1.一種流程監(jiān)控圖的展現(xiàn)方法，其特征在于，包括：
根據(jù)父流程模板，創(chuàng)建并展現(xiàn)父流程監(jiān)控圖，所述父流程監(jiān)控圖中包括子流程節(jié)點(diǎn)；
當(dāng)接收到用于觸發(fā)所述子流程節(jié)點(diǎn)展開的指令時(shí)，在所述父流程監(jiān)控圖中展現(xiàn)所述子流程節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的子流程監(jiān)控圖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述父流程監(jiān)控圖中展現(xiàn)所述子流程節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的子流程監(jiān)控圖，包括：
根據(jù)所述子流程節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的子流程模板，創(chuàng)建子流程監(jiān)控圖；
計(jì)算所述子流程監(jiān)控圖所需空間的尺寸，并根據(jù)所述尺寸調(diào)整所述子流程節(jié)點(diǎn)占用的空間；
在調(diào)整后的空間與除所述子流程節(jié)點(diǎn)之外的其他節(jié)點(diǎn)不存在重疊時(shí)，在所述調(diào)整后的空間內(nèi)展現(xiàn)所述子流程監(jiān)控圖，以及，重新繪制所述子流程節(jié)點(diǎn)與其他節(jié)點(diǎn)間的連接線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，還包括：
在調(diào)整后的空間與除所述子流程節(jié)點(diǎn)之外的其他節(jié)點(diǎn)存在重疊時(shí)，在所述調(diào)整后的空間內(nèi)展現(xiàn)所述子流程監(jiān)控圖，以及，調(diào)整其他節(jié)點(diǎn)的位置并重新繪制節(jié)點(diǎn)間的連接線。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述重新繪制所述子流程節(jié)點(diǎn)與其他節(jié)點(diǎn)間的連接線，包括：
將所述子流程節(jié)點(diǎn)的調(diào)整后的空間的中點(diǎn)作為與其他節(jié)點(diǎn)間的連接線的起點(diǎn)或終點(diǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述調(diào)整其他節(jié)點(diǎn)的位置并重新繪制節(jié)點(diǎn)間的連接線，包括：
調(diào)整與所述空間存在重疊的其他節(jié)點(diǎn)及其后續(xù)節(jié)點(diǎn)的位置，使得調(diào)整后各節(jié)點(diǎn)間的距離與原始距離保持一致；
將調(diào)整后各節(jié)點(diǎn)所占空間的中點(diǎn)作為與節(jié)點(diǎn)間的連接線的起點(diǎn)或終點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述父流程監(jiān)控圖中還包括：對(duì)應(yīng)所述子流程節(jié)點(diǎn)的展開圖標(biāo)，所述方法還包括：
當(dāng)接收到對(duì)所述展開圖標(biāo)的觸發(fā)指令時(shí)，確定接收到用于觸發(fā)所述子流程節(jié)點(diǎn)展開的指令。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在展現(xiàn)所述子流程監(jiān)控圖后，所述方法還包括：
當(dāng)接收到用于觸發(fā)所述子流程節(jié)點(diǎn)收縮的指令時(shí)，恢復(fù)展現(xiàn)所述父流程監(jiān)控圖。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述子流程監(jiān)控圖中包括：對(duì)應(yīng)所述子流程節(jié)點(diǎn)的收縮圖標(biāo)，所述方法還包括：
當(dāng)接收到對(duì)所述收縮圖標(biāo)的觸發(fā)指令時(shí)，確定接收到用于觸發(fā)所述子流程節(jié)點(diǎn)收縮的指令。
9.一種流程監(jiān)控圖的展現(xiàn)裝置，其特征在于，包括：
第一展現(xiàn)模塊，用于根據(jù)父流程模板，創(chuàng)建并展現(xiàn)父流程監(jiān)控圖，所述父流程監(jiān)控圖中包括子流程節(jié)點(diǎn)；
第二展現(xiàn)模塊，用于當(dāng)接收到用于觸發(fā)所述子流程節(jié)點(diǎn)展開的指令時(shí)，在所述父流程監(jiān)控圖中展現(xiàn)所述子流程節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的子流程監(jiān)控圖。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述第二展現(xiàn)模塊包括：
創(chuàng)建子模塊，用于根據(jù)所述子流程節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的子流程模板，創(chuàng)建子流程監(jiān)控圖；
調(diào)整子模塊，用于計(jì)算所述子流程監(jiān)控圖所需空間的尺寸，并根據(jù)所述尺寸調(diào)整所述子流程節(jié)點(diǎn)占用的空間；
第一展現(xiàn)子模塊，用于在所述空間與除所述子流程節(jié)點(diǎn)之外的其他節(jié)點(diǎn)不存在重疊時(shí)，在所述空間內(nèi)展現(xiàn)所述子流程監(jiān)控圖，以及，重新繪制所述子流程節(jié)點(diǎn)與其他節(jié)點(diǎn)間的連接線。