專(zhuān)利名稱：基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體來(lái)說(shuō)，是一種基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法。
背景技術(shù)：
觸控面板(Touch Panel)已大量應(yīng)用于家電、通訊、電子資訊等產(chǎn)品應(yīng)用上，如目前廣泛商用之掌上電腦、各種家電設(shè)備、游戲輸入界面等。均由觸控面板與顯示器之整合， 可供使用者以手指或觸控筆依照顯示畫(huà)面上之功能選項(xiàng)觸摸輸入所欲執(zhí)行的動(dòng)作。熟知的觸控面板主要在一塊基板表面布設(shè)感應(yīng)區(qū)域，其感應(yīng)區(qū)域用手指或觸控筆觸摸圖標(biāo)或菜單來(lái)達(dá)到觸控的目的。該感應(yīng)部件即為一種基于電荷轉(zhuǎn)移位置傳感器。該傳感部件的制作所使用的材料大都采用帶有透明導(dǎo)電薄膜(氧化銦錫，俗稱ΙΤ0)的玻璃，使得使用者在操作時(shí)，觸摸該傳感器達(dá)到電荷轉(zhuǎn)移的目的。ITO導(dǎo)電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上，利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫膜加工制作而成。電容式觸摸傳感器主要有表面電容式觸摸傳感器和投射電容式觸摸傳感器。表面電容式觸摸傳感器只采用單層ITO玻璃；投射電容式觸摸傳感器與表面電容式觸摸傳感器相比，是在兩層ITO涂層玻璃上蝕刻出不同的ITO模塊?，F(xiàn)有基于電荷轉(zhuǎn)移位置傳感器大都是一塊多層復(fù)合玻璃屏；基于電荷轉(zhuǎn)移位置傳感器的制作主要是在玻璃表面通過(guò)真空濺射鍍膜的方法鍍上透明的金屬透明導(dǎo)電層 (ΙΤ0)，然后在兩面分別經(jīng)過(guò)涂布、烘干、曝光、顯影、蝕刻、去膠等工藝制成電極圖案，最后再用印刷低溫銀漿或者化學(xué)鍍金屬的方法制作一層金屬?gòu)?qiáng)化走線層。印刷低溫銀漿的方式能夠制作的電極的分辨率較低，且良品率低下；化學(xué)鍍的方式一般選擇使用金(Au)，不僅加工工序多，而且Au的附著力差，同時(shí)Au的成本很高，制作成品率低。玻璃基底過(guò)厚會(huì)造成重量增加，過(guò)薄在制作過(guò)程中易于損壞，并且無(wú)法實(shí)現(xiàn)卷曲，生產(chǎn)效率低。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題本發(fā)明提供一種基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法，該傳感器加工工序少，生產(chǎn)成本低，成品率高于現(xiàn)有技術(shù)，同時(shí)減輕了產(chǎn)品重量，并能夠?qū)崿F(xiàn)產(chǎn)品的卷曲。技術(shù)方案制作基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)的方法，步驟為在基材的兩面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜或涂布的方法制作透明導(dǎo)電層；在上述上下透明導(dǎo)電層表面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜、電鍍或化學(xué)鍍方法制作金屬?gòu)?qiáng)化層；通過(guò)選擇性腐蝕方法在基材雙面分別形成第一透明導(dǎo)電層、第一引線電極組、第二透明導(dǎo)電層、第二引線電極組的圖形；在第一引線電極組和第二引線電極組表面采用絲網(wǎng)印刷、圓輥移印或光刻的方法制作保護(hù)層；將完成上述工藝的工件放入選擇性蝕刻液，將覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層去除。
所述的選擇性腐蝕方法采用涂布感光膠、貼敷感光干膜或者絲網(wǎng)印刷感光膠，之后干燥、曝光、顯影、蝕刻、去膠的方法完成電極圖案的制作。所述的選擇性腐蝕方法采用絲網(wǎng)印刷或圓輥移印直接制作防蝕刻膠，之后干燥、 曝光、顯影、蝕刻、去膠的方法完成電極圖案的制作。在對(duì)感光膠進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻與脫膜工藝時(shí)，兩面同時(shí)進(jìn)行工藝，或先對(duì)其中一面進(jìn)行工藝，結(jié)束之后用保護(hù)膜將其保護(hù)住，然后對(duì)另一面進(jìn)行工藝，完成之后去除保護(hù)膜。將有機(jī)基材裁切后以片狀形式進(jìn)行作業(yè)；或使用卷對(duì)卷的模式進(jìn)行作業(yè)?；陔姾赊D(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)，包括基材、在基材上表面依次形成的第一透明導(dǎo)電層、第一引線電極組、第一保護(hù)層和在基材下表面依次形成的第二透明導(dǎo)電層、第二引線電極組、第二保護(hù)層；第一引線電極組由透明導(dǎo)電層及覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層組成，該引線電極組與第一透明導(dǎo)電層電氣相連，其上覆蓋第一保護(hù)層；第二引線電極組由透明導(dǎo)電層及覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層組成，該引線電極組與第二透明導(dǎo)電層電氣相連，其上覆蓋第二保護(hù)層；第一引線電極組與第二引線電極組互相垂直?；臑椴ＡА⒕蹖?duì)苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、亞克力或聚烯烴，厚度 0. 05mm 0. 7mm。所述玻璃的厚度為0. lmnTO. 7mm。所述的透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫、氧化鋅、氧化錫、鋁、鎳、鉬、金、銀、銅、碳納米管膜或?qū)щ姌?shù)脂中的一種或任意幾種的組合物。所述的金屬?gòu)?qiáng)化層的材料為鋁、鎳、鉬、金、銀或銅中的一種或任意幾種的合金。有益效果
1、本發(fā)明提出了一種新的基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)及其制作方法，取消了傳統(tǒng)工藝中通過(guò)印刷或者電鍍的方式制作強(qiáng)化引線，取而代之的是使用對(duì)整面金屬?gòu)?qiáng)化層進(jìn)行光刻的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)。而且雙面制作圖案的方法，增大了可視區(qū)域，降低了對(duì)綁定的精度要求。2、與傳統(tǒng)方法相比，本發(fā)明的方法減少了原有的工序，大大提高了產(chǎn)品的良品率， 成本更低，更具有競(jìng)爭(zhēng)力。


圖1是一種基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)示意圖；圖中a為引線電極組。圖2是基材濺射透明導(dǎo)電層和金屬?gòu)?qiáng)化層后的示意圖。圖3是涂布后的示意圖。圖4是顯影后示意圖。圖5是蝕刻后示意圖。圖6是去膠后示意圖。圖7是制作金屬?gòu)?qiáng)化走線的保護(hù)膠后的示意圖。圖8是二次蝕刻去除金屬?gòu)?qiáng)化層后的示意圖。圖9是有機(jī)基材的卷對(duì)卷作業(yè)方式流程示意圖。圖10是有機(jī)基材的片狀作業(yè)方式流程示意圖。1基材；2第一透明導(dǎo)電層；3第一金屬?gòu)?qiáng)化層；4第一保護(hù)層；5第二透明導(dǎo)電層；6第二金屬?gòu)?qiáng)化層；7第二保護(hù)層；8第一感光膠層；9第二感光膠層；a為引線電極組。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明，但本發(fā)明并不僅限于該實(shí)施例。選擇性蝕刻液為三氯化鐵、硫酸、鹽酸、硝酸、氫氟酸、草酸、氨水或氯化銨中的一種或任意幾種的組合。
實(shí)施例1
選擇卷式聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)膜為基材，整個(gè)過(guò)程以卷對(duì)卷的模式進(jìn)行作業(yè); 參見(jiàn)圖9。在PET膜1的上表面通過(guò)真空濺射鍍膜的方法先后鍍上氧化銦錫(ITO)層2和銅(Cu)層3，再在下表面通過(guò)真空濺射鍍膜的方法先后鍍上氧化銦錫(ITO)層5和銅(Cu) 層6，參見(jiàn)圖2 ；在兩面先后以絲網(wǎng)印刷的方式制作感光膠層8和層9，參見(jiàn)圖3，然后一次曝光、顯影、蝕刻，同時(shí)制作透明電極圖案和走線強(qiáng)化圖案，參見(jiàn)圖6 ；之后再?gòu)?qiáng)化走線的區(qū)域通過(guò)絲網(wǎng)印刷的方式制作保護(hù)膠層4和層7，參見(jiàn)圖7 ；此保護(hù)膠需要能夠耐受二次蝕刻液的浸泡；最后，對(duì)于透明電極層上面的Cu再進(jìn)行一輪二次蝕刻，將裸露在外面的Cu完全去除。參見(jiàn)圖8。到此為止，即完成了本發(fā)明基于電荷轉(zhuǎn)移位置傳感器的制作。
實(shí)施例2
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，基底材料除了選擇PET、改選玻璃、或者PC、或者 PMMA、或者聚烯烴、或者柔性材料。 實(shí)施例3
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，除了使用真空濺射鍍膜的方法制作透明導(dǎo)電層外， 還可以使用真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜或涂布的方法制作。
實(shí)施例4
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，除了使用真空濺射鍍膜的方法制作金屬?gòu)?qiáng)化層外， 還可以使用真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜、電鍍或化學(xué)鍍方法制作。
實(shí)施例5
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，透明導(dǎo)電層可以是氧化銦錫(ΙΤ0)、氧化鋅(ZnO)、氧化錫(SnO)、鋁(Al)、鎳(Ni)、鉬(Mo)、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、碳納米管(CNT)膜、導(dǎo)電樹(shù)脂等多種透明導(dǎo)電材料或者其組合方式。實(shí)施例6
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，金屬?gòu)?qiáng)化層可以是鎳(Ni)、鉬(Mo)、金(Au)、銀 (Ag)、銅(Cu)等多種導(dǎo)電性優(yōu)良的金屬或者其組合方式。不管選擇其中哪一種材料，都需要控制合適的鍍膜厚度，最終的阻抗要與電路相匹配。實(shí)施例7
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，除了使用絲網(wǎng)印刷的方法制作感光膠外，也可以以涂布感光膠或者貼敷感光干膜的方式制作。
實(shí)施例8
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，除了使用絲網(wǎng)印刷的方法制作防蝕刻膠外，也可以以涂布或者圓輥移印直接制作。
實(shí)施例9
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，除了使用卷對(duì)卷的作業(yè)方式，也可以事先將PET卷材裁切為片狀，以片狀進(jìn)行作業(yè)。參見(jiàn)圖10。 實(shí)施例10
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，在對(duì)感光膠進(jìn)行光刻工藝時(shí)，先對(duì)其中一面進(jìn)行工藝，一面的曝光、顯影、蝕刻結(jié)束之后用保護(hù)膜將其保護(hù)住，然后對(duì)另一面進(jìn)行相同的工藝， 完成之后揭離保護(hù)膜。
實(shí)施例11
基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)，包括基材、在基材上表面依次形成的第一透明導(dǎo)電層、 第一引線電極組、第一保護(hù)層和在基材下表面依次形成的第二透明導(dǎo)電層、第二引線電極組、第二保護(hù)層；第一引線電極組由透明導(dǎo)電層及覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層組成，該引線電極組與第一透明導(dǎo)電層電氣相連，其上覆蓋第一保護(hù)層；第二引線電極組由透明導(dǎo)電層及覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層組成，該引線電極組與第二透明導(dǎo)電層電氣相連，其上覆蓋第二保護(hù)層；第一引線電極組與第二引線電極組互相垂直?；臑椴Ａ?、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、亞克力或聚烯烴，厚度0.05mnT0. 7mm。當(dāng)基材為玻璃時(shí)，厚度為 0. ImnTO. 7mm。所述的透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫、氧化鋅、氧化錫、鋁、鎳、鉬、金、銀、銅、 碳納米管膜或?qū)щ姌?shù)脂中的一種或任意幾種的組合物。所述的金屬?gòu)?qiáng)化層的材料為鋁、鎳、 鉬、金、銀或銅中的一種或任意幾種的合金。制作基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)的方法，步驟為在基材的兩面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜或涂布的方法制作透明導(dǎo)電層；在上述上下透明導(dǎo)電層表面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜、電鍍或化學(xué)鍍方法制作金屬?gòu)?qiáng)化層；通過(guò)選擇性腐蝕方法在基材雙面分別形成第一透明導(dǎo)電層、第一引線電極組、第二透明導(dǎo)電層、第二引線電極組的圖形；在第一引線電極組和第二引線電極組表面采用絲網(wǎng)印刷、 圓輥移印或光刻的方法制作保護(hù)層；將完成上述工藝的工件放入選擇性蝕刻液，將覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層去除。所述的選擇性腐蝕方法采用涂布感光膠、貼敷感光干膜或者絲網(wǎng)印刷感光膠，之后干燥、曝光、顯影、蝕刻、去膠的方法完成電極圖案的制作。所述的選擇性腐蝕方法采用絲網(wǎng)印刷或圓輥移印直接制作防蝕刻膠，之后干燥、曝光、顯影、蝕刻、去膠的方法完成電極圖案的制作。在對(duì)感光膠進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻與脫膜工藝時(shí)，兩面同時(shí)進(jìn)行工藝，或先對(duì)其中一面進(jìn)行工藝，結(jié)束之后用保護(hù)膜將其保護(hù)住，然后對(duì)另一面進(jìn)行工藝，完成之后去除保護(hù)膜。將有機(jī)基材裁切后以片狀形式進(jìn)行作業(yè)；或使用卷對(duì)卷的模式進(jìn)行作業(yè)。文中未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。以上所述便是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本發(fā)明也不局限于以上僅有的實(shí)施例，在實(shí)施例上稍做改進(jìn)也將視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法，其特征在于步驟為在基材的兩面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜或涂布的方法制作透明導(dǎo)電層；在上述上下透明導(dǎo)電層表面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜、電鍍或化學(xué)鍍方法制作金屬?gòu)?qiáng)化層；通過(guò)選擇性腐蝕方法在基材雙面分別形成第一透明導(dǎo)電層、第一引線電極組、第二透明導(dǎo)電層、第二引線電極組的圖形；在第一引線電極組和第二引線電極組表面采用絲網(wǎng)印刷、圓輥移印或光刻的方法制作保護(hù)層；將完成上述工藝的工件放入選擇性蝕刻液，將覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層去除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法，其特征在于所述的選擇性腐蝕方法采用涂布感光膠、貼敷感光干膜或者絲網(wǎng)印刷感光膠，之后干燥、曝光、顯影、 蝕刻、去膠的方法完成電極圖案的制作。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法，其特征在于所述的選擇性腐蝕方法采用絲網(wǎng)印刷或圓輥移印直接制作防蝕刻膠，之后干燥、曝光、顯影、蝕刻、去膠的方法完成電極圖案的制作。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法，其特征在于在對(duì)感光膠進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻與脫膜工藝時(shí)，兩面同時(shí)進(jìn)行工藝，或先對(duì)其中一面進(jìn)行工藝， 結(jié)束之后用保護(hù)膜將其保護(hù)住，然后對(duì)另一面進(jìn)行工藝，完成之后去除保護(hù)膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法，其特征在于將有機(jī)基材裁切后以片狀形式進(jìn)行作業(yè)；或使用卷對(duì)卷的模式進(jìn)行作業(yè)。
全文摘要
基于電荷轉(zhuǎn)移的傳感器結(jié)構(gòu)制作方法，在基材的兩面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜或涂布的方法制作透明導(dǎo)電層；在上述上下透明導(dǎo)電層表面通過(guò)真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空熱蒸發(fā)鍍膜、電鍍或化學(xué)鍍方法制作金屬?gòu)?qiáng)化層；通過(guò)選擇性腐蝕方法在基材雙面分別形成第一透明導(dǎo)電層、第一引線電極組、第二透明導(dǎo)電層、第二引線電極組的圖形；在第一引線電極組和第二引線電極組表面采用絲網(wǎng)印刷、圓輥移印或光刻的方法制作保護(hù)層；將完成上述工藝的工件放入選擇性蝕刻液，將覆蓋透明導(dǎo)電層的金屬?gòu)?qiáng)化層去除。與傳統(tǒng)的方法相比，此方法加工工序減少，工藝難度降低，加工效率和良品率大大提高，制造成本也低。
文檔編號(hào)G06F3/041GK102214042SQ201110150579
公開(kāi)日2011年10月12日 申請(qǐng)日期2011年6月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月7日
發(fā)明者張小華, 潘耀南, 章晶晶 申請(qǐng)人:南京福萊克斯光電科技有限公司