在襯底上形成透明導(dǎo)電層的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種在襯底上形成透明導(dǎo)電層的方法，其包括：將包含導(dǎo)電聚合物的導(dǎo)電組合物施加于襯底，以在襯底上形成透明導(dǎo)電層；在所述透明導(dǎo)電層上形成圖案化的保護(hù)層，以界定出經(jīng)所述保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)與未經(jīng)所述保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)；對(duì)未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)進(jìn)行濕式蝕刻；以及去除所述保護(hù)層，其中在濕式蝕刻之前或之后針對(duì)所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行退火處理。本發(fā)明所提供的方法能降低透明導(dǎo)電層經(jīng)蝕刻處與未經(jīng)蝕刻處間所造成的色差；并且因本發(fā)明不需利用額外的光學(xué)層來(lái)降低色差，本發(fā)明方法相較于傳統(tǒng)方法較簡(jiǎn)便，并且較具經(jīng)濟(jì)效益。
【專利說(shuō)明】在襯底上形成透明導(dǎo)電層的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種在襯底上形成透明導(dǎo)電層的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，為方便用戶使用電子產(chǎn)品，通過(guò)接觸熒幕將信號(hào)輸入電子產(chǎn)品的觸控面板已被廣泛使用。觸控技術(shù)的發(fā)展日新月異，目前，根據(jù)位置檢測(cè)方法的不同，觸控面板大致包括光學(xué)方式、超聲波方式、靜電容方式、電阻膜方式等。電阻/靜電容方式的觸控面板的構(gòu)造為透明導(dǎo)電層與帶有透明導(dǎo)電層的玻璃由間隔物(spacer)對(duì)向配置。靜電容方式的觸控面板依需求有時(shí)需將透明導(dǎo)電層圖案化。一般是利用微影蝕刻的方式將透明導(dǎo)電層圖案化，然而，透明導(dǎo)電層經(jīng)蝕刻后，所述經(jīng)蝕刻去除的透明導(dǎo)電層處與未經(jīng)蝕刻去除的透明導(dǎo)電層處之間會(huì)產(chǎn)生厚度差；并且蝕刻會(huì)破壞導(dǎo)電層的電性，此厚度差與電性破壞都會(huì)使透明導(dǎo)電層的光學(xué)性質(zhì)(如吸收、反射等)改變，而導(dǎo)致色差變得明顯，觸控面板的外觀便有缺陷。尤其，對(duì)于靜電容方式的觸控面板來(lái)說(shuō)，由于透明導(dǎo)電層位于光入射面?zhèn)龋鐾庥^上的缺陷會(huì)更明顯。
[0003]已有技術(shù)針對(duì)利用干式濺鍍氧化銦錫(ITO)來(lái)制造透明導(dǎo)電性薄膜的方法提出解決上述缺陷的方案，其是利用在透明導(dǎo)電層與基材之間形成至少一層底涂層，以改善其光學(xué)性質(zhì)(中華民國(guó)專利第1346046號(hào))，然而，這種方法需額外添加底涂層。
[0004]其它利用干式濺鍍方式形成透明導(dǎo)電層的技術(shù)例如包含:日本特許4364938、日本特開(kāi)2011-17795 ;其它利用濕式涂布方式形成透明導(dǎo)電層的技術(shù)例如包含:日本特開(kāi)2011-44145、日本特開(kāi)2003-80624和US 7，083，851，這些專利都需利用額外的光學(xué)層(這些專利都利用兩層光學(xué)層，dl和d2)，來(lái)解決因蝕刻造成的透明導(dǎo)電層厚度差而產(chǎn)生的色差問(wèn)題。然而，其會(huì)增加工藝上的困難，并且其改善外觀的效果仍有限；以ITO作為導(dǎo)電性薄膜也容易有脆裂的問(wèn)題，并且工藝成本較高。
[0005]近年來(lái)，由于導(dǎo)電聚合物在電性方面的提升和在加工性方面的改良，其經(jīng)濟(jì)效益逐漸獲得重視。
[0006]US 2011/0059232便揭示一種利用包含聚合3，4_亞乙基二氧基噻吩(PEDOT)/聚苯乙烯磺酸酯(PSS)的有機(jī)導(dǎo)電組合物形成透明有機(jī)電極的方法；愛(ài)克法(Agfa)也針對(duì)導(dǎo)電聚合物提出一種利用微影蝕刻圖案化的方式(先進(jìn)材料(Adv.Mater.)2006, 18，1307-1312 ;和大分子快報(bào)(Macromo1.RapidCommun.) 2005, 26，238-246);然而，將導(dǎo)電聚合物應(yīng)用于透明導(dǎo)電層也會(huì)產(chǎn)生如前述因透明導(dǎo)電層的厚度差(如因蝕刻工藝圖案化所造成者)而產(chǎn)生的色差的問(wèn)題，以及因所述色差而造成的產(chǎn)品外觀不佳的問(wèn)題。雖然目前有許多技術(shù)通過(guò)添加光學(xué)層的方式來(lái)調(diào)整光學(xué)膜的折射率，例如以添加光學(xué)膠(0CA膠)的方式降低線路圖案化所造成的色差問(wèn)題，但其生產(chǎn)過(guò)程需多一道工藝，并且其光學(xué)性質(zhì)仍有改善的空間。
[0007]鑒于上述，產(chǎn)業(yè)上仍需尋求一種改良上述形成透明導(dǎo)電層的方法。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種在襯底上形成透明導(dǎo)電層的方法，其能解決至少一個(gè)上述問(wèn)題。具體說(shuō)來(lái)，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種不需額外的光學(xué)層，便能減少透明導(dǎo)電層圖案化后所產(chǎn)生的色差問(wèn)題的方法。
[0009]根據(jù)本發(fā)明，所述在襯底上形成透明導(dǎo)電層的方法包括:將包含導(dǎo)電聚合物的導(dǎo)電組合物施加于襯底，以在所述襯底上形成透明導(dǎo)電層；在所述透明導(dǎo)電層上形成圖案化的保護(hù)層，以界定出經(jīng)所述保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)與未經(jīng)所述保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)；對(duì)未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)進(jìn)行濕式蝕刻；以及去除所述保護(hù)層，其中在濕式蝕刻之前或之后對(duì)所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行退火處理。
[0010]本發(fā)明的形成透明導(dǎo)電層的方法，可降低透明導(dǎo)電層與鄰近區(qū)域的色差。具體說(shuō)來(lái)，即降低傳統(tǒng)上因透明導(dǎo)電層厚度差異所造成的光學(xué)性質(zhì)(如吸收、反射等)改變而導(dǎo)致的色差。此外，因本發(fā)明方法不需利用額外的光學(xué)層來(lái)降低色差，本發(fā)明方法較簡(jiǎn)便并且較具經(jīng)濟(jì)效益。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0011]圖1A到IC顯示根據(jù)本發(fā)明形成透明導(dǎo)電層的方法的一個(gè)實(shí)施例。
【具體實(shí)施方式】
[0012]以下是借助于圖1A到IC來(lái)說(shuō)明本發(fā)明形成透明導(dǎo)電層的方法的具體實(shí)施例。
[0013]圖1A顯示將包含導(dǎo)電聚合物的導(dǎo)電組合物施加于襯底4上，以在其上形成透明導(dǎo)電層2。
[0014]本發(fā)明所使用的導(dǎo)電聚合物可由選自由卩比咯(pyrrole)、噻吩(thiophene)、苯胺(aniline)及其混合物組成的群組的單體和其衍生物、寡聚物和其衍生物或上述任何物質(zhì)的組合所形成。
[0015]本文中所述的“寡聚物”具有本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中所認(rèn)知的一般意義，例如指由有限的前述單體所組成的化合物。舉例來(lái)說(shuō)，指可產(chǎn)生導(dǎo)電聚合物的單體的二聚物、三聚物、四聚物或五聚物等。
[0016]本文中所述的“單體的衍生物”具有本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中所知的一般意義，例如，指經(jīng)取代的前述單體。
[0017]本文中所述的“寡聚物的衍生物”具有本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中所知的一般意義，例如，指經(jīng)取代的前述寡聚物。
[0018]舉例來(lái)說(shuō)，“吡咯”和“吡咯的衍生物”都指經(jīng)聚合后，會(huì)產(chǎn)生具有類似吡咯結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電聚合物的單體。
[0019]可用于本發(fā)明的吡咯衍生物，例如包括但不限于:3_烷基吡咯，如3-己基吡咯；3，4-二烷基吡咯，如3，4-二己基吡咯；3_烷氧基吡咯，如3-甲氧基吡咯；以及3，4-二烷氧基吡咯，如3，4-二甲氧基吡咯。
[0020]可用于本發(fā)明的噻吩衍生物，例如包括但不限于:3，4-亞乙基二氧基噻吩及其衍生物；3-燒基喔吩，如3_己基喔吩；以及3_燒氧基喔吩，如3_甲氧基喔吩。
[0021]可用于本發(fā)明的苯胺衍生物，例如包括但不限于:2_烷基苯胺，如2-甲基苯胺；以及2-燒氧基苯胺，如2-甲氧基苯胺。
[0022]根據(jù)本發(fā)明的具體實(shí)施例，所使用的單體是3，4-亞乙基二氧基噻吩(poly-3，4_ethylenedioxythiophene, PED0T)或其衍生物,例如包括但不限于:3,4-(1-燒基)亞乙基二氧基噻吩，如3，4-(1-己基)亞乙基二氧基噻吩。在此情況下，本發(fā)明的導(dǎo)電組合物可進(jìn)一步包括聚苯乙烯磺酸酯(polystyrene sulfonate, PSS)以與PEDOT搭配。
[0023]本發(fā)明方法所使用導(dǎo)電聚合物的量并未特別限制。然而，如果為了得到可接受的導(dǎo)電性，所述導(dǎo)電聚合物在組合物中的量為約I重量％到約50重量％，優(yōu)選為約20重量％到約30重量％。
[0024]本發(fā)明的導(dǎo)電組合物可包含溶劑?？捎糜诒景l(fā)明中的溶劑優(yōu)選是選自可與所述導(dǎo)電聚合物達(dá)到可接受的相容效果的溶劑。所述溶劑可為水(優(yōu)選為去離子水)、有機(jī)溶劑或混合水的有機(jī)溶劑。有機(jī)溶劑包括:醇類,如甲醇、乙醇和異丙醇(IPA);芳香烴類，如苯、甲苯和二甲苯；脂肪烴類，如己烷；以及非質(zhì)子極性溶劑，如N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、乙腈和丙酮。上述有機(jī)溶劑可單獨(dú)使用或合并使用。溶劑優(yōu)選包含水、醇類有機(jī)溶劑和非質(zhì)子極性溶劑中的至少一種，其優(yōu)選的選擇包括水、乙醇、二甲基亞砜、水與異丙醇的混合物、乙醇與水的混合物以及二甲基亞砜與水的混合物。
[0025]本發(fā)明的導(dǎo)電組合物可包含粘結(jié)劑，用以改善本發(fā)明導(dǎo)電組合物的粘結(jié)力。適用的粘結(jié)劑為本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的粘結(jié)劑，例如包括但不限于:水可溶性的低分子量粘結(jié)劑、水可溶性的高分子量粘結(jié)劑或其組合。
[0026]本發(fā)明的導(dǎo)電組合物可包含粘度調(diào)節(jié)劑，用以調(diào)節(jié)本發(fā)明導(dǎo)電組合物的粘度，以使其適用以印刷的方式施加于襯底上。如果導(dǎo)電組合物的粘度太強(qiáng)或太弱，都不適于用印刷方式施加于襯底上。粘度調(diào)節(jié)劑的選用是根據(jù)所選擇的印刷方式。印刷導(dǎo)電組合物的方式例如包括噴墨印刷、網(wǎng)印、凹版印刷和平板印刷。根據(jù)所選擇的印刷方式，適用的粘度調(diào)節(jié)劑為本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的粘度調(diào)節(jié)劑。
[0027]本發(fā)明的導(dǎo)電組合物可包含導(dǎo)電性加強(qiáng)劑(conductivity enhancer),用以增強(qiáng)本發(fā)明透明導(dǎo)電層的導(dǎo)電性。適用的導(dǎo)電性加強(qiáng)劑可為本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的導(dǎo)電性加強(qiáng)劑，例如二甲基亞砜。
[0028]本發(fā)明的導(dǎo)電組合物可包含穩(wěn)定劑，用以改善透明導(dǎo)電層的穩(wěn)定性。適用的穩(wěn)定劑可為本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的穩(wěn)定劑，例如單寧酸、沒(méi)食子酸或其組合。
[0029]襯底4的材料并無(wú)特別限制，其可由任何材料組成，只要透明導(dǎo)電層可容易地形成于其上即可。此外，襯底4本身可包含本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中所知的其它元件，例如，用于測(cè)量用戶手觸摸觸控面板時(shí)電容變化的測(cè)量元件、電極線或是光學(xué)層等。如果本發(fā)明的襯底另包含一個(gè)光學(xué)層，那么本發(fā)明的透明導(dǎo)電層可形成于其上。根據(jù)用途，襯底4可由有色的或無(wú)色的材料組成。當(dāng)襯底4用作顯示裝置的顯示平面時(shí)，襯底4可由透明材料組成。舉例來(lái)說(shuō)，襯底4可由例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate, PET)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate, PEN)、聚醚諷(polyethersulfone, PES)、環(huán)烯烴聚合物(cyclic olefin polymer, C0C)及其類似物、玻璃、強(qiáng)化玻璃)及其類似物所組成。
[0030]根據(jù)本發(fā)明，透明可包含無(wú)色透明、有色透明、半透明、有色的半透明及其類似情形。
[0031]所述導(dǎo)電組合物可按本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的任何方法，例如涂布或印刷法而施加于襯底4上，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體方面，是按涂布方法施加于襯底4上，例如包括但不限于旋轉(zhuǎn)涂布(spin coating)、線棒涂布(bar coating)、浸沾式涂布(dip coating)、狹縫式涂布(slot coating)或卷對(duì)卷涂布(roll to roll coating)等方式。
[0032]參照?qǐng)D1B，其顯示在透明導(dǎo)電層2上形成經(jīng)圖案化的保護(hù)層6，以界定出經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層2-A區(qū)與未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層2-B區(qū)。未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)2-B暴露出后續(xù)透明導(dǎo)電層有待經(jīng)蝕刻，破壞電性的部分。
[0033]保護(hù)層6可先以本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的任何方法(例如涂布或印刷法)施加于透明導(dǎo)電層2上，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體方面，以印刷方法施加于透明導(dǎo)電層2上，之后，再利用本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的方式，例如光微影蝕刻(lithography andetching)方式圖案化，或者可利用印刷(例如網(wǎng)印)方式直接將圖案化的保護(hù)層6形成于透明導(dǎo)電層2上。
[0034]保護(hù)層的材料可以按本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的方式獲得，例如可購(gòu)自戈斯拉爾的aC.施塔克公司(H.C.Starck GmbH, Goslar)(商品名=Clevios SET G，熱固型壓克力樹(shù)脂)。
[0035]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，接下來(lái)可先針對(duì)未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層進(jìn)行化學(xué)蝕刻，例如對(duì)其進(jìn)行濕式蝕刻以對(duì)所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行電性破壞，使其表面阻抗例如大于約80MQ，優(yōu)選大于約100MQ，或者將未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)2-B去除。所使用的蝕刻液是本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的蝕刻液，例如包括但不限于NaClO3水溶液、KMnO4水溶液等。
[0036]如圖1C所示，保護(hù)層去除后，便可顯露出經(jīng)圖案化的透明導(dǎo)電層8。保護(hù)層可利用本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中已知的方式去除，去除保護(hù)層的方式與其材料有關(guān)。例如，可利用NH4OH去除購(gòu)自戈斯拉爾的H.C.施塔克公司，商品名為Clevios SET G的保護(hù)層。
[0037]在去除保護(hù)層后，便針對(duì)所述經(jīng)圖案化的透明導(dǎo)電層進(jìn)行退火處理。其中所述退火處理是在約65°C到約165°C，優(yōu)選在約80°C到約150°C之間的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行恒溫處理約0.5到約2小時(shí)，優(yōu)選約I小時(shí)之后，再以例如自然降溫的方式冷卻到室溫。另外，在去除所述保護(hù)層的步驟后，可另外包含以酸清洗所述透明導(dǎo)電層表面的步驟，例如可利用H2SO4清洗所述透明導(dǎo)電層表面。所述酸清洗步驟可在退火處理前進(jìn)行。
[0038]根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，所述退火處理可在化學(xué)蝕刻(濕式蝕刻)前進(jìn)行，例如在形成透明導(dǎo)電層之后，于其上形成保護(hù)層之前，針對(duì)未經(jīng)圖案化的透明導(dǎo)電層進(jìn)行退火處理。其中所述退火處理是在約65°C到約165°C，優(yōu)選在約80°C到約150°C之間的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行恒溫處理約0.5到約2小時(shí)，優(yōu)選約I小時(shí)之后，再以例如自然降溫的方式冷卻到室溫。
[0039]接下來(lái)再在所述透明導(dǎo)電層上形成圖案化的保護(hù)層，并針對(duì)未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層進(jìn)行化學(xué)蝕刻，例如對(duì)其進(jìn)行濕式蝕刻以對(duì)所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行電性破壞，使其表面阻抗例如大于約80MQ，優(yōu)選大于約100MQ，或者將未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)去除。其形成圖案化保護(hù)層的方式以及進(jìn)行化學(xué)蝕刻的方式如先前所述。
[0040]現(xiàn)以下列具體實(shí)施方面進(jìn)一步例示說(shuō)明本發(fā)明，但其不用于對(duì)本發(fā)明作任何限制。
[0041]實(shí)例
[0042]實(shí)例I
[0043]將0.13克單寧酸溶解于20克PEDOT: PSS (制造商:戈斯拉爾的H.C.施塔克公司)的0.5%導(dǎo)電水溶液中(水溶液含25% IPA)后，以9號(hào)線棒將配方液涂布于PET基材(東洋紡(Toyobo)A4300)上以形成透明導(dǎo)電層。其后，以網(wǎng)印方式將保護(hù)層(Clevios SET G，制造商:戈斯拉爾的H.C.施塔克公司)線路印刷于透明導(dǎo)電層上，再以蝕刻液(5%NaC103水溶液)進(jìn)行導(dǎo)電層電性破壞(表面阻抗> IOOM⑴。之后，以1.5% NH4OH去除保護(hù)層，再以1% H2SO4酸清洗導(dǎo)電層表面后，將其放置于約150°C的高溫烘箱烘干I小時(shí)，之后，取出并自然冷卻到室溫。并與未經(jīng)高溫?zé)崽幚淼目瞻讓?shí)驗(yàn)結(jié)果相比較，其結(jié)果如下:
[0044]
【權(quán)利要求】
1.一種在襯底上形成透明導(dǎo)電層的方法，其包括: 將包含導(dǎo)電聚合物的導(dǎo)電組合物施加于襯底上，以在所述襯底上形成透明導(dǎo)電層；在所述透明導(dǎo)電層上形成圖案化的保護(hù)層，以界定出經(jīng)所述保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)與未經(jīng)所述保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)； 對(duì)所述未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層區(qū)進(jìn)行濕式蝕刻；及 去除所述保護(hù)層， 其中在濕式蝕刻之前或之后針對(duì)所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行退火處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述導(dǎo)電組合物是以涂布或印刷方式施加于所述襯底上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述涂布方式是選自由以下組成的群組:旋轉(zhuǎn)涂布、線棒涂布、浸沾式涂布、狹縫式涂布和卷對(duì)卷涂布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述圖案化的保護(hù)層是以網(wǎng)印方式形成于所述透明導(dǎo)電層上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層進(jìn)行濕式蝕刻的步驟是使所述未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層的表面阻抗大于約80MQ。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層進(jìn)行濕式蝕刻的步驟是使所述未經(jīng)保護(hù)層覆蓋的透明導(dǎo)電層的表面阻抗大于約IOOMQ。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在去除所述保護(hù)層的步驟后，利用H2SO4清洗所述透明導(dǎo)電層表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述退火處理是在約65°C到約165°C的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行恒溫處理約0.5到約2小時(shí)之后，再冷卻到室溫。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述退火處理是在約80°C到約150°C的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行恒溫處理約0.5到約2小時(shí)之后，再冷卻到室溫。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述退火處理是在150°C進(jìn)行恒溫處理I小時(shí)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述退火處理步驟是在形成透明導(dǎo)電層的步驟后進(jìn)行。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述退火處理步驟是在形成保護(hù)層的步驟前進(jìn)行。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述導(dǎo)電組合物進(jìn)一步包含單寧酸、沒(méi)食子酸或其組合。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK103777799SQ201210410586
【公開(kāi)日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2012年10月24日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月24日
【發(fā)明者】賴信凱, 曾智遠(yuǎn), 蔡惠珊 申請(qǐng)人:遠(yuǎn)東新世紀(jì)股份有限公司