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有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法

文檔序號:6494157閱讀:134來源:國知局
有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法,所述有機(jī)發(fā)光顯示器使得能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜形狀以及柔性,并基于改善的結(jié)構(gòu)展現(xiàn)了優(yōu)良的接觸性能,所述有機(jī)發(fā)光顯示器包括:觸摸襯墊部分,所述觸摸襯墊部分形成在所述第二緩沖層的所述死區(qū)的一部分中;在所述觸摸襯墊部分中的彼此隔開的多個(gè)觸摸襯墊,所述多個(gè)觸摸襯墊中的每一個(gè)觸摸襯墊包括金屬襯墊層和經(jīng)由在第一絕緣膜中的多個(gè)第一接觸孔連接到所述金屬襯墊層的透明電極襯墊層;虛設(shè)襯墊部分,所述虛設(shè)襯墊部分形成在所述第一緩沖層的死區(qū)中,所述虛設(shè)襯墊部分包括與各個(gè)觸摸襯墊對應(yīng)的各個(gè)虛設(shè)襯墊;以及包括在所述觸摸襯墊部分和所述虛設(shè)襯墊部分之間的多個(gè)導(dǎo)電球的密封劑。
【專利說明】有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法,更具體地,涉及一種能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜形狀和柔性并基于改善的結(jié)構(gòu)展現(xiàn)良好的接觸性能的有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]平板顯示器的示例包括液晶顯示器(IXD)、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(0LED)、等離子體顯示面板(PDP)、量子點(diǎn)面板(PDP)、場致發(fā)射顯示器(FED)、電泳顯示器(EH))等。這些顯示器共同地包括實(shí)現(xiàn)圖像的平板顯示面板作為必要部件。這種平板顯示面板具有如下構(gòu)造:一對透明絕緣基板結(jié)合在一起,使得這一對透明絕緣基板經(jīng)由在其間的包含固有發(fā)光或偏振材料或其它光學(xué)材料的層彼此相對。
[0003]根據(jù)最近的大尺寸顯示器的趨勢,對采用更小空間的平板顯示器的需求逐漸增力口。在這種平板顯示器中,有機(jī)發(fā)光顯示技術(shù)快速發(fā)展。
[0004]有機(jī)發(fā)光顯示器不需要任何單獨(dú)的光源,并且在每一個(gè)像素中包括自發(fā)地發(fā)光的有機(jī)發(fā)光二極管,以實(shí)現(xiàn)顯示。由于有機(jī)發(fā)光顯示器有利地不需要光源以及用于將光源與顯示面板裝配在一起的結(jié)構(gòu),因此具有減小厚度和重量的優(yōu)點(diǎn),所以有機(jī)發(fā)光顯示器作為下一代顯示器引起更多關(guān)注。
[0005]當(dāng)電荷注射到形成在電子注射電極(陰極)和空穴注射電極(陽極)之間的有機(jī)膜中時(shí),電子與空穴結(jié)成對,然后所述對衰變。此時(shí),有機(jī)發(fā)光二極管發(fā)光。
[0006]同時(shí),對有機(jī)發(fā)光顯示器添加觸摸屏的需求增加,在所述觸摸屏中,用手或單獨(dú)的輸入元件觸摸的位置被感測,并且響應(yīng)于此而傳送信息。這種觸摸屏通過附接到顯示器的外表面而被應(yīng)用。
[0007]根據(jù)觸摸感測方法,觸摸屏被劃分成電阻、電容和紅外感測類型。考慮到便于制造、感測壓力等,電容型觸摸屏以小模型引起更多專注。
[0008]下面,將參照附圖描述現(xiàn)有技術(shù)的集成有觸摸屏的有機(jī)發(fā)光顯示器。
[0009]圖1是示出現(xiàn)有技術(shù)的觸摸屏有機(jī)發(fā)光顯示器的剖視圖。
[0010]如圖1所示,現(xiàn)有技術(shù)的集成有觸摸屏的有機(jī)發(fā)光顯示器包括從底部按順序?qū)盈B的有機(jī)發(fā)光顯示面板1、觸摸屏2和蓋窗口(cover window) 3,并且包括在各層之間設(shè)置的第一粘結(jié)層15和第二粘結(jié)層25。
[0011]這里,有機(jī)發(fā)光顯示面板I包括基板、設(shè)置在基板上的具有矩陣形式的薄膜晶體管陣列和連接到薄膜晶體管陣列的每一個(gè)薄膜晶體管的有機(jī)發(fā)光二極管,并包括覆蓋有機(jī)發(fā)光二極管的頂部的保護(hù)膜和偏振層。在這種情況下,第一粘結(jié)層15對應(yīng)于有機(jī)發(fā)光顯示面板I的偏振層。另外,第二粘結(jié)層25形成在觸摸屏2和蓋窗口 3之間,以將觸摸屏2粘結(jié)到蓋窗口 3。
[0012]現(xiàn)有技術(shù)的集成有觸摸屏的有機(jī)發(fā)光顯示器具有以下缺點(diǎn)。
[0013]第一,在有機(jī)發(fā)光顯示面板和觸摸屏單獨(dú)形成然后觸摸屏附接到有機(jī)發(fā)光顯示面板的情況下,有機(jī)發(fā)光顯示面板和觸摸屏需要單獨(dú)的玻璃,因此導(dǎo)致硬度和厚度增加,這使得無法實(shí)現(xiàn)薄且柔性的有機(jī)發(fā)光顯示器。
[0014]第二,有機(jī)發(fā)光顯示面板和觸摸屏具有不同的面板形狀,因此使得形成這些部件的工藝復(fù)雜,從而減小產(chǎn)量和價(jià)格競爭力。
[0015]第三,在觸摸屏的襯墊部分面向內(nèi)部(即,有機(jī)發(fā)光顯示面板的襯墊部分側(cè))的內(nèi)嵌式(in-cell)觸摸屏構(gòu)造中,使用包括導(dǎo)電球的密封劑執(zhí)行粘結(jié)工藝。在這種情況下,由于導(dǎo)電球之間的直徑的差異導(dǎo)致相對小的導(dǎo)電球可能具有接觸缺陷。另外,導(dǎo)電球的壓縮水平根據(jù)在粘結(jié)期間施加的壓力而改變,因此在粘結(jié)工藝期間可出現(xiàn)接觸缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0016]因此,本發(fā)明涉及一種有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法,所述有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法基本上解決了由于現(xiàn)有技術(shù)的局限性和缺點(diǎn)導(dǎo)致的一個(gè)或更多個(gè)問題。
[0017]本發(fā)明的目的在于提供一種有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法,所述有機(jī)發(fā)光顯示器使得能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜形狀以及柔性,并基于改善的結(jié)構(gòu)展現(xiàn)了優(yōu)良的接觸性能。
[0018]本發(fā)明的附加優(yōu)點(diǎn)、目的和特征將在下面的描述中部分描述且將對于本領(lǐng)域技術(shù)人員在研究下文后變得明顯,或可以通過本發(fā)明的實(shí)踐來了解。通過所寫的說明書及其權(quán)利要求書以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)和獲得本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點(diǎn)。
[0019]為了實(shí)現(xiàn)這些和其它優(yōu)點(diǎn),按照本發(fā)明的目的,如這里實(shí)施和廣泛描述的,提供了一種有機(jī)發(fā)光顯示器,該有機(jī)發(fā)光顯示器分別在具有工作區(qū)和死區(qū)并彼此相對的第一緩沖層和第二緩沖層上包括有機(jī)發(fā)光二極管陣列和觸摸電極陣列,該有機(jī)發(fā)光顯示器包括:觸摸襯墊部分,所述觸摸襯墊部分形成在所述第二緩沖層的所述死區(qū)的一部分中;在所述觸摸襯墊部分中的彼此隔開的多個(gè)觸摸襯墊,所述多個(gè)觸摸襯墊中的每一個(gè)觸摸襯墊包括金屬襯墊層和經(jīng)由在第一絕緣膜中的多個(gè)第一接觸孔連接到所述金屬襯墊層的透明電極襯墊層;虛設(shè)襯墊部分,所述虛設(shè)襯墊部分形成在所述第一緩沖層的死區(qū)中,所述虛設(shè)襯墊部分包括與各個(gè)觸摸襯墊對應(yīng)的各個(gè)虛設(shè)襯墊;以及在所述觸摸襯墊部分和所述虛設(shè)襯墊部分之間的包括多個(gè)導(dǎo)電球的密封劑。
[0020]形成在一個(gè)觸摸襯墊中的所述多個(gè)第一接觸孔彼此隔開,排列成m行和n列,并且在奇數(shù)行和偶數(shù)行中排列的所述多個(gè)第一接觸孔交替地設(shè)置。
[0021 ] 所述多個(gè)導(dǎo)電球中的至少一個(gè)導(dǎo)電球與所述多個(gè)第一接觸孔中的至少一個(gè)第一接觸孔內(nèi)側(cè)面接觸。
[0022]各個(gè)第一接觸孔的寬度可以小于各個(gè)導(dǎo)電球的直徑,并且所述多個(gè)第一接觸孔對應(yīng)于一個(gè)導(dǎo)電球。
[0023]所述觸摸襯墊的金屬襯墊層可以直接形成在所述第二緩沖層上,包括所述第一接觸孔的所述第一絕緣膜形成在所述金屬襯墊層上,并且所述透明電極襯墊層通過所述第一接觸孔連接到所述金屬襯墊層,并且形成在所述第一絕緣膜上。
[0024]所述透明電極襯墊層可以包括第一透明電極襯墊層和第二透明電極襯墊層。
[0025]所述觸摸襯墊還可包括在所述第一接觸孔之間的金屬圖案。在這種情況下,所述金屬圖案可設(shè)置在所述第一透明電極襯墊層和第二透明電極襯墊層之間。
[0026]所述第一絕緣膜可包括至少一個(gè)有機(jī)膜。
[0027]在所述第一緩沖層上,各個(gè)虛設(shè)襯墊可以包括柵金屬襯墊層和經(jīng)由在第三絕緣膜中包括的多個(gè)第二接觸孔連接到所述柵金屬襯墊層的源極襯墊層。
[0028]同時(shí),所述第一絕緣膜可以包括具有漸縮形狀的多個(gè)第一接觸孔側(cè)壁,所述漸縮形狀與所述第二緩沖層的表面形成55度或更小的角。
[0029]所述晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列可包括:薄膜晶體管陣列,所述薄膜晶體管陣列在所述第一緩沖層的工作區(qū)中包括在以矩陣形式限定的多個(gè)像素中的每一個(gè)像素中的薄膜晶體管;有機(jī)發(fā)光二極管,所述有機(jī)發(fā)光二極管連接到每一個(gè)像素的所述薄膜晶體管;以及保護(hù)層,所述保護(hù)層形成在所述第一緩沖層上,使得所述保護(hù)層覆蓋所述有機(jī)發(fā)光二極管。
[0030]所述觸摸電極陣列可包括:金屬橋,其在所述第二緩沖層上與所述金屬襯墊層形成在同一層中;多個(gè)第一透明溝道電極,其與所述透明電極襯墊層形成的同一層中,所述第一透明溝道電極在與所述金屬橋重疊時(shí)電連接到所述金屬橋,并在第一方向上彼此隔開;以及多個(gè)第二透明溝道電極,其與所述第一透明溝道電極形成在同一層中,所述第二透明溝道電極穿過所述金屬橋,并形成在第二方向上。
[0031]另選地,所述觸摸電極陣列可包括:金屬橋,在所述第二緩沖層上,所述金屬橋與所述金屬襯墊層形成在同一層中;與所述透明電極襯墊層形成在同一層中的多個(gè)第一透明溝道電極,所述第一透明溝道電極在與所述金屬橋重疊時(shí)電連接到所述金屬橋,并且在第一方向上彼此隔開;與所述第一透明溝道電極形成在同一層中的多個(gè)第二透明溝道電極,所述第二透明溝道電極穿過所述金屬橋,并且形成在第二方向上;以及公共透明電極圖案,所述公共透明電極圖案覆蓋所述第一透明溝道電極和所述第二透明溝道電極。
[0032]在這種情況下,所述有機(jī)發(fā)光顯示器還可包括:第二絕緣膜,所述第二絕緣膜形成在所述第一透明溝道電極和所述第二透明溝道電極與所述公共透明電極圖案之間。
[0033]另外,所述有機(jī)發(fā)光顯示器還可包括分別形成在所述第一緩沖層和所述第二緩沖層的后表面上的第一蝕刻阻止膜和第二蝕刻阻止膜。
[0034]另外,所述有機(jī)發(fā)光顯示器還可包括附接到所述第一蝕刻阻止膜的所述后表面上的膜基板。
[0035]所述有機(jī)發(fā)光顯示器還可包括形成在所述第二蝕刻阻止膜的上表面上的蓋玻璃。
[0036]所述第一緩沖層和所述第二緩沖層可以包括具有多個(gè)無機(jī)膜的層疊制品。
[0037]所述膜基板可以是塑料絕緣膜。
[0038]所述第一蝕刻阻止膜和所述第二蝕刻阻止膜可包括聚酰亞胺或感光亞克力。
[0039]根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法,所述方法包括以下步驟:在第一基板上形成第一蝕刻阻止膜和第一緩沖層,并形成晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列,其中,在所述第一緩沖層的工作區(qū)中,所述晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列具有在以矩陣形式限定的多個(gè)像素中的每一個(gè)像素中的晶體管和連接到所述薄膜晶體管的有機(jī)發(fā)光二極管;在第二基板上形成第二蝕刻阻止膜和第二緩沖層,并在所述第二緩沖層的工作區(qū)中形成觸摸電極陣列;在所述第二緩沖層的死區(qū)的一部分中形成觸摸襯墊部分,其中,所述觸摸襯墊部分包括多個(gè)觸摸襯墊,所述多個(gè)觸摸襯墊中的每一個(gè)觸摸襯墊包括經(jīng)由在第一絕緣膜中的多個(gè)第一接觸孔彼此連接的金屬襯墊層和透明電極襯墊層;在所述第一緩沖層的所述死區(qū)中形成虛設(shè)襯墊部分,其中,所述虛設(shè)襯墊部分包括多個(gè)虛設(shè)襯墊,所述多個(gè)虛設(shè)襯墊中的各個(gè)虛設(shè)襯墊對應(yīng)于各個(gè)觸摸襯墊;以及將包括導(dǎo)電球的密封劑應(yīng)用于所述觸摸襯墊部分或虛設(shè)襯墊部分,將粘結(jié)層附接到所述觸摸電極陣列或所述晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列,并將所述第一基板結(jié)合到所述第二基板。
[0040]形成觸摸襯墊部分的觸摸襯墊的步驟可包括:在所述第二緩沖層上形成金屬襯墊層;在所述金屬襯墊層上形成包括多個(gè)第一接觸孔的第一絕緣膜;在所述第一絕緣膜上形成透明電極襯墊層,使得所述透明電極襯墊層通過所述第一接觸孔連接到所述金屬襯墊層。
[0041]所述透明電極襯墊層可包括設(shè)置在不同層中的第一透明電極襯墊層和第二透明電極襯墊層。
[0042]如果期望,形成各個(gè)觸摸襯墊的步驟可包括:在第一接觸孔之間二維地設(shè)置金屬圖案,并在設(shè)置在不同層中的所述第一透明電極襯墊層和所述第二透明電極襯墊層之間形成金屬圖案。
[0043]同時(shí),形成所述虛設(shè)襯墊部分的虛設(shè)襯墊的步驟可包括:在所述第一緩沖層上形成柵金屬襯墊層;在所述柵金屬襯墊層上形成包括多個(gè)第二接觸孔的第三絕緣膜;以及在所述第三絕緣膜上形成源極襯墊層,使得所述源極襯墊層通過所述第二接觸孔連接到所述柵金屬襯墊層。
[0044]在結(jié)合之后,在所述觸摸襯墊部分和所述虛設(shè)襯墊部分之間可將所述導(dǎo)電球壓至
預(yù)定厚度。
[0045]在結(jié)合之后,所述觸摸襯墊部分的相鄰部分的死區(qū)可與所述密封劑隔開預(yù)定距離。
[0046]所述方法還可包括:去除所述第一基板和所述第二基板;以及將膜基板粘附于所述第一蝕刻阻止膜的露出的表面。
[0047]可通過蝕刻或激光照射所述第一基板和所述第二基板來執(zhí)行去除所述第一基板和所述第二基板。
[0048]應(yīng)當(dāng)理解,本發(fā)明的上述一般描述和下述詳細(xì)描述是示例性和說明性的,且旨在提供所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步說明。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0049]附圖被包括以提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解,并結(jié)合到本申請中且構(gòu)成本申請的一部分,附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施方式,且與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。附圖中:
[0050]圖1是示出現(xiàn)有技術(shù)的觸摸屏有機(jī)發(fā)光顯示器的剖視圖;
[0051]圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器的平面圖;
[0052]圖3是沿圖2的線1-1’截取的剖視圖;
[0053]圖4是圖2的區(qū)域“A”的放大平面圖;
[0054]圖5是圖4的一個(gè)觸摸襯墊的放大平面圖;
[0055]圖6A是沿圖5的II1-1II’線截取的剖視圖;
[0056]圖6B是示出圖6A的接觸孔的一側(cè)的SEM圖像;
[0057]圖7是沿著圖4的11-11’線截取的剖視圖;
[0058]圖8A至圖SC示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示器的觸摸襯墊;
[0059]圖9是與圖8A至圖8C相比的參考實(shí)施方式;[0060]圖1OA示出與根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器的觸摸襯墊對應(yīng)的薄膜晶體管虛設(shè)襯墊;
[0061]圖1OB是從圖1OA的實(shí)施方式修改的實(shí)施方式;以及
[0062]圖11是示出本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器的襯墊部分、相鄰部分和工作區(qū)的剖視圖?!揪唧w實(shí)施方式】
[0063]現(xiàn)在將詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,在附圖中例示出了其示例。在可能的情況下,相同的標(biāo)號在整個(gè)附圖中用于表示相同或類似部件。
[0064]下面,將參照附圖詳細(xì)描述有機(jī)發(fā)光顯示器及其制造方法。
[0065]最近幾年,對有機(jī)發(fā)光顯示器的觸摸感測以及厚度和柔性的要求增加。對此,提出了這樣的方法,其中,薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光陣列形成在第一基板上,觸摸電極陣列形成在第二基板上,這些電極結(jié)合在一起,并且通過激光照射或蝕刻去除硬且厚的第一基板和第二基板,以實(shí)現(xiàn)薄膜和柔性。在這種情況下,觸摸電極陣列的襯墊部分面對有機(jī)發(fā)光陣列的襯墊部分,并且這些襯墊部分經(jīng)導(dǎo)電球彼此連接在一起,從而使得信號傳送到觸摸電極陣列以及來自觸摸電極陣列的信號的檢測。
[0066]下面,將描述在蓋玻璃內(nèi)設(shè)置有觸摸電極陣列的內(nèi)嵌式有機(jī)發(fā)光顯不器。
[0067]圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器的平面圖。圖3是沿圖2的線1-1’截取的剖視圖。圖4是圖2的區(qū)域“A”的放大平面圖。
[0068]如圖2和圖3所示,根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器具有如下構(gòu)造:有機(jī)發(fā)光陣列150和觸摸電極陣列230經(jīng)粘結(jié)層400彼此結(jié)合在一起,其中,有機(jī)發(fā)光陣列150和觸摸電極陣列230分別形成在膜基板1000的內(nèi)側(cè)和蓋玻璃3000的內(nèi)側(cè),并且具有不同的尺寸。
[0069]另外,偏振板2000設(shè)置在蓋玻璃3000的下面,用于防止入射光的發(fā)射,以解決入射在有機(jī)發(fā)光顯示器上的外部光被反射并被觀看者看到的問題。
[0070]另外,這些陣列不直接形成在膜基板1000或蓋玻璃3000上,而是通過以下操作獲得:單獨(dú)制備第一基板和第二基板(二者均未示出),第一基板和第二基板中的每一個(gè)均用玻璃制成,經(jīng)設(shè)置在有機(jī)發(fā)光陣列150和觸摸電極陣列230之間的粘結(jié)層將第一基板和第二基板結(jié)合在一起(即,在保持第一基板和第二基板的同時(shí)執(zhí)行該結(jié)合工藝),并通過激光照射或蝕刻去除第一基板和第二基板,以實(shí)現(xiàn)薄膜和柔性。在這種情況下,如圖2所示,用玻璃材料形成的第一基板和第二基板被去除,并且膜基板1000和蓋玻璃3000分別粘結(jié)到露出的陣列的底部,以保護(hù)這些陣列。
[0071]這里,膜粘結(jié)層1100、第一蝕刻阻止層120、第一緩沖層130和薄膜晶體管陣列140以及有機(jī)發(fā)光陣列150按該順序形成在膜基板1000上,并且形成保護(hù)層160,以覆蓋有機(jī)發(fā)光陣列150。第二蝕刻阻止層210、第二緩沖層220和觸摸電極陣列230設(shè)置在蓋玻璃3000上。這里,觸摸電極陣列230設(shè)置成面向有機(jī)發(fā)光陣列150。在這種情況下,保護(hù)層160直接接觸粘結(jié)層400的底部,并且觸摸電極陣列230直接接觸粘結(jié)層400的頂部。
[0072]分別在第一緩沖層130和第二緩沖層220中限定工作區(qū)和死區(qū),并且在所述工作區(qū)中形成除了襯墊部分之外的觸摸電極陣列230、有機(jī)發(fā)光陣列150和在薄膜晶體管陣列140中存在的薄膜晶體管。另外,在死區(qū)的部分區(qū)域中限定觸摸電極襯墊部分2350和薄膜晶體管陣列的襯墊部分。[0073]這里,除了防止在激光照射或蝕刻期間對第一基板和第二基板的玻璃材料的損壞之外,第一蝕刻阻止層120和第二蝕刻阻止層210還用于防止內(nèi)部陣列的損壞。如果希望,則在去除第一基板和第二基板期間不損壞設(shè)置在其下面的第一緩沖層130和第二緩沖層220,并且可省略第一蝕刻阻止層120和/或第二蝕刻阻止層210。
[0074]另外,可通過順序地層疊同一類型的無機(jī)膜(例如,氧化物膜(SiO2)或氮化物膜(SiNx))或者交替地層疊不同類型的無機(jī)膜來形成第一緩沖層130和第二緩沖層220。第一緩沖層130和第二緩沖層220用作在第二基板結(jié)合到第一基板之后防止?jié)駳饣蛲獠靠諝馇秩胗袡C(jī)發(fā)光陣列150中的屏障。
[0075]另外,觸摸襯墊部分2350和觸摸電極陣列230 二者形成在第二緩沖層220的同一
表面上。
[0076]當(dāng)上基板和下基板經(jīng)粘結(jié)層400彼此結(jié)合在一起時(shí),觸摸襯墊部分2350經(jīng)包括導(dǎo)電球455的密封劑450連接到薄膜晶體管陣列140的襯墊部分。粘結(jié)層400用于防止?jié)駳馇秩?,并直接接觸覆蓋有機(jī)發(fā)光陣列150的保護(hù)層160,因此除了保護(hù)層160的作用之外,也防止外部空氣侵入到有機(jī)發(fā)光陣列150,并更確定地防止?jié)駳馇秩搿?br> [0077]這里,包括襯墊部分的薄膜晶體管陣列140具有從觸摸電極陣列230突出的一側(cè)。該構(gòu)造旨在在突出處提供用于傳送信號以同時(shí)驅(qū)動(dòng)觸摸電極陣列和薄膜晶體管陣列以及有機(jī)發(fā)光陣列的IC 500。盡管沒有示出,但是IC 500通過第一緩沖層130和IC 500上形成的線(未示出)連接到薄膜晶體管陣列的驅(qū)動(dòng)襯墊和虛設(shè)襯墊。另外,IC 500結(jié)合并連接到柔性印刷電路板(FPCB,未示出),并可被FPCB中設(shè)置的控制器(未示出)控制。在工作區(qū)之外設(shè)置的死區(qū)當(dāng)中的與觸摸電極襯墊部分對應(yīng)的區(qū)域中,虛設(shè)襯墊與構(gòu)成選通線或數(shù)據(jù)線的金屬形成在同一層中。
[0078]觸摸襯墊部分2350形成在第二緩沖層220上,并且形成在與第一緩沖層130比第二緩沖層220突出的部分相鄰的一側(cè)的兩個(gè)邊緣處。另外,形成的一個(gè)邊緣處的觸摸襯墊部分2350劃分成多個(gè)襯墊電極,以使得能夠進(jìn)行觸摸電極陣列中按X軸方向排列的第一電極的電壓施加或檢測,并且形成在另一邊緣處的觸摸襯墊部分2350被劃分成多個(gè)襯墊電極,以使得能夠進(jìn)行按Y軸方向排列的第二電極的電壓施加或檢測。
[0079]連接到觸摸襯墊部分2350的導(dǎo)電球455電連接到在薄膜晶體管陣列140之外形成的虛設(shè)電極(未示出)。
[0080]這里,在實(shí)際工藝期間,通過應(yīng)用到不同區(qū)域來單獨(dú)形成粘結(jié)層400和密封劑450。
[0081]同時(shí),如圖3所示,根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器包括:膜基板1000 ;按順序形成在膜基板1000上的第一蝕刻阻止膜120和第一緩沖層130 ;在第一緩沖層130上的以矩陣形式限定的薄膜晶體管陣列140,其具有在每一個(gè)像素中的薄膜晶體管;有機(jī)發(fā)光陣列150,其連接到每一個(gè)像素的薄膜晶體管;保護(hù)層160,其覆蓋除了襯墊部分之外的膜晶體管陣列140和有機(jī)發(fā)光陣列150 ;觸摸電極陣列230,其經(jīng)設(shè)置在保護(hù)層160和觸摸電極陣列230之間的粘結(jié)層400粘結(jié)到保護(hù)層;以及按順序形成在觸摸電極陣列230上的第二緩沖層220和第二蝕刻阻止膜210,所述有機(jī)發(fā)光顯示器包括設(shè)置在第二蝕刻阻止膜210上的蓋玻璃3000。
[0082]這里,蓋玻璃3000可經(jīng)設(shè)置在第二蝕刻阻止膜210和蓋玻璃3000之間的粘結(jié)層粘結(jié)到第二蝕刻阻止膜210,或者可通過機(jī)械方法或其它方法設(shè)置在第二蝕刻阻止膜210上。蓋玻璃3000防止用戶的直接觸摸對內(nèi)部陣列的損壞,并保護(hù)內(nèi)部陣列。
[0083]根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器可通過省略作為顯示器的部件中最厚的約為0.7mm的厚度的玻璃基板來減小厚度,并可通過使用膜基板1000作為用于支持薄膜晶體管陣列140、有機(jī)發(fā)光陣列150和觸摸電極陣列230的塑料絕緣膜來實(shí)現(xiàn)可彎曲或柔性的顯示器。
[0084]另外,在膜基板上形成陣列(例如,薄膜晶體管陣列140、有機(jī)發(fā)光陣列150和觸摸電極陣列230)的工藝中,通過向設(shè)備施加熱以沉積或構(gòu)圖陣列,膜基板進(jìn)行熱膨脹,從而使得無法進(jìn)行正常的工藝。為了防止這種現(xiàn)象,基本上,通過以下操作來執(zhí)行陣列的形成:在形成膜晶體管陣列140和形成觸摸電極陣列230之前,在玻璃基板上,分別在薄膜晶體管陣列140和觸摸電極陣列230下面形成蝕刻阻止膜120和210以及緩沖層130和220,然后在設(shè)備中加載玻璃基板用于沉積或構(gòu)圖。
[0085]同時(shí),薄膜晶體管陣列140包括彼此交叉以限定像素的多條選通線和多條數(shù)據(jù)線以及在所述多條選通線和所述多條數(shù)據(jù)線之間的各交叉處形成的薄膜晶體管。通過在形成選通線和數(shù)據(jù)線的工藝中形成襯墊部分金屬來獲得薄膜晶體管陣列140的襯墊部分。
[0086]另外,有機(jī)發(fā)光陣列150包括至少形成在像素中的第一電極、與第一電極隔開形成在上層中的第二電極以及形成在第一電極和第二電極之間的有機(jī)發(fā)光層。這里,第一電極可連接到薄膜晶體管的漏極電極。
[0087]另外,可用例如聚酰亞胺或感光亞克力(photo-acryl)來形成第一蝕刻阻止膜120和第二蝕刻阻止膜210。
[0088]第一蝕刻阻止膜120和第二蝕刻阻止膜210可具有約I y m至約20 y m的厚度。
[0089]另外,第一緩沖層130和第二緩沖層220用于防止氧氣或濕氣侵入到在有機(jī)發(fā)光陣列中設(shè)置的有機(jī)膜,并用作防止外部空氣或濕氣從下部侵入的屏障。
[0090]第一緩沖層130和第二緩沖層220包括多個(gè)無機(jī)膜。例如,可通過連續(xù)地或交替地層疊SiNx或SiO2來形成所述無機(jī)膜。從實(shí)驗(yàn)可以看出,當(dāng)兩個(gè)或更多個(gè)層被層疊至約5,0006至6,500為的厚度作為第一緩沖層130和第二緩沖層220時(shí),可防止外部空氣或濕氣侵入。第一緩沖層130和第二緩沖層220的總厚度是I U m或更小,這不增加集成有觸摸屏的顯示裝置的厚度。
[0091]如圖4所示,觸摸電極陣列230包括彼此交叉的第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332以及用于將信號傳送到第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332的觸摸襯墊2351b (設(shè)置在觸摸襯墊部分2350中)。觸摸襯墊2351b可連接到形成在薄膜晶體管陣列中的虛設(shè)襯墊(參看圖10A)。圖3中示出了包括虛設(shè)襯墊的膜晶體管陣列140,并且以單層的形式示出了包括觸摸襯墊以及第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332的薄膜晶體管陣列140,但這些層根據(jù)各個(gè)電極被構(gòu)圖。
[0092]這里,第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332用透明電極形成,觸摸襯墊2351b包括具有高導(dǎo)電率和優(yōu)良的遮光性能的金屬襯墊層(與金屬橋231為同一層)以及與構(gòu)成第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332的透明電極為同一層的透明電極圖案(在圖6A中用235a表示)。另外,第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332可設(shè)置在同一層或不同層中。例如,如圖所示,當(dāng)?shù)谝煌该鳒系离姌O2331和第二透明溝道電極2332存在于同一層中時(shí),與和其它層相鄰的第一透明溝道電極2331或第二透明溝道電極2332接觸的單獨(dú)的金屬橋231設(shè)置在第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332之間的交叉處,以防止第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332之間短路。同時(shí),沒有描述的標(biāo)號“2332c”代表穿過彼此隔開的第一透明溝道電極2331并以集成形式將上和下第二透明溝道電極2332連接在一起的電極連接部分。
[0093]圖5是圖4的一個(gè)觸摸襯墊的放大平面圖,圖6A是沿圖5的II1-1II’線截取的剖視圖,圖6B是示出圖6A的接觸孔的一側(cè)的SEM圖像。
[0094]如圖5和圖6A所示,設(shè)置在觸摸襯墊部分2350中的多個(gè)觸摸襯墊2351b包括經(jīng)由層之間的絕緣膜2300 (所述絕緣膜2300包括多個(gè)第一接觸孔2350A)彼此連接在一起的金屬襯墊層231a和透明電極襯墊層235a。
[0095]這里,在一個(gè)觸摸襯墊2351b中形成的多個(gè)第一接觸孔2350A彼此隔開,并排列成m行和n列,并且在奇數(shù)行和偶數(shù)行中排列的第一接觸孔設(shè)置在交替位置。每一個(gè)第一接觸孔2350A的寬度小于每一個(gè)導(dǎo)電球455的直徑,并且導(dǎo)電球455和觸摸襯墊2351b之間的接觸點(diǎn)的數(shù)量優(yōu)選地根據(jù)每一個(gè)導(dǎo)電球455的第一接觸孔2350A而增加。
[0096]這里,第一接觸孔2350A設(shè)置在觸摸襯墊2351b中的原因在于,當(dāng)在粘結(jié)工藝期間加壓(pressurized)時(shí),與平面相比,導(dǎo)電球455保證更多的接觸點(diǎn)和大的接觸面積。另夕卜,在粘結(jié)工藝期間,通過第一接觸孔2350A分散壓力,從而防止相對軟和弱的透明電極襯墊層的斷裂或破裂。具體地,如圖6A所示,導(dǎo)電球455與各個(gè)第一接觸孔2350A的側(cè)壁側(cè)面接觸,因此除了平面接觸點(diǎn)之外,還具有電接觸點(diǎn)。具體地,當(dāng)?shù)谝唤佑|孔2350A以多個(gè)排列時(shí),存在這種接觸的可能性為高。
[0097]另外,第一接觸孔2350A可交替地設(shè)置在偶數(shù)行和奇數(shù)行中。在這種交替設(shè)置中,在第一接觸孔2350A在各行中設(shè)置在同一位置的情況的制備中,盡管導(dǎo)電球455移動(dòng),但第一接觸孔2350A與導(dǎo)電球455接觸的可能性也高。
[0098]同時(shí),這里,絕緣膜2300可具有單層或多層結(jié)構(gòu),并且可包括至少一個(gè)有機(jī)膜。
[0099]圖6B是示出在如下條件下測試時(shí)第一接觸孔2350A的側(cè)壁的SEM圖像:第一接觸孔2350A的寬度和長度分別為10 ii m和10 ii m,并且設(shè)置在同一行中的第一接觸孔2350A之間的距離和設(shè)置在同一列中的第一接觸孔2350A的距離為5iim。在SEM圖像中,在側(cè)壁上主要觀察到比透明電極襯墊層235a厚的絕緣膜2300。
[0100]同時(shí),在測試中,側(cè)壁具有漸縮(tapered)形狀,與金屬襯墊層231a的表面形成約28度的角,但本發(fā)明不必限于此。由于在第一接觸孔2350A中應(yīng)該可能出現(xiàn)導(dǎo)電球455的側(cè)面接觸,所以關(guān)于側(cè)壁的預(yù)定部分的形狀,漸縮形狀優(yōu)選為豎直形狀。例如,可設(shè)置在第一接觸孔2350A中的側(cè)壁優(yōu)選是與第二緩沖層220的表面形成55度或更小的角的漸縮形狀。
[0101]通過與觸摸電極陣列230相同的工藝來形成這種觸摸襯墊2351b。
[0102]圖7是沿著圖4的11-11’線截取的剖視圖。
[0103]如圖7所示,觸摸電極陣列230包括:在第二緩沖層220上的金屬橋231,其與金屬襯墊層231a形成在同一層中;多個(gè)第一透明溝道電極2331,其在與金屬橋231重疊的同時(shí)電連接到金屬橋231,并且在與透明電極襯墊層235a形成的同一層中的第一方向上彼此隔開;以及連接部分2332c,其將第二透明溝道電極(圖4中用“2332”代表)連接起來,所述第二透明溝道電極穿過金屬橋231,并且在金屬橋231的交叉處以集成形式形成在第二方向。[0104]另外,觸摸電極陣列230還可包括公共透明電極圖案2335,所述公共透明電極圖案2335覆蓋第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332。
[0105]在這種情況下,觸摸電極陣列230還可包括設(shè)置在第一透明溝道電極2331、第二透明溝道電極2332與公共透明電極圖案2335之間的第二絕緣膜234。
[0106]如果期望,則可省略第二絕緣膜234和公共透明電極圖案2335。當(dāng)觸摸電極陣列230經(jīng)粘結(jié)層(圖3中用“400”代表)粘結(jié)到有機(jī)發(fā)光二極管(圖3中用“150”代表)和薄膜晶體管陣列(圖3中用“ 140”代表)時(shí),公共透明電極圖案2335用于防止有機(jī)發(fā)光陣列(圖3中用“150”代表)和薄膜晶體管陣列(圖3中用“140”代表)的驅(qū)動(dòng)效應(yīng)。公共透明電極圖案2335覆蓋第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332以及第二透明溝道電極的連接部分2332c。在這種情況下,公共透明電極圖案2335具有浮置狀態(tài)。
[0107]同時(shí),觸摸電極陣列230和觸摸襯墊2351b設(shè)置在第二緩沖層220上,這種構(gòu)造顯示了在觸摸電極陣列230結(jié)合到有機(jī)發(fā)光陣列150之后的狀態(tài)。隨后,可在包括觸摸電極陣列230的用玻璃成分制成的第二基板沒有被去除的情況下執(zhí)行觸摸電極陣列230和觸摸襯墊2351b的形成(以上參照2進(jìn)行了描述)。為此的原因在于,在陣列工藝期間,第二緩沖層220可能對于用于加熱和蝕刻工藝的化學(xué)制品來說是易壞的。如果期望,則當(dāng)?shù)诙彌_層220足以抵抗熱和使用的化學(xué)制品時(shí),可省略第二基板。
[0108]下面,將詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光顯示器中包括多個(gè)第一接觸孔的觸摸襯墊的構(gòu)造的優(yōu)選實(shí)施方式。
[0109]圖8A至圖SC示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示器的觸摸襯墊。
[0110]如圖8A所示,根據(jù)以下工藝形成根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施方式的觸摸襯墊部分。
[0111]即,根據(jù)以下工藝執(zhí)行觸摸襯墊部分的觸摸襯墊的形成。首先,在第二緩沖層220上形成金屬襯墊層231a??赏ㄟ^在與圖7的金屬橋231相同的層中蝕刻金屬來形成金屬襯墊層231a。
[0112]隨后,在金屬襯墊層231a上形成包括多個(gè)第一接觸孔3350A的第一絕緣膜232。
[0113]隨后,以通過第一接觸孔3350A連接到金屬襯墊層231a的方式在第一絕緣膜232上形成第一透明電極襯墊層333a。第一透明電極襯墊層333a可與第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332形成在同一層中。
[0114]隨后,以露出第一透明電極襯墊層333a的方式與觸摸襯墊2351b的相鄰部分鄰近地形成第二絕緣膜234。
[0115]隨后,還可在第一透明電極襯墊層333a上形成第二透明電極襯墊層335a,所述第二透明電極襯墊層335a與工作區(qū)的公共透明電極圖案(圖7中用“2335”代表)是同一層。根據(jù)公共透明電極圖案(圖7中用“2335”代表)的存在,可確定第二透明電極圖案335a的存在。
[0116]如上所述,當(dāng)有機(jī)發(fā)光顯示器包括第一接觸孔3350A時(shí),與觸摸襯墊2351b對應(yīng)的導(dǎo)電球455的接觸面積和接觸點(diǎn)增加,并且可改善薄膜晶體管陣列與虛設(shè)襯墊之間的電學(xué)性能,結(jié)果可減小電阻,其中,所述虛設(shè)襯墊與薄膜晶體管陣列設(shè)置在同一層中,并經(jīng)觸摸襯墊2351b和導(dǎo)電球455電連接在一起。
[0117]下面將描述與第一實(shí)施方式展現(xiàn)相同效果的另一實(shí)施方式。
[0118]圖SB示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施方式的觸摸襯墊,將根據(jù)以下工藝形成該觸摸襯墊。
[0119]S卩,根據(jù)以下工藝執(zhí)行觸摸襯墊部分的觸摸襯墊的形成。首先,在第二緩沖層220上形成金屬襯墊層231a。可通過在與圖7的金屬橋231相同的層中蝕刻金屬來形成金屬襯墊層231a。
[0120]隨后,在金屬襯墊層231a上形成包括多個(gè)第一接觸孔3350A的第一絕緣膜232。
[0121]隨后,以通過第一接觸孔4350A連接到金屬襯墊層231a的方式在第一絕緣膜232上形成第一透明電極襯墊層433a。第一透明電極襯墊層433a可與第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332形成在同一層中。
[0122]隨后,以露出第一透明電極襯墊層433a的方式在觸摸襯墊2351b的相鄰部分中形成第二絕緣膜234。
[0123]隨后,在第一透明電極襯墊層433a上的預(yù)定區(qū)域中以及第一接觸孔4350A中形成金屬圖案434。
[0124]隨后,第二透明電極襯墊層435a還可與工作區(qū)的公共透明電極圖案(圖7中用“2335”表示)形成同一層中,所述第二透明電極襯墊層435a覆蓋金屬圖案434和露出的第一透明電極襯墊層433a。根據(jù)公共透明電極圖案(圖7中用“2335”代表)的存在,可確定第二透明電極圖案435a的存在。
[0125]在這種情況下,當(dāng)在粘結(jié)工藝期間由于導(dǎo)電球455導(dǎo)致具有低硬度的透明電極損壞或短路時(shí),導(dǎo)電率比透明電極高的金屬圖案434旁通信號,從而降低觸摸襯墊的電阻。
[0126]如圖SC所示,根據(jù)以下工藝形成根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施方式的觸摸襯墊部分。
[0127]即,根據(jù)以下工藝執(zhí)行觸摸襯墊部分的觸摸襯墊的形成。首先,在第二緩沖層220上形成金屬襯墊層231a??赏ㄟ^在與圖7的金屬橋231相同的層中蝕刻金屬來形成金屬襯墊層231a。
[0128]隨后,在金屬襯墊層231a上形成包括多個(gè)第一接觸孔3550A的第一絕緣膜232。
[0129]隨后,以通過第一接觸孔5350A連接到金屬襯墊層231a的方式在第一絕緣膜232上形成第一透明電極襯墊層533a。第一透明電極襯墊層533a可與第一透明溝道電極2331和第二透明溝道電極2332形成在同一層中。
[0130]隨后,以露出第一透明電極襯墊層533a的方式在觸摸襯墊2351b的相鄰部分中形成第二絕緣膜234。
[0131]隨后,在第一透明電極襯墊層533a上的預(yù)定區(qū)域中形成金屬圖案534。在這種情況下,金屬圖案534可形成在第一接觸孔5350A之間。
[0132]隨后,第二透明電極襯墊層435a還可與工作區(qū)的公共透明電極圖案(圖7中用“2335”表示)形成同一層中,所述第二透明電極襯墊層435a覆蓋金屬圖案534和露出的第一透明電極襯墊層533a。根據(jù)公共透明電極圖案(圖7中用“2335”表示)的存在,可確定第二透明電極圖案535a的存在。
[0133]在這種情況下,當(dāng)在粘結(jié)工藝期間由于導(dǎo)電球555導(dǎo)致具有低硬度的透明電極損壞或短路時(shí),導(dǎo)電率比透明電極高的金屬圖案534旁通信號,從而降低觸摸襯墊的電阻。
[0134]圖9是與圖8A至圖8C相比的參考實(shí)施方式。
[0135]與根據(jù)第一實(shí)施方式至第三實(shí)施方式的觸摸襯墊相比,將描述包括一個(gè)第一接觸孔2350B的參考實(shí)施方式。[0136]如圖9所示,除了第一絕緣膜232包括一個(gè)第一接觸孔2350B之外,參考實(shí)施方式
與第一實(shí)施方式相同。
[0137]針對第一實(shí)施方式至第三實(shí)施方式以及參考實(shí)施方式,在使用包括插入在觸摸襯墊部分和虛設(shè)襯墊部分之間的導(dǎo)電球的密封劑進(jìn)行粘結(jié)之后評價(jià)缺陷水平。
[0138]表1
【權(quán)利要求】
1.一種有機(jī)發(fā)光顯示器,所述有機(jī)發(fā)光顯示器分別在具有工作區(qū)和死區(qū)并彼此相對的第一緩沖層和第二緩沖層上包括晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列和觸摸電極陣列,所述有機(jī)發(fā)光顯不器包括: 觸摸襯墊部分,所述觸摸襯墊部分形成在所述第二緩沖層的所述死區(qū)的一部分中; 在所述觸摸襯墊部分中的彼此隔開的多個(gè)觸摸襯墊,所述多個(gè)觸摸襯墊中的每一個(gè)觸摸襯墊包括金屬襯墊層和經(jīng)由在第一絕緣膜中的多個(gè)第一接觸孔連接到所述金屬襯墊層的透明電極襯墊層; 虛設(shè)襯墊部分,所述虛設(shè)襯墊部分形成在所述第一緩沖層的所述死區(qū)中,所述虛設(shè)襯墊部分包括與各個(gè)觸摸襯墊對應(yīng)的各個(gè)虛設(shè)襯墊;以及 密封劑,所述密封劑包括位于所述觸摸襯墊部分和所述虛設(shè)襯墊部分之間的多個(gè)導(dǎo)電球。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,形成在一個(gè)觸摸襯墊中的所述多個(gè)第一接觸孔彼此隔開,排列成m行和n列,并且在奇數(shù)行和偶數(shù)行中排列的所述多個(gè)第一接觸孔交替地設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述多個(gè)導(dǎo)電球中的至少一個(gè)導(dǎo)電球與所述多個(gè)第一接觸孔中的至少一個(gè)第一接觸孔內(nèi)側(cè)面接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,各個(gè)第一接觸孔的寬度小于各個(gè)導(dǎo)電球的直徑,并且所述多個(gè)第一接觸孔對應(yīng)于一個(gè)導(dǎo)電球。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述觸摸襯墊的金屬襯墊層直接形成在所述第二緩沖層上,包`括所述第一接觸孔的所述第一絕緣膜形成在所述金屬襯墊層上,并且所述透明電極襯墊層通過所述第一接觸孔連接到所述金屬襯墊層,并且形成在所述第一絕緣膜上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述透明電極襯墊層包括第一透明電極襯墊層和第二透明電極襯墊層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述觸摸襯墊進(jìn)一步包括在所述第一接觸孔之間的金屬圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述金屬圖案設(shè)置在所述第一透明電極襯墊層和所述第二透明電極襯墊層之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述第一絕緣膜包括至少一個(gè)有機(jī)膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,在所述第一緩沖層上,各個(gè)虛設(shè)襯墊包括柵金屬襯墊層和經(jīng)由在第三絕緣膜中包括的多個(gè)第二接觸孔連接到所述柵金屬襯墊層的源極襯墊層。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述第一絕緣膜包括具有漸縮形狀的多個(gè)第一接觸孔側(cè)壁,所述漸縮形狀與所述第二緩沖層的表面形成55度或更小的角。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列包括: 薄膜晶體管陣列,所述薄膜晶體管陣列在所述第一緩沖層的工作區(qū)中包括在以矩陣形式限定的多個(gè)像素中的每一個(gè)像素中的薄膜晶體管;有機(jī)發(fā)光二極管,所述有機(jī)發(fā)光二極管連接到每一個(gè)像素的所述薄膜晶體管;以及 保護(hù)層,所述保護(hù)層形成在所述第一緩沖層上,使得所述保護(hù)層覆蓋所述有機(jī)發(fā)光二極管。
13.根據(jù)權(quán)利要求5所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述觸摸電極陣列包括: 金屬橋,其在所述第二緩沖層上與所述金屬襯墊層形成在同一層中; 多個(gè)第一透明溝道電極,其與所述透明電極襯墊層形成的同一層中,所述第一透明溝道電極在與所述金屬橋重疊時(shí)電連接到所述金屬橋,并在第一方向上彼此隔開;以及 多個(gè)第二透明溝道電極,其與所述第一透明溝道電極形成在同一層中,所述第二透明溝道電極穿過所述金屬橋,并形成在第二方向上。
14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述觸摸電極陣列包括: 金屬橋,在所述第二緩沖層上所述金屬橋與所述金屬襯墊層形成在同一層中; 與所述透明電極襯墊層形成在同一層中的多個(gè)第一透明溝道電極,所述第一透明溝道電極在與所述金屬橋重疊時(shí)電連接到所述金屬橋,并且在第一方向上彼此隔開; 與所述第一透明溝道電極形成在同一層中的多個(gè)第二透明溝道電極,所述第二透明溝道電極穿過所述金屬橋,并且形成在第二方向上;以及 公共透明電極圖案,所述公共透明電極圖案覆蓋所述第一透明溝道電極和所述第二透明溝道電極。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,所述有機(jī)發(fā)光顯示器進(jìn)一步包括: 第二絕緣膜,所述第二絕緣膜形成在所述第一透明溝道電極、所述第二透明溝道電極與所述公共透明電極圖案之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述有機(jī)發(fā)光顯示器進(jìn)一步包括:分別形成在所述第一緩沖層和所述第二緩沖層的后表面上的第一蝕刻阻止膜和第二蝕刻阻止膜。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,所述有機(jī)發(fā)光顯示器進(jìn)一步包括附接到所述第一蝕刻阻止膜的所述后表面上的膜基板。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,所述有機(jī)發(fā)光顯示器進(jìn)一步包括:形成在所述第二蝕刻阻止膜的上表面上的蓋玻璃。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述第一緩沖層和所述第二緩沖層包括具有多個(gè)無機(jī)膜的層疊制品。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述膜基板是塑料絕緣膜。
21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的有機(jī)發(fā)光顯示器,其中,所述第一蝕刻阻止膜和所述第二蝕刻阻止膜包括聚酰亞胺或感光亞克力。
22.一種用于制造有機(jī)發(fā)光顯示器的方法,所述方法包括以下步驟: 在第一基板上形成第一蝕刻阻止膜和第一緩沖層,并形成晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列,其中,在所述第一緩沖層的工作區(qū)中,所述晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列具有在以矩陣形式限定的多個(gè)像素中的每一個(gè)像素中的晶體管和連接到所述薄膜晶體管的有機(jī)發(fā)光二極管; 在第二基板上形成第二蝕刻阻止膜和第二緩沖層,并在所述第二緩沖層的工作區(qū)中形成觸摸電極陣列;在所述第二緩沖層的死區(qū)的一部分中形成觸摸襯墊部分,其中,所述觸摸襯墊部分包括多個(gè)觸摸襯墊,并且所述多個(gè)觸摸襯墊中的每一個(gè)觸摸襯墊包括經(jīng)由在第一絕緣膜中的多個(gè)第一接觸孔彼此連接的金屬襯墊層和透明電極襯墊層; 在所述第一緩沖層的所述死區(qū)中形成虛設(shè)襯墊部分,其中,所述虛設(shè)襯墊部分包括多個(gè)虛設(shè)襯墊,所述多個(gè)虛設(shè)襯墊中的各個(gè)虛設(shè)襯墊對應(yīng)于各個(gè)觸摸襯墊;以及 將包括導(dǎo)電球的密封劑應(yīng)用于所述觸摸襯墊部分或虛設(shè)襯墊部分,將粘結(jié)層附接到所述觸摸電極陣列或所述晶體管有機(jī)發(fā)光二極管陣列,并將所述第一基板結(jié)合到所述第二基板。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法,其中,所述多個(gè)導(dǎo)電球中的至少一個(gè)導(dǎo)電球與所述多個(gè)第一接觸孔中的至少一個(gè)第一接觸孔內(nèi)側(cè)面接觸。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法,其中,所述第一接觸孔的直徑小于所述導(dǎo)電球的直徑,并且所述多個(gè)第一接觸孔對應(yīng)于一個(gè)導(dǎo)電球。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法,其中,形成所述觸摸襯墊部分的每一個(gè)觸摸襯墊的步驟包括: 在所述第二緩沖層上形成金屬襯墊層; 在所述金屬襯墊層上形成包括多個(gè)第一接觸孔的第一絕緣膜;以及 在所述第一絕緣膜上形成透明電極襯墊層,使得所述透明電極襯墊層通過所述第一接觸孔連接到所述金屬襯 墊層。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法,其中,所述透明電極襯墊層包括設(shè)置在不同層中的第一透明電極襯墊層和第二透明電極襯墊層。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法,其中,形成每一個(gè)觸摸襯墊的步驟包括:在所述第一接觸孔之間水平地設(shè)置多個(gè)金屬圖案,并在所述第一透明電極襯墊層和所述第二透明電極襯墊層之間垂直地設(shè)置所述多個(gè)金屬圖案。
28.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法,其中,形成所述虛設(shè)襯墊部分的所述虛設(shè)襯墊的步驟包括: 在所述第一緩沖層上形成柵金屬襯墊層; 在所述柵金屬襯墊層上形成包括多個(gè)第二接觸孔的第三絕緣膜;以及 在所述第三絕緣膜上形成源極襯墊層,使得所述源極襯墊層通過所述第二接觸孔連接到所述柵金屬襯墊層。
29.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法,其中,在所述第一基板結(jié)合到所述第二基板之后,在所述觸摸襯墊部分和所述虛設(shè)襯墊部分之間將所述導(dǎo)電球壓至預(yù)定厚度。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法,其中,在所述第一基板結(jié)合到所述第二基板之后,所述觸摸襯墊部分的相鄰部分的死區(qū)與所述密封劑隔開預(yù)定距離。
31.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法,所述方法進(jìn)一步包括: 去除所述第一基板和所述第二基板;以及 將膜基板粘附于所述第一蝕刻阻止膜的露出的表面。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法,其中,通過蝕刻或激光照射所述第一基板和所述第二基板來執(zhí)行去除所述第一基板和所述第二基板的步驟。
【文檔編號】G06F3/041GK103681742SQ201210586930
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2012年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月29日
【發(fā)明者】崔浩源, 金承玄 申請人:樂金顯示有限公司
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