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一種柔性觸控屏及其制備方法與流程

文檔序號:11828272閱讀:187來源:國知局
一種柔性觸控屏及其制備方法與流程

本發(fā)明涉及電子技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種電容式柔性觸控屏及其制備方法。



背景技術(shù):

觸控屏(英文全稱為Touch Panel),又稱觸摸屏、觸控面板,是一種形成在圖像顯示裝置顯示面上,利用人體或電容筆等導體進行指令輸入的裝置,可代替鼠標、鍵盤等外接輸入裝置以及機械式輸入按鍵等輸入設(shè)備,可有效簡化電腦、手機等電子產(chǎn)品結(jié)構(gòu),具有非常廣闊的應用前景。

觸控屏分為電阻式覆蓋(resistive overlay)觸控屏、光敏式觸控屏、電容式觸控屏等。其中,電容式觸控屏(英文全稱為Capacity Touch Panel,簡稱為CTP)是利用人體的電流感應對屏幕進行控制的,根據(jù)偵測觸碰區(qū)域的電容變化,進而計算觸碰位置,具有靈敏度高、容易實現(xiàn)多點觸控技術(shù)等優(yōu)點,逐漸成為智能手機、平板電腦等電子產(chǎn)品中應用的主流觸控屏。

中國專利文獻CN102163095A公開了一種電容式觸控屏及其制備方法,包括形成在透明基底上的第一感測圖案和第二感測圖案。第一感測圖案彼此通過第一連接圖案沿第一方向連接設(shè)置,第二感測圖案彼此通過第二連接圖案沿第二方向連接設(shè)置,第一感測圖案連接而成的列與第二感測圖案連接而成的行形成絕緣且彼此交叉的結(jié)構(gòu)。

為了防止第一連接圖案和第二連接圖案短路,第一連接圖案和第二感測圖案之間需形成絕緣層,制備方法為:在透明基底上順序形成導電 層和絕緣層;在絕緣層上形成光致抗蝕劑層并圖案化形成掩膜;通過掩膜分別對導電層和絕緣層進行圖案化,形成第一感測圖案、第二感測圖案以及串聯(lián)第一感測圖案的第一連接圖案,圖案化后除去掩膜;在基底上形成覆蓋第二感測圖案和絕緣層的導電層,并圖案化形成串聯(lián)第二感測圖案的第二連接圖案。

上述工藝中需要形成第一感測圖案、第二感測圖案、第一連接圖案、第二連接圖案的形成過程以及絕緣層的圖案化工藝共需要執(zhí)行四層膜層、兩道掩模和三道刻蝕工藝,制造工藝復雜,從而降低了觸控屏的生產(chǎn)效率和良品率,提高了生產(chǎn)成本。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

為此,本發(fā)明所要解決的是現(xiàn)有技術(shù)中觸控屏制備工藝復雜的問題,提供一種制備工藝簡單的柔性觸控屏及其制備方法。

為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:

一種柔性觸控屏,所述柔性襯底呈折疊設(shè)置,形成設(shè)置有若干獨立的第一感測圖案的第一柔性襯底和設(shè)置有若干獨立的第二感測圖案的第二柔性襯底;

所述的第一感測圖案通過第一連接圖案實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第一導電單元;所述的第二感測圖案通過第二連接圖案實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第二導電單元;所述第一導電單元和第二導電單元之間設(shè)置有絕緣層;所述第一感測圖案和第二感測圖案形成互感電容結(jié)構(gòu)。

所述第一感測圖案和第二感測圖案分別位于所述的柔性襯底中心線兩側(cè),所述柔性襯底沿其中心線對折后,所述第一感測圖案和第二感測圖案形成互感電容結(jié)構(gòu)。

所述第一感測圖案與所述第二感測圖案形狀相同。

所述絕緣層是由氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的一種或其組合物制 備而成。

一種柔性觸控屏的制備方法,包括如下步驟:

S1、將柔性襯底貼合在剛性輔助襯底上;

S2、在柔性襯底上遠離所述剛性輔助襯底的一側(cè)形成導電層;

S3、采用刻蝕工藝對所述導電層進行圖案化,形成若干獨立的第一感測圖案和第二感測圖案,以及位于所述第一感測圖案之間的第一連接圖案(51),位于第二感測圖案之間的第二連接圖案;

所述第一感測圖案通過第一連接圖案實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第一導電單元;所述的第二感測圖案通過第二連接圖案實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第二導電單元;

S4、蒸鍍形成覆蓋所述第一導電單元的絕緣層;

S5、將所述柔性襯底去除所述輔助襯底后折疊,所述第一感測圖案和第二感測圖案形成互感電容結(jié)構(gòu),封裝即得。

作為另一種選擇,所述步驟S2和步驟S3為:

S2、在柔性襯底上遠離所述輔助襯底的一側(cè)形成彼此絕緣的第一導電層和第二導電層;

S3、采用刻蝕工藝對所述第一導電層進行圖案化,形成若干獨立的第一感測圖案和位于所述第一感測圖案之間的第一連接圖案;采用刻蝕工藝對所述第二導電層進行圖案化,形成若干獨立的第二感測圖案和位于所述第二感測圖案之間的第二連接圖案;

所述第一感測圖案通過第一連接圖案實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第一導電單元;所述的第二感測圖案通過第二連接圖案實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第二導電單元。

優(yōu)選地,所述步驟S1中的剛性輔助襯底為剛性平面或滾筒表面。

所述步驟S4為:蒸鍍形成覆蓋所述蒸鍍形成覆蓋所述第二導電單元的絕緣層。

所述步驟S4為:蒸鍍形成覆蓋所述蒸鍍形成覆蓋所述第一導電單元和第二導電單元的絕緣層。

所述步驟S5中是將所述柔性襯底沿其中心線對折。

本發(fā)明的上述技術(shù)方案相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點:

本發(fā)明所述的柔性觸控屏是柔性襯底上設(shè)置有若干獨立的第一感測圖案和若干獨立的第二感測圖案后,將柔性襯底折彎后使對應位置的第一感測圖案和第二感測圖案形成互感電容結(jié)構(gòu)。該種結(jié)構(gòu)的柔性觸控屏結(jié)構(gòu)簡單,制備過程僅需要在基板上形成導電層,經(jīng)過刻蝕后再蒸鍍一層絕緣層后即可,僅僅需要形成兩層膜層,刻蝕一次即可實現(xiàn)。大大簡化了制備工藝,提高了成品率。

附圖說明

為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚的理解,下面根據(jù)本發(fā)明的具體實施例并結(jié)合附圖,對本發(fā)明作進一步詳細的說明,其中

圖1-圖5是本發(fā)明柔性觸控屏制備過程結(jié)構(gòu)示意圖;

圖6是圖4所示柔性觸控屏俯視圖;

圖7是本發(fā)明圖5所示柔性觸控屏俯視圖。

圖中附圖標記表示為:1-柔性襯底、2-輔助襯底、31-第一感測圖案、32-第二感測圖案、4-絕緣層、51-第一連接圖案、52-第二連接圖案、61-第一電接觸點、62-第二電接觸點。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施方式作進一步地詳細描述。

本發(fā)明可以以許多不同的形式實施,而不應該被理解為限于在此闡述的實施例。相反,提供這些實施例,使得本公開將是徹底和完整的,并且將把本發(fā)明的構(gòu)思充分傳達給本領(lǐng)域技術(shù)人員,本發(fā)明將僅由權(quán)利要求來限定。在附圖中,為了清晰起見,會夸大層和區(qū)域的尺寸和相對尺寸。應當理解的是,當元件例如層、區(qū)域或基板被稱作“形成在”或“設(shè)置在”另一元件“上”時,該元件可以直接設(shè)置在所述另一元件上,或者也可以存在中間元件。相反,當元件被稱作“直接形成在”或“直接設(shè)置在”另一元件上時,不存在中間元件;當元件被稱為“透明或半透明”,表示該元件具有高的光學透射率。

如圖5和圖7所示,本發(fā)明的一種柔性觸控屏,包括柔性襯底1,所述柔性襯底1呈折疊設(shè)置,形成設(shè)置有若干獨立的第一感測圖案31的第一柔性襯底和設(shè)置有若干獨立的第二感測圖案32的第二柔性襯底;

如圖6所示,所述的第一感測圖案31通過第一連接圖案51實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第一導電單元,第一感測圖案31為菱形,相鄰兩個菱形的接觸點即為第一連接圖案51,作為其他實施方式,第一連接圖案51也可以為連接相鄰第一感測圖案31的方形或其他任何形狀的圖案,只要能夠使第一感測圖案31串聯(lián)連接即可實現(xiàn)發(fā)明目的。所述的第二感測圖案32通過第二連接圖案52實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第二導電單元;所述第一導電單元和所述第二導電單元之間絕緣,作為其他實施方式,第二連接圖案52也可以為連接相鄰第二感測圖案32的方形或其他任何形狀的圖案,只要能夠使第二感測圖案32串聯(lián)連接即可實現(xiàn)發(fā)明目的。

所述第一感測圖案31和第二感測圖案32分別位于所述的柔性襯底1中心線兩側(cè),所述柔性襯底1沿其中心線對折后,所述第一感測圖案31和第二感測圖案32形成互感電容結(jié)構(gòu)。

如圖5所示,所述第一導電單元和第二導電單元之間設(shè)置有絕緣層4;所述第一感測圖案31和第二感測圖案32形成互感電容結(jié)構(gòu)。柔性襯底1優(yōu)選沿其中心線對折。

所述第一感測圖案31與所述第二感測圖案32形狀相同。

所述絕緣層4是由氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的一種或其組合物制備而成。

如圖1-6所示,上述柔性觸控屏的制備方法包括如下步驟:

S1、如圖1所示,將柔性襯底1貼合在輔助襯底2上,所述輔助襯底2具有剛性平面;作為其他可實施方式,輔助襯底2也可以為滾筒表面;

S2、在柔性襯底1上遠離所述輔助襯底2的一側(cè)通過濺射工藝形成導電層;本實施例中所述導電層優(yōu)選為銦錫氧化物(ITO)層,作為本發(fā)明的其他實施例,所述導電層選自但不限于鉬(Mo)、銀(Ag)、鈦(Ti)、銅(Cu)、鋁(Al)或鉬/鋁/鉬(Mo/Al/Mo)等低阻材料,具體制備方法根據(jù)材料進行選擇,均可以實現(xiàn)本發(fā)明的目的,屬于本發(fā)明的保護范圍。

S3、采用濕法刻蝕工藝對所述導電層進行圖案化,形成如圖2所示的若干獨立的第一感測圖案31和第二感測圖案32,以及如圖6所示,位于所述第一感測圖案31之間的第一連接圖案51,位于所述第二感測圖案32之間的第二連接圖案52;

所述第一感測圖案31通過第一連接圖案51實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第一導電單元;所述的第二感測圖案32通過第二連接圖案52實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第二導電單元;

通過刻蝕同時形成如圖6所示的第一電接觸點61和第二電接觸點62,所述第一電接觸點61與所述第一導電單元電連接,所述第二電接觸點62與所述第二導電單元電連接。

所述濕法刻蝕工藝中所采用的刻蝕劑選自但不限于包含草酸的酸性刻蝕劑,本實施例優(yōu)選草酸。本實施例中,優(yōu)選對所述第一連接圖案52過刻蝕,使得所述第一連接圖案52的側(cè)面比所述掩膜對應區(qū)域的側(cè)面更靠內(nèi),即得所述第一連接圖案52在所述柔性襯底1上的投影在所述掩膜 對應區(qū)域在所述柔性襯底1上的投影范圍內(nèi)。

S4、蒸鍍形成如圖3所示的覆蓋所述第一導電單元的絕緣層4;

S5、將所述柔性襯底1去除所述輔助襯底2后折疊,所述第一感測圖案31和第二感測圖案32形成互感電容結(jié)構(gòu),封裝即得。

優(yōu)選的,所述柔性襯底1去除所述輔助襯底2后沿其中心線對折。

所述的第一感測圖案31和所述第二感測圖案32也可以采用相同或不同的材料制備而成。當其采用不同的材料制備時,所述步驟S2和步驟S3為:

S2、在柔性襯底1上遠離所述輔助襯底2的一側(cè)形成彼此絕緣的第一導電層和第二導電層;

S3、采用刻蝕工藝對所述第一導電層進行圖案化,形成若干獨立的第一感測圖案31和位于所述第一感測圖案31之間的第一連接圖案51;采用刻蝕工藝對所述第二導電層進行圖案化,形成若干獨立的第二感測圖案32和位于所述第二感測圖案32之間的第二連接圖案52;

所述第一感測圖案31通過第一連接圖案51實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第一導電單元;所述的第二感測圖案32通過第二連接圖案52實現(xiàn)串聯(lián)連接,形成第二導電單元。

作為其他實施方式,所述的步驟S4為:蒸鍍形成覆蓋所述第二導電單元的絕緣層4;作為再一種實施方式,所述的步驟S4為:蒸鍍形成覆蓋所述第一導電單元和第二導電單元的絕緣層4。即,所述絕緣層4也可以只設(shè)置在所述第一導電單元上方或者第二導電單元上方,能夠在柔性襯底1后使第一導電單元和第二導電單元之間絕緣即可實現(xiàn)本發(fā)明的目的。

如圖6所示,本發(fā)明的柔性襯底1上分別設(shè)有第一電接觸點61和第二電接觸點62,所述柔性基襯底折疊后,第一電接觸點61和第二電接觸 點62的圓形圖案疊置實現(xiàn)電連通,作為其他實施方式,第一電接觸點61和第二電接觸點62也可以為方形或其他任何形狀的圖案,只要二者之間能夠使圖案疊置實現(xiàn)電連通即可實現(xiàn)發(fā)明目的。

本發(fā)明所述的柔性觸控屏備過程僅需要在基板上形成導電層,經(jīng)過刻蝕后再蒸鍍一層絕緣層后即可,僅僅需要形成兩層膜層,刻蝕一次即可實現(xiàn)。大大簡化了制備工藝,提高了成品率。

顯然,上述實施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例,而并非對實施方式的限定。對于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處于本發(fā)明的保護范圍之中。

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