專利名稱：透明導(dǎo)電體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
透明導(dǎo)電體技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實用新型涉及一種透明導(dǎo)電體。
背景技術(shù)：
[0002]電容觸摸屏以其透明度高，多點觸摸，壽命長等居多優(yōu)點，近年來，越來越受到市場的青睞。目前，通常采用真空蒸鍍或者磁控濺射方式將透明導(dǎo)電材料氧化銦錫(ITO)鍍制在PET或者玻璃基板上形成透明導(dǎo)電體以應(yīng)用于電容觸摸屏。[0003]然而，銦是一種稀有金屬，在大自然中儲量比較小，價格比較昂貴，從而使得透明導(dǎo)電體的成本較高。實用新型內(nèi)容[0004]基于此，有必要提供一種成本較低的透明導(dǎo)電體。[0005]一種透明導(dǎo)電體，包括依次層疊的透明基材、導(dǎo)電網(wǎng)及絕緣保護層，所述導(dǎo)電網(wǎng)鋪設(shè)于所述透明基材上，所述絕緣保護層遠離所述透明基材的一側(cè)表面為平面。[0006]在其中一個實施例中，所述透明基材的厚度為50μπΓ700μπι。[0007]在其中一個實施例中，導(dǎo)電網(wǎng)的厚度為ΙμπΓ Ομπι。[0008]在其中一個實施例中，所述導(dǎo)電網(wǎng)由多根導(dǎo)電線構(gòu)成。[0009]在其中一個實施例中，所述導(dǎo)電線選自金屬線、金屬合金線、碳納米管線、石墨烯線及導(dǎo)電高分子材料線中的至少一種。[0010]在其中一個實施例中，所述導(dǎo)電線的寬度為0.2μπΓ5μπ 。[0011]在其中一個實施例中，所述多根導(dǎo)電線交錯排布形成多個陣列排布的孔洞。[0012]在其中一個實施例中，所述孔洞為正方形、長方形、三角形、菱形或多邊形，相鄰的兩條導(dǎo)電線之間的距離為50μπΓ800μπ 。[0013]在其中一個實施例中，至少一根金屬線斷開形成缺口，所述缺口連通相鄰的兩個孔洞。[0014]在其中一個實施例中，所述絕緣保護層遠離所述透明基材的一側(cè)表面與所述導(dǎo)電網(wǎng)遠離所述透明基材的一側(cè)表面之間的距離小于 ο μ m。[0015]上述透明導(dǎo)電體，通過在透明基材表面鋪設(shè)導(dǎo)電網(wǎng)，避免使用氧化銦錫，從而透明導(dǎo)電體的成本較低；導(dǎo)電網(wǎng)表面形成有絕緣保護層，可以對導(dǎo)電網(wǎng)起到保護作用，防止導(dǎo)電網(wǎng)被刮花。


[0016]圖1為一實施方式的透明導(dǎo)電體的結(jié)構(gòu)示意圖；[0017]圖2為圖1中透明導(dǎo)電體的導(dǎo)電網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；[0018]圖3為另一實施方式 中透明導(dǎo)電體的導(dǎo)電網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；[0019]圖4為另一實施方式中透明導(dǎo)電體的制備流程的示意圖；[0020]圖5為另一實施方式的透明導(dǎo)電體的制備方法的流程圖。
具體實施方式
[0021]為了便于理解本實用新型，下面將參照相關(guān)附圖對本實用新型進行更全面的描述。附圖中給出了本實用新型的首選實施例。但是，本實用新型可以以許多不同的形式來實現(xiàn)，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本實用新型的公開內(nèi)容更加透徹全面。[0022]需要說明的是，當(dāng)元件被稱為“固設(shè)于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個元件被認(rèn)為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術(shù)語“垂直的”、“水平的”、“左”、 “右”以及類似的表述只是為了說明的目的。[0023]除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本實用新型的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本實用新型的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本實用新型。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。[0024]請參閱圖1，一實施方式的透明導(dǎo)電體10包括依次層疊的透明基材1、導(dǎo)電網(wǎng)2及絕緣保護層3。[0025]透明基材I大體為片狀。透明基材I為玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等光學(xué)透明材料。優(yōu)選的，透明基材I的厚度為50μπΓ700μπι，優(yōu)選為 50 μ m 300 μ m。[0026]導(dǎo)電網(wǎng)2鋪設(shè)于透明基材I的表面。導(dǎo)電網(wǎng)2的厚度為ΙμπΓ Ομπι，優(yōu)選為 2 μ m 5 μ m。[0027]請同時參閱圖2及圖3，導(dǎo)電網(wǎng)2由多條導(dǎo)電線22排布形成。導(dǎo)電線22選自金屬線、金屬合金線、碳納米管線、石墨烯線及導(dǎo)電高分子材料線中的至少一種。導(dǎo)電線22為直線(如圖2所示)，在其他實施例中導(dǎo)電線22也可以為曲線(如圖3所示)。需要說明的是， 導(dǎo)電線22不限于為圖2及圖3所示的狀態(tài)，也可為其他不規(guī)則的柔線狀態(tài)。[0028]優(yōu)選的 ，導(dǎo)電線22的寬度為0.2 μ πΓ5 μ m，優(yōu)選為0.5 μ πΓ2 μ m，相鄰的兩條導(dǎo)電線22之間的距離為50 μ πΓ800 μ m。需要說明的是，導(dǎo)電線條的密度及厚度可依材料需求之透過率和方塊電阻值來進行設(shè)計。[0029]多根導(dǎo)電線22交錯排布形成多個陣列排布的孔洞24。多個孔洞24的形狀及大小可以相同也可以不同?？锥?4可以為正方形、長方形、三角形、菱形或多邊形。需要說明的是，根據(jù)需要可以對導(dǎo)電線22進行斷線處理即某一個或多根導(dǎo)電線22被斷開形成一個缺口 26，從而使一根導(dǎo)電線22被切分為至少兩根，缺口 26使兩個相鄰的孔洞24相通。通過斷線處理可以使得整個網(wǎng)絡(luò)分裂為一條條單獨的通道，以至于不互相干擾，還可以滿足實現(xiàn)單層多點等相關(guān)技術(shù)要求。[0030]請再次參閱圖1，絕緣保護層3形成于導(dǎo)電網(wǎng)2表面且絕緣保護層3遠離透明基材I的一側(cè)表面32為平面。緣保護層的材料為熱塑性聚合物、熱固性聚合物或UV固化聚合物。表面32的平面度為0.1^1 μ m/mm2,優(yōu)選為0.2^0.5 μ m/mm2。[0031]為了不影響導(dǎo)電網(wǎng)2的導(dǎo)電性能，絕緣保護層130的表面32與導(dǎo)電網(wǎng)2遠離透明基材I的一側(cè)表面之間的距離小于 ο μ m，優(yōu)選的，小于5 μ m。[0032]上述透明導(dǎo)電體10中，通過在透明基材I表面鋪設(shè)導(dǎo)電網(wǎng)2，避免使用氧化銦錫， 從而透明導(dǎo)電體10的成本較低；導(dǎo)電網(wǎng)2表面形成有絕緣保護層3，可以對導(dǎo)電網(wǎng)2起到保護作用，防止導(dǎo)電網(wǎng)2被刮花。[0033]請同時參閱圖1至圖5，上述透明導(dǎo)電體10的制備方法，包括以下步驟:[0034]步驟S210、在透明基材I表面涂布光刻膠形成光刻膠層4。[0035]透明基材I大體為片狀。透明基材I為玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等光學(xué)透明材料。透明基材I的厚度為50μπΓ700μπι，優(yōu)選為 50 μ m 300 μ m。[0036]光刻膠層4的厚度為I μ πΓ Ο μ m，優(yōu)選為2 μ πΓ5 μ m。[0037]步驟S220、利用掩膜板5對光刻膠層4進行曝光，顯影后在所述光刻膠層形成網(wǎng)狀的圖案6。[0038]圖案6由開設(shè)于光刻膠層4的多條通道形成，多條通道呈網(wǎng)狀分布。需要說明的是，圖案6的形狀取決于需要制備的導(dǎo)電網(wǎng)2的形狀。[0039]步驟S230、將導(dǎo)電材料填入圖案6中，經(jīng)過固化得到導(dǎo)電網(wǎng)2。[0040]導(dǎo)電材料選自金屬、金屬合金、碳納米管、石墨烯及導(dǎo)電高分子材料中的至少一種。[0041]本實施方式中，采用刮涂或噴涂的方法將液體的導(dǎo)電材料填入圖案6中。[0042]導(dǎo)電網(wǎng)2由多條導(dǎo)電線22排布形成。導(dǎo)電線22可以為直線(如圖2所示)，也可以為曲線(如圖3所示)。需要說明的是，導(dǎo)電線22不限于為圖2及圖3所示的狀態(tài)，也可為其他不規(guī)則的柔線狀態(tài)。[0043]優(yōu)選的，導(dǎo)電線22的寬度為0.2 μ πΓ5 μ m,優(yōu)選為0.5 μ πΓ2 μ m。相鄰的兩條導(dǎo)電線22之間的距離為50 μ πΓ800 μ m。需要說明的是，導(dǎo)電線條的密度及厚度可依材料需求之透過率和方塊電阻值來進行設(shè)計。[0044]多根導(dǎo)電線22交錯排布形成多個陣列排布的孔洞24。多個孔洞24的形狀及大小可以相同也可以不同?？锥?4可以為正方形、長方形、三角形、菱形或多邊形。需要說明的是，根據(jù)需要可以對導(dǎo)電線22進行斷線處理即某一個或多根導(dǎo)電線22被斷開形成一個缺口 26，從而使一根導(dǎo)電線22被切分為至少兩個，缺口 26使兩個相鄰的孔洞24相通。通過斷線處理可以使得整個網(wǎng)絡(luò)分裂為一條條單獨的通道，以至于不互相干擾；還有滿足實現(xiàn)單層多點等相關(guān)技術(shù)要求。[0045]步驟S240、利用除膠劑除去光刻膠層4。[0046]需要說明的是，在采用刮涂或噴涂的方法將液體的導(dǎo)電材料填入圖案6中時，會有部分導(dǎo)電材料涂布至光刻膠層4表面，但是利用除膠劑除去光刻膠層4時會連同光刻膠層4表面的導(dǎo)電材料一并除去。[0047]步驟S250、利用濕法涂布工藝在導(dǎo)電網(wǎng)2表面涂布絕緣保護材料，固化后形成絕緣保護層3，絕緣保護層3遠離透明基材I表面的一側(cè)表面32為平面。[0048]保護層的材料為熱塑性聚合物、熱固性聚合物或UV固化聚合物。表面32的平面度為 0.1 I μ m/mm2,優(yōu)選為 0.2 0.5 μ m/mm2。為了不影響導(dǎo)電網(wǎng)2的導(dǎo)電性能，絕緣保護層130的表面32與導(dǎo)電網(wǎng)2遠離透明基材I的一側(cè)表面之間的距離小于 ο μ m，優(yōu)選的，小于5 μ m。[0050]上述透明導(dǎo)電體10的制備方法較為簡單；通過光刻膠曝光顯影制備圖案6，再將導(dǎo)電材料填入圖案6制備導(dǎo)電網(wǎng)2，可以節(jié)約導(dǎo)電材料、提高效率和降低成本，并且觸控靈敏度得到提升。[0051]以下為具體實施例:[0052]實施例1[0053]請參閱圖4，一種制備透明導(dǎo)電體的方法，具體包括以下步驟:[0054]I)、在PET表面涂布厚度為5um的光刻膠(4)，形成光刻膠層；[0055]2)、再利用掩膜板(5)對光刻膠層進行曝光；[0056]3)、通過顯影液進行顯影，在光刻膠層得到所需圖案；[0057]4)、采用刮涂技術(shù)將導(dǎo)電液體填入顯影后得到的圖案線條中，具體步驟如下:①在光刻膠表面涂布導(dǎo)電銀墨水，使銀墨水滲透到圖案線條中；②使用IR干燥系統(tǒng)將墨水烘干，得到導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)(2)；[0058]5)、利用除膠劑將表面殘留的光刻膠(4)除去；[0059]6)、采用濕法涂布工藝在導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)表面涂上一層PMMA UV固化樹脂(3)并進行固化，控制PMMA表面與導(dǎo)電Ag線表面的高度差為2um。其中PMMAUV固化樹脂的固化波長為 365nm,粘度為600cps,累計照射能量達到600mj/cm2后即可固化。[0060]以上所述實施例僅表達了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細， 但并不能因此而理解為對本實用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán) 利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種透明導(dǎo)電體，其特征在于，包括依次層疊的透明基材、導(dǎo)電網(wǎng)及絕緣保護層，所述導(dǎo)電網(wǎng)鋪設(shè)于所述透明基材上，所述絕緣保護層遠離所述透明基材的一側(cè)表面為平面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述透明基材的厚度為 50 μ m 700 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，導(dǎo)電網(wǎng)的厚度為1μπΓ Ο μ m。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述導(dǎo)電網(wǎng)由多根導(dǎo)電線構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述導(dǎo)電線選自金屬線、金屬合金線、碳納米管線、石墨烯線及導(dǎo)電高分子材料線中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述導(dǎo)電線的寬度為0.2 μ m 5 μ m。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述多根導(dǎo)電線交錯排布形成多個陣列排布的孔洞。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述孔洞為正方形、長方形、三角形、菱形或多邊形，相鄰的兩條導(dǎo)電線之間的距離為50μπΓ800μπι。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，至少一根金屬線斷開形成缺口，所述缺口連通相鄰的兩個孔洞。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述絕緣保護層遠離所述透明基材的一側(cè)表面與所述導(dǎo)電網(wǎng)遠離所述透明 基材的一側(cè)表面之間的距離小于 ο μ m。
專利摘要一種透明導(dǎo)電體，包括依次層疊的透明基材、導(dǎo)電網(wǎng)及絕緣保護層，所述導(dǎo)電網(wǎng)鋪設(shè)于所述透明基材上，所述絕緣保護層遠離所述透明基材的一側(cè)表面為平面。上述透明導(dǎo)電體避免使用氧化銦錫，從而透明導(dǎo)電體的成本較低。
文檔編號G06F3/044GK202976874SQ20122059073
公開日2013年6月5日 申請日期2012年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月9日
發(fā)明者劉偉, 唐根初, 龔薇, 唐彬, 程志政 申請人:深圳歐菲光科技股份有限公司