本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種觸控面板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置。

背景技術(shù)：

近年來，顯示器已經(jīng)由過去的陰極射線顯像管(cathoderaytube，即crt)顯示器、液晶(lcd)顯示器逐漸過渡發(fā)展到有機發(fā)光二極管(organiclight-emittingdiode,oled)顯示器。oled顯示器可以實現(xiàn)柔性顯示(flexibledisplay)。在oled顯示面板上設(shè)置觸控面板能夠?qū)崿F(xiàn)oled顯示面板的觸控顯示。

但是，由于設(shè)置于oled顯示面板上的觸控面板中的觸控電極采用金屬網(wǎng)格(metalmesh)，所以從外部環(huán)境入射至觸控電極表面的光線會發(fā)生反射，這使觸控面板出光側(cè)的光線反射率會增加7％以上，導致oled顯示面板在戶外使用時亮度明顯下降。

如何降低觸控面板中觸控電極對光線的反射率已成為目前亟待解決的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題，提供一種觸控面板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置。該觸控面板能夠使照射到觸控電極表面的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極表面對光線的反射，從而提升了采用該觸控面板的顯示面板的顯示亮度，進而降低了采用該觸控面板的顯示面板在戶外使用時的亮度下降程度。

本發(fā)明提供一種觸控面板，包括基底和設(shè)置在所述基底上的觸控電極，在所述觸控電極的表面設(shè)置有光線處理結(jié)構(gòu)，所述光線處理結(jié)構(gòu)能使照射到其上的光線發(fā)生散射，以減少所述觸控電極表面對光線的反射。

優(yōu)選地，所述光線處理結(jié)構(gòu)包括多個凸起部，多個所述凸起部均勻分布于所述觸控電極的表面。

優(yōu)選地，任意相鄰兩個所述凸起部之間的間距范圍為1nm～1μm。

優(yōu)選地，所述凸起部的沿垂直于所述觸控電極表面的截面形狀包括三角形、矩形、梯形、半圓形、半橢圓形或規(guī)則或不規(guī)則多邊形。

優(yōu)選地，所述凸起部的材料包括氧化銦錫、金屬材料或碳。

優(yōu)選地，所述觸控電極的表面為位于所述觸控面板出光側(cè)的所述觸控電極表面；

或者，所述觸控電極的表面為位于所述觸控面板出光側(cè)和入光側(cè)的所述觸控電極表面。

優(yōu)選地，所述觸控電極的分布形狀為網(wǎng)格狀；所述觸控電極的材料包括金屬材料，所述光線處理結(jié)構(gòu)的材料與所述觸控電極的材料相同。

本發(fā)明還提供一種顯示面板，包括上述觸控面板。

優(yōu)選地，所述顯示面板為有機電致發(fā)光面板或液晶面板。

本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括上述顯示面板。

本發(fā)明還提供一種觸控面板的制備方法，包括在基底上形成觸控電極，所述形成觸控電極包括：在所述觸控電極的表面形成光線處理結(jié)構(gòu)，所述光線處理結(jié)構(gòu)能使照射到其上的光線發(fā)生散射，以減少所述觸控電極表面對光線的反射。

優(yōu)選地，所述在所述觸控電極的表面形成光線處理結(jié)構(gòu)包括：

在采用構(gòu)圖工藝形成所述觸控電極時，在刻蝕過程中對所述觸控電極的表面進行刻蝕處理，以在所述觸控電極的表面形成所述光線處理結(jié)構(gòu)；

或者，首先通過打印法形成具有所述光線處理結(jié)構(gòu)的膜層，然后將該具有所述光線處理結(jié)構(gòu)的膜層壓印到所述觸控電極的表面。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明所提供的觸控面板，通過設(shè)置光線處理結(jié)構(gòu)，能夠使照射到觸控電極表面的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極表面對光線的反射，從而提升了采用該觸控面板的顯示面板的顯示亮度，進而降低了采用該觸控面板的顯示面板在戶外使用時的亮度下降程度。

本發(fā)明所提供的顯示面板和顯示裝置，通過采用上述觸控面板，提升了該顯示面板和顯示裝置的顯示亮度，特別是提升了該顯示面板和顯示裝置在戶外顯示時的顯示亮度，從而提高了該顯示面板和顯示裝置的顯示效果。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例1中觸控面板的結(jié)構(gòu)剖視圖；

圖2為本發(fā)明實施例1中觸控面板的結(jié)構(gòu)俯視圖；

圖3為本發(fā)明實施例2中觸控面板的結(jié)構(gòu)剖視圖。

其中的附圖標記說明：

1.基底；2.觸控電極；3.光線處理結(jié)構(gòu)；31.凸起部；4.觸控面板出光側(cè)；5.觸控面板入光側(cè)。

具體實施方式

為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明所提供的一種觸控面板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置作進一步詳細描述。

實施例1：

本實施例提供一種觸控面板，如圖1所示，包括基底1和設(shè)置在基底1上的觸控電極2，在觸控電極2的表面設(shè)置有光線處理結(jié)構(gòu)3，光線處理結(jié)構(gòu)3能使照射到其上的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極2表面對光線的反射。

通過設(shè)置光線處理結(jié)構(gòu)3，能夠使照射到觸控電極2表面的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極2表面對光線的反射，從而提升了采用該觸控面板的顯示面板的顯示亮度，進而降低了采用該觸控面板的顯示面板在戶外使用時的亮度下降程度。

本實施例中，光線處理結(jié)構(gòu)3包括多個凸起部31，多個凸起部31均勻分布于觸控電極2的表面。

優(yōu)選的，本實施例中，任意相鄰兩個凸起部31之間的間距范圍為1nm～1μm。如此設(shè)置，能使光線處理結(jié)構(gòu)3能夠更好地使照射到觸控電極2表面的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極2表面對光線的反射的作用。

本實施例中，光線處理結(jié)構(gòu)3是對觸控電極2的表面進行粗糙度處理，以使觸控電極2的表面形成多個凸起部31，凸起部31能使觸控電極2的表面變得比較粗糙，同時使照射到觸控電極2表面的光線發(fā)生散射，從而減少觸控電極2表面對照射到其上光線的反射。其中，通過在觸控電極2表面設(shè)置凸起部31從而減少觸控電極2表面對光線反射的具體原理遵循以下公式(1)：

在公式(1)中，r為觸控電極2表面對光線的反射系數(shù)；k為觸控電極2表面對光線的吸收系數(shù)；s為觸控電極2表面對光線的散射系數(shù)；f(r)為觸控電極2表面對光線的反射率。從公式(1)中可以看出，觸控電極2表面對光線的散射系數(shù)越大，則觸控電極2表面對光線的反射率越小。由于觸控電極2表面的粗糙度越高，則觸控電極2表面對光線的散射系數(shù)越高，即觸控電極2表面的散射系數(shù)會隨著觸控電極2表面粗糙度的增加而增加，所以觸控電極2表面的粗糙度越高，則其對光線的反射率越小。因此，通過使觸控電極2的表面變得粗糙，能夠使照射到其上的光線發(fā)生散射，從而減少觸控電極2表面對光線的反射，進而提高采用該觸控面板的顯示面板的顯示亮度。

另外，光線處理結(jié)構(gòu)3的材料與觸控電極2的材料相同，觸控電極2表面凸起部31的設(shè)置，不僅增加了觸控電極2表面的粗糙度，而且還增加了觸控電極2的表面的面積，根據(jù)公式(2)：ω＝ρ(l/a)；其中，ω為觸控電極2的電阻；ρ為電阻率；l為觸控電極2的長度；a為觸控電極2表面的面積。隨著觸控電極2表面的面積的增加，觸控電極2的電阻減小。同時，根據(jù)公式(3)：c＝ε(a/d)；其中，c為觸控電極2的電容；ε為介電常數(shù)；a為觸控電極2表面的面積；d為觸控電極2的厚度。隨著觸控電極2表面的面積的增加，觸控電極2的電容增大。觸控電極2的電阻減小且電容增大，能夠提升觸控電極2的觸控感應(yīng)特性，從而提升觸控面板的電學特性和觸控性能。

需要說明的是，凸起部31也可以采用與觸控電極2不同的材料制成，如觸控電極2采用金屬材料制成，凸起部31采用氧化銦錫、其他金屬材料或碳制成，這些材料的凸起部31同樣能夠起到使照射到其上的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極2表面對光線的反射的作用。

本實施例中，凸起部31的沿垂直于觸控電極2表面的截面形狀為三角形。

需要說明的是，凸起部31的沿垂直于觸控電極2表面的截面形狀也可以為矩形、梯形、半圓形、半橢圓形或規(guī)則或不規(guī)則多邊形等其他的任意形狀。只要能確保使觸控電極2的表面變得粗糙，使照射到其上的光線發(fā)生散射即可，對凸起部31的具體形狀不做限定。

本實施例中，觸控電極2的表面為位于觸控面板出光側(cè)4的觸控電極2表面。在觸控面板出光側(cè)4的觸控電極2表面設(shè)置凸起部31，能使觸控面板出光側(cè)4的觸控電極2表面變得粗糙，從而使照射到其上的光線發(fā)生散射，進而減少了觸控面板出光側(cè)4的觸控電極2表面對光線的反射，最終提升了采用該觸控面板的顯示面板的顯示亮度，降低了采用該觸控面板的顯示面板在戶外使用時的亮度下降程度。

本實施例中，如圖2所示，觸控電極2的分布形狀為網(wǎng)格狀；觸控電極2的材料包括金屬材料。當然，觸控電極2的分布形狀也可以是其它的形狀，觸控電極2的材料也可以是透明導電材料，如氧化銦錫材料等。

基于觸控面板的上述結(jié)構(gòu)，本實施例中還提供一種該觸控面板的制備方法，包括在基底1上形成觸控電極2，形成觸控電極2包括：在觸控電極2的表面形成光線處理結(jié)構(gòu)3，光線處理結(jié)構(gòu)3能使照射到其上的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極2表面對光線的反射。

本實施例中，在觸控電極2的表面形成光線處理結(jié)構(gòu)3包括：在采用構(gòu)圖工藝形成觸控電極2時，在刻蝕過程中對觸控電極2的表面進行刻蝕處理，以在觸控電極2的表面形成光線處理結(jié)構(gòu)3。即在采用構(gòu)圖工藝(包括膜層沉積、曝光、顯影和刻蝕等步驟)形成觸控電極2時，在刻蝕過程中直接對觸控電極2的表面進行刻蝕處理，以使觸控電極2表面形成凸起部31。

需要說明的是，在觸控電極2的表面形成光線處理結(jié)構(gòu)3還可以通過以下方法，即首先通過打印法形成具有光線處理結(jié)構(gòu)3的膜層，然后將該具有光線處理結(jié)構(gòu)3的膜層壓印到觸控電極2的表面。即首先采用打印的方法并采用形成觸控電極2的材料形成具有凸起部31的薄膜，然后將該薄膜壓印到觸控電極2表面，以使觸控電極2的表面變得粗糙。

實施例2：

本實施例提供一種觸控面板，與實施例1不同的是，如圖3所示，觸控電極2的表面為位于觸控面板出光側(cè)4和入光側(cè)5的觸控電極2表面。即觸控面板的出光側(cè)4和入光側(cè)5的觸控電極2表面均設(shè)置有光線處理結(jié)構(gòu)3(即多個凸起部31)。

觸控面板入光側(cè)5的觸控電極2表面凸起部31的設(shè)置能使觸控面板入光側(cè)5的觸控電極2表面變得粗糙，從而使照射到觸控面板入光側(cè)5的觸控電極2表面的光線發(fā)生散射，減少了觸控電極2該側(cè)表面對光線的反射，進而提升了采用該觸控面板的顯示面板的顯示亮度，降低了采用該觸控面板的顯示面板在戶外使用時的亮度下降程度。

本實施例中觸控面板的其他結(jié)構(gòu)以及觸控面板的制備方法均與實施例1中相同，此處不再贅述。

實施例1-2的有益效果：實施例1-2所提供的觸控面板，通過設(shè)置光線處理結(jié)構(gòu)，能夠使照射到觸控電極表面的光線發(fā)生散射，以減少觸控電極表面對光線的反射，從而提升了采用該觸控面板的顯示面板的顯示亮度，進而降低了采用該觸控面板的顯示面板在戶外使用時的亮度下降程度。

實施例3：

本實施例提供一種顯示面板，包括實施例1-2任意一個中的觸控面板。

該顯示面板為有機電致發(fā)光面板或液晶面板。

通過采用實施例1-2任意一個中的觸控面板，提升了該顯示面板的顯示亮度，特別是提升了該顯示面板在戶外顯示時的顯示亮度，從而提高了該顯示面板的顯示效果。

實施例4：

本實施例提供一種顯示裝置，包括實施例3中的顯示面板，通過采用實施例3中的顯示面板，提升了該顯示裝置的顯示效果。

本發(fā)明所提供的顯示裝置可以為，oled面板、oled電視、液晶面板、液晶電視、顯示器、手機、導航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。