐標(biāo)位置。
[0015]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述基于系統(tǒng)坐標(biāo)位置與其所位于的坐落區(qū)塊的邊的距離，獲得權(quán)重值的步驟包括:計(jì)算系統(tǒng)坐標(biāo)位置與在第一方向上相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比；計(jì)算系統(tǒng)坐標(biāo)位置在第二方向上與另外相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比；以及依據(jù)上述距離比來(lái)決定權(quán)重值。
[0016]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述系統(tǒng)坐標(biāo)位置為(Tx，Ty)，而校正后的坐標(biāo)位置為(Tx+Λ X，Ty+Λ Y)。在此，系統(tǒng)坐標(biāo)位置與在該第一方向上相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比為fflx:W3x以及W2x:W4x。而系統(tǒng)坐標(biāo)位置與在第二方向上另外相對(duì)的兩個(gè)邊的距離比為Wly:W2y 以及 W3y:W4y,其中 fflx+W3x = l,W2x+W4x = I !且町丫+似丫 = l,W3y+W4y = I。而ΛΧ與Λ Y的計(jì)算式為:
[0017]ΔΧ = [(ΔΧ1ΧΨ3χ+ΔΧ3Xfflx) XW2y] + [ ( ΔΧ2XW4x+ΔΧ4XW2x) Xffly]；
[0018]ΔΥ = [(AYlXW2y+AY2XWly) XW3y] + [(AY3XW4y+AY4XW3y) XWlx]。
[0019]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述通過(guò)分別比對(duì)校正坐標(biāo)位置與默認(rèn)坐標(biāo)位置，來(lái)計(jì)算變形誤差量的步驟包括:依據(jù)校正坐標(biāo)位置，計(jì)算第一面積；依據(jù)默認(rèn)坐標(biāo)位置，計(jì)算第二面積；計(jì)算第一面積與第二面積的絕對(duì)差值，而以絕對(duì)差值作為變形誤差量。
[0020]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述校正區(qū)塊為矩形，而在通過(guò)檢測(cè)使用者在校正區(qū)塊中的校正觸碰之前還包括:切割顯示畫面為MXN個(gè)校正區(qū)塊，以分別計(jì)算每一個(gè)校正區(qū)塊的變形誤差量。
[0021]本發(fā)明的觸控裝置包括顯示單元、獲得單元以及控制單元。獲得單元用以獲得顯示單元前方的觸控對(duì)象的影像?？刂茊卧罱荧@得單元?？刂茊卧ㄎ恢脵z測(cè)模塊、校正計(jì)算模塊以及位置校正模塊。通過(guò)位置檢測(cè)模塊、校正計(jì)算模塊以及位置校正模塊來(lái)完成上述坐標(biāo)校正方法。
[0022]基于上述，通過(guò)將顯示畫面切割為多個(gè)校正區(qū)塊，可降低校正區(qū)塊的變形程度，進(jìn)而提高校正后位置的精確度。
【附圖說(shuō)明】
[0023]圖1是依照本發(fā)明一實(shí)施例的觸控裝置的示意圖。
[0024]圖2是依照本發(fā)明一實(shí)施例的觸碰位置與系統(tǒng)坐標(biāo)位置的示意圖。
[0025]圖3是依照本發(fā)明一實(shí)施例的控制單元的方塊圖。
[0026]圖4是依照本發(fā)明一實(shí)施例的坐標(biāo)校正方法的流程圖。
[0027]圖5是依照本發(fā)明一實(shí)施例的校正區(qū)塊與校正點(diǎn)的示意圖。
[0028]圖6是依照本發(fā)明一實(shí)施例的校正區(qū)塊切割為多個(gè)的示意圖。
[0029]圖7是依照本發(fā)明一實(shí)施例的計(jì)算變形誤差量的方法流程圖。
[0030]圖8是依照本發(fā)明另一實(shí)施例的計(jì)算變形誤差量的方法流程圖。
[0031]圖9是依照本發(fā)明一實(shí)施例的操作程序中的坐標(biāo)校正方法的流程圖。
[0032]圖10是依照本發(fā)明一實(shí)施例的距離比計(jì)算的示意圖。
[0033]圖11是依照本發(fā)明一實(shí)施例的系統(tǒng)坐標(biāo)位置與觸碰位置之間關(guān)系的示意圖。
[0034]主要元件符號(hào)說(shuō)明:
[0035]100:電子裝置
[0036]110:顯示單元
[0037]120、130:取像單元
[0038]140:控制單元
[0039]310:位置檢測(cè)模塊
[0040]320:校正計(jì)算模塊
[0041]330:位置校正模塊
[0042]S405?S420:坐標(biāo)校正方法各步驟
[0043]S705?S725:計(jì)算變形誤差量的方法各步驟
[0044]S805?S820:另一計(jì)算變形誤差量的方法各步驟
[0045]S902?S915:操作程序中的坐標(biāo)校正方法各步驟
[0046]A1、A1-1 ?A1-4:校正區(qū)塊
[0047]L1:顯示位置
[0048]L2、Ql:觸碰位置
[0049]L3、Q2、T:系統(tǒng)坐標(biāo)位置
[0050]Pl?P4、Pl-1?P1-9:默認(rèn)坐標(biāo)位置(校正點(diǎn))
[0051]SI?S4:校正坐標(biāo)位置
[0052]Λ Xl?Λ X4:第一偏差值
[0053]Λ Yl?Λ Y4:第二偏差值
[0054]Wlx ?W4x、Wly ?W4y:權(quán)重值
【具體實(shí)施方式】
[0055]為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式作詳細(xì)說(shuō)明如下。
[0056]圖1是依照本發(fā)明一實(shí)施例的觸控裝置的示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1，觸控裝置100例如為光學(xué)式觸控裝置，其包括顯示單元110、獲得單元(包括取像單元120與取像單元130)以及控制單元140。在此，以兩個(gè)取像單元120、130組合為獲得單元為例，然并不以此為限。
[0057]顯示單元110例如是液晶顯示器(Liquid Crystal Display, LCD)、發(fā)光二極管(L