本發(fā)明涉及一種保護蓋板及其制造方法。

背景技術(shù)：

在顯示設(shè)備與觸控裝置的產(chǎn)業(yè)中，為了美觀、與其他器材組裝、讓用戶方便接觸或觀察等因素，觸控裝置與顯示設(shè)備的表面可以具有各種形狀，舉例而言，觸控裝置與顯示設(shè)備的保護透明蓋板可具有側(cè)邊彎曲的形狀，而使觸控裝置與顯示設(shè)備的表面并非平面。

在這些變形的觸控裝置與顯示設(shè)備中，由于其表面為曲面，一些光學層體(例如抗反射層、抗炫光層、抗指紋層以及防霧層)與其制作方法可能無法發(fā)揮其功效。一方面，在曲面上以沉積方式形成的鍍膜可能會有厚度不均勻的問題，從而導致曲面區(qū)域的遮光層異色。另一方面，以抗反射層為例，部分利用干涉原理達到抗反射作用的薄膜，因為曲面的存在以及入射夾角較大的緣故，可能使反射光無法順利干涉，進而無法正常運作，容易導致曲面區(qū)域的遮光層產(chǎn)生異色等問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

基于此，本發(fā)明提供一種保護蓋板，設(shè)置光學膜位于保護蓋板的平坦部，避免光學膜設(shè)計于保護蓋板過于彎曲的部分，以免因制程因素導致光學膜不均勻或者因光學膜本身設(shè)計不適用于曲面而產(chǎn)生上述的異色問題。

本發(fā)明的一實施方式提供一種保護蓋板，包含基板、光學膜以及遮光層?；灏教共恳约霸O(shè)置于平坦部之至少一側(cè)的彎折部。光學膜設(shè)置于平坦部上，且露出至少部份彎折部。遮光層設(shè)置在基板相對光學膜的一側(cè)，遮光層具有開口以露出至少部分光學膜。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，露出的該彎折部具有曲面以及與曲面 的相切的切面，切面與平坦部設(shè)置有該光學膜的夾角大于15度。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，開口于光學膜上的正投影形狀與光學膜的形狀大致相同。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，光學膜不設(shè)置于彎折部上。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，遮光層僅設(shè)置于彎折部，光學膜覆蓋部分或全部的該平坦部。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，遮光層設(shè)置于彎折部，且遮光層部分設(shè)置于平坦部。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，該遮光層與該光學膜在垂直于該基板的方向上不重疊。

本發(fā)明的另一實施方式提供一種制造保護蓋板的方法，包含提供基板，基板包含平坦部以及設(shè)置于平坦部之至少一側(cè)的彎折部；形成遮光層至少于彎折部上，遮光層包含開口以露出部分之平坦部；形成覆膜至少于彎折部上，且位于基板相對遮光層一側(cè)，覆膜包含開口以露出部分之于平坦部；形成光學膜于基板上，且光學膜覆蓋覆膜并填入覆膜之鏤空部；以及移除覆膜以及位于覆膜上的光學膜，使剩余的光學膜位于基板之平坦部上。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，遮光層之開口與覆膜之鏤空部在基板上的正投影相同。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，形成覆膜至少于基板之彎折部上的步驟包含形成光阻層于基板相對遮光層的一側(cè)，光阻層覆蓋彎折部和至少部分平坦部；經(jīng)由光線通過遮光層之開口對光阻層進行曝光，使該光阻層對應(yīng)該開口的部分形成一曝光部；以及移除光阻層之曝光部分，其中光阻層之剩余部分形成該覆膜。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，光阻層的材料為正型光阻。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，遮光層之開口于基板上的正投影形狀與光學膜之剩余部分的形狀相同。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，形成覆膜至少于彎折部上的步驟包含形成部分覆膜于該平坦部上。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，形成覆膜至少于彎折部上的步驟包含將覆膜黏貼至彎折部上，其中覆膜具有黏著層，黏著層與基板直接接觸，且移除覆膜的步驟還包含將黏著層一并移除。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，形成覆膜至少于彎折部上的步驟包含涂布膠體于彎折部上，該膠體形成為該覆膜。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，該覆膜覆蓋的彎折部具有曲面以及與曲面的相切的切面，切面與平坦部設(shè)置有該光學膜的表面夾角大于15度。

附圖說明

圖1為根據(jù)本發(fā)明的一實施方式的保護蓋板的剖面圖。

圖2為根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式的保護蓋板的剖面圖。

圖3為根據(jù)本發(fā)明的又一實施方式的保護蓋板的剖面圖。

圖4A至圖4F為根據(jù)本發(fā)明的一實施方式的保護蓋板于多個制造階段的剖面圖。

附圖標記說明：

100：保護蓋板

110：基板

112：平坦部

112a：上表面

114：彎折部

114a：曲面

114b：切面

114c：子部

120：光學膜

122：上表面

130、130a、130b：遮光層

132：開口

200：光阻層

200a：曝光部

200’：覆膜

202’：鏤空部

A：夾角

具體實施方式

以下將以附圖揭露本發(fā)明的多個實施方式，為明確說明起見，許多實務(wù)上的細節(jié)將在以下敘述中一并說明。然而，應(yīng)了解到，這些實務(wù)上的細節(jié)不應(yīng)用以限制本發(fā)明。也就是說，在本發(fā)明部分實施方式中，這些實務(wù)上的細節(jié)是非必要的。此外，為簡化附圖起見，一些公知慣用的結(jié)構(gòu)與組件在附圖中將以簡單示意的示出。

圖1為根據(jù)本發(fā)明的一實施方式的保護蓋板100的剖面圖。保護蓋板100包含基板110、光學膜120以及遮光層130?；?10包含平坦部112以及設(shè)置于平坦部112之至少一側(cè)的彎折部114。光學膜120設(shè)置于平坦部112上，且露出至少部分彎折部114，在本實施例中，光學膜120僅設(shè)置于平坦部112上，而不設(shè)置于彎折部114上以完全露出彎折部114。遮光層130設(shè)置在基板110相對光學膜120的一側(cè)，遮光層130具有開口132以露出光學膜120。

在本發(fā)明的一個或多個實施方式中，彎折部114具有曲面114a以及與曲面114a的相切的多個切面114b。雖然在此并未一一詳細標示，彎折部114于曲面114a的上的多個位置分別具有切面114b。切面114b分別與平坦部112之上表面112a形成一夾角A，其中平坦部112之上表面112a為平坦部112設(shè)置有光學膜120一側(cè)的表面。換句話說，彎折部114可以分割成多個子部114c，每一子部114c的切面114b相對于平坦部112的上表面112a具有特定范圍的夾角A。于此，子部分114c僅用以方便說明保護蓋板100的多個組件的配置，不應(yīng)以子部分114c的數(shù)量而限制本發(fā)明之范圍。

于本實施方式中，藉由局部配置光學膜120，使光學膜120不會設(shè)置于過于 彎曲的子部114c，以避免位于彎折部114的遮光層130產(chǎn)生異色問題。

詳細而言，于本發(fā)明之一或多個實施方式中，設(shè)計光學膜120不覆蓋夾角A大于一預(yù)定夾角的子部114c，此預(yù)定夾角的數(shù)值取決于光學膜120于曲面上的適應(yīng)性，即光學膜120仍能夠正常運作的范圍。藉此方式可以避免光學膜120覆蓋于大于其能正常運作的夾角。

以光學膜120為抗反射膜為例，光學膜120不覆蓋夾角A大于15度的子部114c，即光學膜120至少露出切面114b與平坦部112之上表面112a夾角大于15度的彎折部120。如圖所示，于本實施方式中，如圖1所示，光學膜120不設(shè)置于彎折部114上，而僅設(shè)置于平坦部112上。當然，于其他實施方式中，光學膜120可以設(shè)置于彎折部114上，此時其所覆蓋的子部114c對應(yīng)的夾角A等于或小于15度。

于本實施方式中，遮光層130與光學膜120在垂直于基板110的方向上不重疊，或者遮光層130于光學膜120上的投影可以配置與光學膜120相接。進一步的，遮光層130的開口132與光學膜120完全重疊，舉例而言，遮光層130的開口132于光學膜120上的正投影形狀與光學膜120的形狀相同或大致相同，以確保光線受到光學膜120的調(diào)整。舉例而言，本發(fā)明的保護蓋板100可作為電子裝置如顯示裝置或觸控顯示裝置的保護外蓋，遮光層130的開口132對應(yīng)于電子裝置的可視區(qū)，以供電子裝置顯示影像，光學膜120覆蓋該可視區(qū)以實現(xiàn)影像光學效果調(diào)整，遮光層130所覆蓋的區(qū)域則形成為電子裝置的邊框，用于遮擋導電線路等不透明元件。當光線由電子裝置的顯示元件向外部投射時，或外部光線入射至電子裝置時，通過遮光層130的開口132的光線勢必受到光學膜120的調(diào)整，而可以帶來較好的影像質(zhì)量。例如，當光學膜120為抗反射膜時，被光學膜120覆蓋的區(qū)域則具有抗反射的光學效果。

在此討論靠近彎折部114的遮光層130(即圖1中右側(cè)的遮光層130a)。于本實施方式中，遮光層130a除了設(shè)置于彎折部114上，還部分設(shè)置于平坦部112上，此時光學膜120之上表面122的面積可配置小于基板110之平坦部112之上表面112a的面積，使得光學膜120未完全覆蓋上表面112a，其中光學膜120的上表面122為光學膜120遠離基板110的表面。較佳的，遮光層130a與光學 膜120在垂直于基板110的方向上不重疊，以避免遮光層130在不同區(qū)域從外觀上來看顏色不一致，例如與光學膜120重疊的區(qū)域的遮光層130由于受到光學膜120的調(diào)整，顏色會不同于遮光層130其它區(qū)域的顏色。實際應(yīng)用上不應(yīng)以此限制本發(fā)明之范圍，遮光層130a可以僅設(shè)置于彎折部114上，光學膜120可完全覆蓋部分或全部平坦部112的上表面112a。

另外，關(guān)于位于平坦部112上但未靠近或設(shè)置于彎折部114上的遮光層130(圖1中左側(cè)的遮光層130b)，其材料與制造方式可以與遮光層130a相同。且，為了讓使用者在左、右側(cè)遮光層130a、130b所觀察到的顏色一致，如同遮光層130a的設(shè)置，遮光層130b與光學膜120在垂直于基板110的方向上不重疊，即左側(cè)遮光層130b對應(yīng)的平坦部112上表面不設(shè)置光學膜120。

于本實施方式中，基板110的材料可以是玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(Poly(methyl methacrylate)；PMMA)、聚碳酸酯(Polycarbonate；PC)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚氯乙烯(Polyvinyl chloride；PVC)或上述之組合?；?10具有側(cè)邊彎曲的特性。于部分實施方式中，為了體現(xiàn)基板110的側(cè)邊彎曲的特性以及側(cè)邊彎曲造成光學膜120無法正常運作的問題，基板110未被光學膜120覆蓋的彎折部114的至少一子部分114c具有大于15度的夾角A。于部份實施方式中，彎折部114與平坦部112可由一體形成、熱壓、無膠鍵合等方式制作。

此外，雖然于本發(fā)明之多個實施方式中，僅繪示基板110具有單側(cè)彎曲，但實際應(yīng)用上不應(yīng)以此限制本發(fā)明之范圍，基板110可以是雙側(cè)彎曲、三側(cè)彎曲或四側(cè)彎曲的，且在各個彎曲部分可以采用本發(fā)明之多個實施方式中光學膜120與遮光層130的配置。

于本實施方式中，光學膜120可以是抗反射層、抗眩光層、抗指紋層以及防霧層。以抗反射層為例，其可以由高低折射率交錯的多個層體所形成，其材料可以是氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氟化鎂等，或者，抗反射層亦可以由多個折射率漸變的層體所組成。以抗眩光層為例，材料可以是樹脂，例如聚氨酯樹脂、丙烯酸環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、醇酸樹脂或聚酯樹脂。光學膜120可以是該領(lǐng)域各種常見的材料，在此不一一贅述。

于本實施方式中，遮光層130的材料可為油墨、光阻或油墨和光阻組成的疊層結(jié)構(gòu)，例如白色油墨、光阻或黑色油墨、光阻。遮光層130具有較低的穿透率，以遮蔽與保護蓋板100搭配的其他組件的周邊電路，可避免周邊線路的反光影響視覺效果。遮光層130的制造過程可以包含涂布油墨(例如網(wǎng)印)以及烘烤步驟。

圖2為根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式的保護蓋板100的剖面圖。本實施方式的保護蓋板100與圖1的保護蓋板100相似，差別在于：本實施方式之光學膜120部分設(shè)置于彎折部114上，且光學膜120所覆蓋的子部114c的夾角A等于或小于前述的預(yù)定夾角，例如15度，但光學膜120仍會露出彎曲度較大的部分彎折部114，例如光學膜120露出夾角A大于15度子部114c。

相似地，本實施方式中，遮光層130的開口132于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形狀與光學膜120于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形狀大致相同。同樣地，光線通過遮光層130的開口132勢必受到光學膜120的調(diào)整，而可以帶來較好的影像質(zhì)量。本實施方式的其他細節(jié)大致上如圖1的實施方式所述，在此不再贅述。

圖3為根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式的保護蓋板100的剖面圖。本實施方式的保護蓋板100與圖1的保護蓋板100相似，差別在于：本實施方式之保護蓋板100之開口132于光學膜120上的正投影形狀與光學膜120的形狀不同。換句話說，遮光層130a于光學膜120上的正投影不必配置與光學膜120剛好相接，而是有部分重疊的，但光學膜120仍會露出彎曲度較大的部分彎折部114。同樣地，通過遮光層130的開口132的光線勢必受到光學膜120的調(diào)整，而可以帶來較好的影響質(zhì)量。本實施方式的其他細節(jié)大致上如圖1的實施方式所述，在此不再贅述。

圖4A至圖4F根據(jù)本發(fā)明的一實施方式的保護蓋板100于多個制造階段的剖面圖。下面以對應(yīng)圖1的保護蓋板100的制造方法來說明。

首先，參照圖4A，形成遮光層130至少于基板110之彎折部114上。遮光層130包含開口132，開口132對應(yīng)于基板110之平坦部112，以露出部分之平坦部112。于本實施方式中，如圖所示，靠近彎折部114的遮光層130(即遮光層 130a)同時形成于平坦部112與彎折部114上，遠離彎折部114的遮光層130(即遮光層130b)僅形成于平坦部112上，且遮光層130之開口132僅對應(yīng)于平坦部112而不對應(yīng)于彎折部114。于其他實施方式中，雖然在此并未以圖式說明，遮光層130a可以僅形成于彎折部114上，而開口132正好地對應(yīng)于基板110之平坦部112。更甚者，于部份實施方式中，開口132還可對應(yīng)于部份彎折部114(參考圖2)，其設(shè)置規(guī)則大致上如前所述，在此不再贅述。

參照圖4B，形成光阻層200于基板110相對遮光層130的一側(cè)，光阻層200覆蓋彎折部114和至少部分平坦部112，本實施例中光阻層200全面覆蓋基板110相對設(shè)置有遮蔽層130的表面。光阻層200的材料為正型光阻。于此，光阻層可以透過沉積、涂布以及烘烤等步驟而形成。

參照圖4C，經(jīng)由光線通過遮光層130之開口132對光阻層200進行曝光。應(yīng)了解到，于步驟中，光線是從遮光層130往基板110的方向前進，而對基板另一側(cè)的光阻層200曝光，使光阻層200對應(yīng)遮光層130之開口132的部分形成一曝光部200a。遮光層130可以作為此曝光過程的光罩，而使得光阻層200的曝光圖案與遮光層130之開口132相似。

參照圖4D，移除光阻層200(參照圖4C)之曝光部200a，其中光阻層200(參照圖4C)之剩余部分形成覆膜200’，覆膜200’包含因移除曝光部200a而形成的鏤空部202’，鏤空部202’對應(yīng)于平坦部112而露出部分之平坦部112。如前所述，于部份實施方式中，由于遮光層130作為光阻層200(參照圖4C)曝光過程的光罩，鏤空部202’與遮光層130之開口132具有大致相同的圖案，即遮光層130之開口132與覆膜200’之鏤空部202’在基板110上的正投影相同。如同前述的遮光層130的配置，于本實施方式中，部分覆膜200’可形成于該平坦部112上，覆膜200’之鏤空部202’可僅對應(yīng)于平坦部112而不對應(yīng)于彎折部114。于其他實施方式中，雖然在此并未以圖式說明，鏤空部202’可對應(yīng)于部份彎折部114。

接著，參照圖4E，形成光學膜120于基板110上，且光學膜120覆蓋覆膜200’并填入覆膜200’之鏤空部202’。

參照圖4F，移除覆膜200’(參照圖4E)以及位于覆膜200’(參照圖4E)上的光學膜120，使光學膜120之剩余部分可位于基板110之平坦部112上。此移除步 驟可以透過手動剝除或者機械剝除進行。

如前所述，由于本實施方式藉由光刻的方式制作光學膜120，遮光層130之開口132于剩余的光學膜120上的正投影形狀與剩余的光學膜120的形狀大致相同。如此一來，通過遮光層130之開口132的光線勢必受到光學膜120的調(diào)整，而可以帶來較好的影像質(zhì)量。且，光學膜120不會因為設(shè)置于彎曲較大的曲面上而產(chǎn)生異色的問題。

以上圖4B至圖4D介紹藉由遮光層130以光刻方式形成覆膜200’的過程，但實際應(yīng)用上，可以透過多種方式形成覆膜200’，并不需以此為限。舉例而言，覆膜200’可以是具有黏著層的軟性薄膜基板，軟性薄膜基板可以提供后續(xù)剝除覆膜200’時一定的支撐力，可以透過將覆膜200’之黏著層與基板110直接接觸，而將覆膜200’黏貼至彎折部114上，后續(xù)再移除覆膜的步驟中還包含將黏著層一并移除。在制作光學膜120時，光學膜120即可設(shè)置于覆膜200’的軟性薄膜基板上。

或者，于其他實施方式中，可以透過涂布液態(tài)膠體于彎折部114上，再透過固化或烘烤等方式而使膠體形成覆膜200’。覆膜200’的材料可以是固化后能提供移除(剝除)步驟一定支撐力的材料，舉例而言，覆膜200’可以是樹脂。

于這些其他的覆膜200’形成方法中，并不一定要配置覆膜200’之鏤空部202’與遮光層130之開口132具有大致相同的圖案。換句話說，遮光層130之開口132于剩余的光學膜120上的正投影形狀與剩余的光學膜120的形狀不一定相同，可以存在其他多種變型。

綜上所述，本發(fā)明提供一種保護蓋板，設(shè)置光學膜位于保護蓋板的平坦部，避免光學膜設(shè)計于保護蓋板過于彎曲的部份，以免因制程因素導致光學膜不均勻或者因光學膜本身設(shè)計不適用于曲面而產(chǎn)生上述的異色問題。

雖然本發(fā)明已以多種實施方式揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，應(yīng)可作各種的變動與修改，因此本發(fā)明的保護范圍當以權(quán)利要求書所界定的為準。