1.一種GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏，其特征在于：包括，
具有A面、B面兩相對(duì)表面的基材層；
以及自所述A面向外，依次疊設(shè)的曝光銀膠層、透明光學(xué)雙面膠層、蓋板玻璃層；所述B面疊設(shè)有納米銀層；或，
自所述A面向外，依次疊設(shè)的納米銀層、透明光學(xué)雙面膠層、蓋板玻璃層；所述B面疊設(shè)有曝光銀膠層。
2.如權(quán)利要求1所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏，其特征在于：所述曝光銀膠層由銀漿涂覆而成，所述銀漿的粘度為100～120dpa.s；所述曝光銀膠層的厚度為2～5μm。
3.如權(quán)利要求1～2任一所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏，其特征在于：所述納米銀層厚度為25～75μm。
4.如權(quán)利要求1所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏，其特征在于：所述基材層的材料為PET；所述基材層的厚度為50～125μm。
5.如權(quán)利要求1所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏，其特征在于：所述蓋板玻璃為硅酸鹽玻璃中的任一種，所述蓋板玻璃的厚度為0.5～0.7mm。
6.如權(quán)利要求1～5任一所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏的制造工藝，其特征在于：至少包括以下步驟：
對(duì)一表面疊設(shè)有納米銀層的基材進(jìn)行縮水處理；
將干膜貼附于所述納米銀層表面，然后對(duì)所述基材進(jìn)行片材切割處理；
對(duì)所述干膜進(jìn)行曝光、顯影處理；
在所述基材的另一表面進(jìn)行曝光銀膠的涂覆處理；
對(duì)所述曝光銀膠進(jìn)行預(yù)烘烤處理，獲得曝光銀膠層；
對(duì)所述曝光銀膠層進(jìn)行曝光、顯影處理；
對(duì)所述曝光銀膠層進(jìn)行固烤處理。
7.如權(quán)利要求6所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述縮水處理的溫度為145～155℃，所述疊設(shè)有納米銀層的基材在所述縮水處理中的移動(dòng)速度為1.2～1.7m/min；和/或，所述干膜曝光的光能量為45～55mj/cm2；所述曝光的光為波長(zhǎng)在315～400nm的UV光。
8.如權(quán)利要求6所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述預(yù)烘烤的溫度為100～120℃；所述基材在預(yù)烘烤中移動(dòng)速度為3.0～4.0m/min；和/或，所述曝光銀膠層的曝光能量為350～4505mj/cm2；所述曝光的光為波長(zhǎng)在315～400nm的UV光。
9.如權(quán)利要求6所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述顯影中顯影液的濃度為0.120％～0.150％，所述顯影速度為3.0～5.0m/min；和/或，所述固烤溫度為135～145℃；所述固烤時(shí)間為50～70min。
10.如權(quán)利要求6所述的GF2結(jié)構(gòu)觸摸屏的制造工藝，其特征在于：還包括在所述曝光銀膠層表面或納米銀層表面貼附透明光學(xué)雙面膠；以及，在所述透明光學(xué)雙面膠表面貼附蓋板玻璃。