1.一種應(yīng)用于圖像處理的表面細(xì)化方法，其特征在于，所述方法包括：
根據(jù)表面分析策略將表面上的網(wǎng)格分為具有細(xì)化意義的第一類網(wǎng)格和不具有細(xì)化意義的第二類網(wǎng)格；
針對(duì)所述第一類網(wǎng)格進(jìn)行細(xì)化處理。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
剔除所述第二類網(wǎng)格和/或?qū)⑺龅诙惥W(wǎng)格整體簡(jiǎn)化為比所述第二類網(wǎng)格數(shù)量更少的網(wǎng)格。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)表面分析策略將表面上的網(wǎng)格分為具有細(xì)化意義的第一類網(wǎng)格和不具有細(xì)化意義的第二類網(wǎng)格，包括：
計(jì)算表面上各頂點(diǎn)的gi值以及各網(wǎng)格的tc值，其中，gi表示幾何改善，tc表示運(yùn)行時(shí)間成本；
將gi/tc的值滿足預(yù)設(shè)條件的網(wǎng)格標(biāo)記為所述第一類網(wǎng)格。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)表面分析策略將表面上的網(wǎng)格分為具有細(xì)化意義的第一類網(wǎng)格和不具有細(xì)化意義的第二類網(wǎng)格，包括：
計(jì)算表面上各頂點(diǎn)的gi值以及各網(wǎng)格的tc值，其中，gi表示幾何改善，tc表示運(yùn)行時(shí)間成本；
根據(jù)各網(wǎng)格的gi/tc的值將所有網(wǎng)格升序排列；
按照所述升序排列順序，通過(guò)在x軸上的tc的遞增總和以及在y軸上的gi獲得累積曲線；
將所述累積曲線上不高于指定點(diǎn)的點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的網(wǎng)格標(biāo)記為所述第二類網(wǎng)格；
將所述累積曲線上高于所述指定點(diǎn)的點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的網(wǎng)格標(biāo)記為所述第一類網(wǎng)格。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，通過(guò)以下方式確定所述指定點(diǎn)：
將所述累計(jì)曲線的x軸和y軸歸一化得到歸一化曲線；
從歸一化曲線上選取斜率為wl/wr的點(diǎn)作為所述指定點(diǎn)；
其中，wl表示l的權(quán)重，wr表示r的權(quán)重，r對(duì)應(yīng)于歸一化曲線的x軸，l對(duì)應(yīng)于歸一化曲線的y軸。
6.如權(quán)利要求3或4所述的方法，其特征在于，
所述幾何改善表示頂點(diǎn)和單環(huán)相鄰面之間的平方距離的最大值；
所述運(yùn)行時(shí)間成本表示為可見(jiàn)圖像對(duì)的數(shù)量乘以三角形的面積。
7.如權(quán)利要求3-5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
采用圖割優(yōu)化產(chǎn)生分段的平滑標(biāo)記。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
在再投影的繪制中，檢測(cè)并剔除問(wèn)題輪廓。
9.一種應(yīng)用于圖像處理的表面細(xì)化裝置，其特征在于，所述裝置包括：
分類模塊，用于根據(jù)表面分析策略將表面上的網(wǎng)格分為具有細(xì)化意義的第一類網(wǎng)格和不具有細(xì)化意義的第二類網(wǎng)格；
細(xì)化模塊，用于針對(duì)所述第一類網(wǎng)格進(jìn)行細(xì)化處理。
10.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：
簡(jiǎn)化模塊，用于剔除所述第二類網(wǎng)格和/或?qū)⑺龅诙惥W(wǎng)格整體簡(jiǎn)化為比所述第二類網(wǎng)格數(shù)量更少的網(wǎng)格。
11.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述分類模塊包括：
第一計(jì)算子模塊，用于計(jì)算表面上各頂點(diǎn)的gi值以及各網(wǎng)格的tc值，其中，gi表示幾何改善，tc表示運(yùn)行時(shí)間成本；
第一標(biāo)記子模塊，用于將gi/tc的值滿足預(yù)設(shè)條件的網(wǎng)格標(biāo)記為所述第一類網(wǎng)格。
12.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述分類模塊包括：
第二計(jì)算子模塊，用于計(jì)算表面上各頂點(diǎn)的gi值以及各網(wǎng)格的tc值，其中，gi表示幾何改善，tc表示運(yùn)行時(shí)間成本；
排序子模塊，用于根據(jù)各網(wǎng)格的gi/tc的值將所有網(wǎng)格升序排列；
曲線子模塊，用于按照所述升序排列順序，通過(guò)在x軸上的tc的遞增總和以及在y軸上的gi獲得累積曲線；
第二標(biāo)記子模塊，用于將所述累積曲線上不高于指定點(diǎn)的點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的網(wǎng)格標(biāo)記為所述第二類網(wǎng)格，將所述累積曲線上高于所述指定點(diǎn)的點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的網(wǎng)格標(biāo)記為所述第一類網(wǎng)格。
13.如權(quán)利要求12所述的裝置，其特征在于，所述分類模塊還包括：
指定點(diǎn)子模塊，用于將所述累計(jì)曲線的x軸和y軸歸一化得到歸一化曲線，以及從歸一化曲線上選取斜率為wl/wr的點(diǎn)作為所述指定點(diǎn)；其中，
wl表示l的權(quán)重，wr表示r的權(quán)重，r對(duì)應(yīng)于歸一化曲線的x軸，l對(duì)應(yīng)于歸一化曲線的y軸。
14.如權(quán)利要求11或12所述的裝置，其特征在于，
所述幾何改善表示頂點(diǎn)和單環(huán)相鄰面之間的平方距離的最大值；
所述運(yùn)行時(shí)間成本表示為可見(jiàn)圖像對(duì)的數(shù)量乘以三角形的面積。
15.如權(quán)利要求11-13中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述分類模塊還包括：
圖割優(yōu)化子模塊，用于采用圖割優(yōu)化產(chǎn)生分段的平滑標(biāo)記。
16.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：
剔除模塊，用于在再投影的繪制中檢測(cè)并剔除問(wèn)題輪廓。
17.一種圖像處理系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)具有如權(quán)利要求9-16中任一項(xiàng)所述的表面細(xì)化裝置。