專利名稱:控制流體流動的裝置、方法和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種控制流體流速的裝置、方法和系統(tǒng)。本發(fā)明的一些示例性的方面將涉及一種用于半導(dǎo)體加工設(shè)備的流動控制裝置。
相關(guān)技術(shù)描述一些常規(guī)流體流動控制裝置通常是具有有限流速范圍的大裝置。另外,一些常規(guī)裝置將具有相對低的再現(xiàn)性和設(shè)定值準(zhǔn)確性。在一些情況下,上游液體輸出壓力的變化(例如,波動)可引起流速偏移和/或波動到所需的容許偏差之外。此外,諸如流動阻力、部分填充輸送管線以及抽吸的特定液體輸送條件也可降低流動控制能力。此外,缺乏與一些結(jié)構(gòu)有關(guān)的充分響應(yīng)性也將引起一種或多種流體的過沖、下沖和/或不足的批量體積控制。
由于這些以及其它原因,需要一種可供選擇的方法。
概述在下列描述中,本發(fā)明的特定方面和實施方式將變得明顯。應(yīng)當(dāng)理解的是在更寬意義上,在不具有這些方面和實施方式的一個或多個特征時仍可實施本發(fā)明。換句話說,這些方面和實施方式僅是示例性的。
本發(fā)明的一個方面涉及一種流動控制裝置。該裝置將包括一個用于流體進(jìn)入該裝置的入口,一個用于流體從該裝置流出的出口,一個氣壓控制部分,一個構(gòu)造成可由氣壓控制部分供給的氣壓驅(qū)動的,以便于調(diào)節(jié)該流體流速的流體流動控制閥,一個構(gòu)造成可測量該流體流速的流量計,以及一個構(gòu)造成可控制該氣壓控制部分的控制器。該控制器至少根據(jù)流量計測得的流速可控制該氣壓控制部分。
另一方面涉及一種流動控制裝置,該流動控制裝置將包括一個用于流體進(jìn)入該裝置的入口,一個用于流體從該裝置流出的出口,一個構(gòu)造成可被驅(qū)動的,以便于調(diào)節(jié)該流體流速的流體流動控制閥,一個構(gòu)造成可測量該流體流速的流量計,以及一個構(gòu)造成可控制該流體流動控制閥的驅(qū)動的控制器。
在另一方面中,該控制器可通過一個算法來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。該算法可包括確定至少一個測量流速和預(yù)定流速的差值,根據(jù)該差值來選擇一個調(diào)節(jié)量的范圍,以及根據(jù)所選擇的調(diào)節(jié)量范圍來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。該調(diào)節(jié)量范圍也可選自各自與不同的差值范圍有關(guān)的多個調(diào)節(jié)量范圍。在一些實施例中,該控制器可構(gòu)造成至少根據(jù)該流速的差值和一種比例—積分—微分反饋控制方法來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。
在另一方面,該裝置可進(jìn)一步包括一個構(gòu)造得可測量該流體壓力的壓力傳感器。例如,該控制器至少可根據(jù)壓力傳感器測得的流體壓力和流量計測得的流速來控制該流體流動控制閥(例如,通過控制氣壓控制部分)。在一些實例中,該壓力傳感器可位于流體流動控制閥的上游。
在另一方面,該流量計可位于流體流動控制閥的上游。
在又一方面中,該流量計可包括一個超聲流量計。
雖然另一方面涉及一個用于多流體流動控制的系統(tǒng)。該系統(tǒng)可包括一個第一流動控制裝置和一個第二流動控制裝置。該第一流動控制裝置和該第二流動控制裝置的每一個都可根據(jù)這里描述的任何流動控制裝置來構(gòu)造。
在另一方面,一個用于半導(dǎo)體加工的系統(tǒng)可包括至少一個流動控制裝置和至少一個半導(dǎo)體處理工具。該半導(dǎo)體處理工具可接受來自至少一個流動控制裝置的流體。
在一些實例中包括一個氣壓控制部分,該氣壓控制部分可包括一個輔助控制器和構(gòu)造得可用來測定該氣壓的壓力傳感器。該輔助控制器可構(gòu)造成至少根據(jù)該壓力傳感器測得的氣壓來控制該氣壓控制部分。
另外一個方面涉及一種控制流體流動的方法。該方法可包括提供一個流動控制裝置。該方法可進(jìn)一步包括用流量計測量流速,至少根據(jù)流量計測得的流速來控制氣壓控制部分,以及通過來自氣壓控制部分的氣壓來驅(qū)動該流體流動控制閥。
在一些實例中包括一個氣壓控制部分,該氣壓控制部分可包括一個比例氣壓控制閥。
在另一方面,一種將測量流速調(diào)節(jié)到預(yù)定流速的方法可包括提供一個流動控制裝置,用流量計測量流速,確定測量流速和預(yù)定流速的至少一個差值,根據(jù)該差值選擇一個調(diào)節(jié)量范圍,以及根據(jù)該選擇的調(diào)節(jié)量范圍來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。該調(diào)節(jié)量范圍可選自各自與不同的差值范圍有關(guān)的多個調(diào)節(jié)量范圍。
除上述結(jié)構(gòu)上和程序上的設(shè)置外,本發(fā)明可包括許多在下文中描述的其它設(shè)置方式。應(yīng)當(dāng)理解前面和后面所述的都只是示例性的。
附圖的簡要說明附圖結(jié)合在此處,構(gòu)成了說明書的以部分。附圖示出了示例性的實施方式,并結(jié)合描述用于解釋本發(fā)明的一些原理。在附圖中,附
圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個流動控制裝置的一個實施方式的示意圖;以及附圖2是一個包括兩個構(gòu)造與附圖1相同的裝置的示例性的流動控制系統(tǒng)的示意圖。
幾個示例性的實施方式的描述下面將詳細(xì)參照本發(fā)明的幾個示例性的實施方式。在任何可能之處,在附圖和描述中使用相同的附圖標(biāo)記來指代相同或相似的部件。
附圖1表示流動控制裝置1的一個實施方式。諸如液體、泥漿、氣體和/或其混合物的流體通過流體入口9進(jìn)入裝置1中。正如下面所詳細(xì)描述的,一個流體流動控制閥2調(diào)節(jié)通過流體出口7離開裝置1的流體的流速。
在附圖1的實施方式中,該流體流動控制閥2是一個氣壓驅(qū)動閥,它根據(jù)供給流體流動控制閥2的氣動口的氣壓量來調(diào)節(jié)流體的流速。如附圖1所示,該裝置1也包括一個流量計3、一個控制器4和一個通過管線8向流動控制閥2供給受控氣壓的氣壓控制部分5。流量計3測量從入口9流到出口7的流體的流速,它與控制器4聯(lián)通并為控制器4提供一個指示所測得的流速的電子信號??刂破?依次與氣壓控制部分5聯(lián)通并電子地控制該氣壓控制部分5,從而調(diào)節(jié)供給流動控制閥2的氣壓量。
流動控制閥2可構(gòu)造成以與供給閥2的氣壓量的增加和/或減少有關(guān)(例如,按比例的)的量增加和/或減少流體流速。該流體流動控制閥2也可構(gòu)造成以與供該閥2的大體上被保持的氣壓有關(guān)(例如,按比例的)的量大體上保持液體流速。與其它一些可選擇的類型的流動閥設(shè)置方式相比,使用氣動驅(qū)動閥任意地能夠使對閥控制的響應(yīng)更快、更準(zhǔn)確以及更服從。此外,使用一個氣動驅(qū)動閥能夠使閥2更好地跟蹤控制信號。
在一些實施例中,該流動控制閥2可以是Asahi制造的氣動控制閥。如附圖1所示,控制器4可構(gòu)造成隨閥2上游測得的流體壓力而動作,并調(diào)節(jié)供給閥2的氣壓以補償上游的壓力波動。也可使用其它類型的閥。
流量計3可以是任何類型的能夠用于測量流體流速的裝置。在至少一些實施例中,該流量計3具有相對高的精確度。例如,流量計3可以是超聲流量計。一種示例性的流量計是東京流量計廠(Tokyo Flow Meter)制造的超聲流量計。
如附圖1所示,流量計3可設(shè)置為用于測量流體流動控制閥2的上游流體的流速??蛇x擇地,該流量計也可設(shè)置為用測量閥2的下游流體的流速。
如上所述,通過管線8供給流動控制閥2的氣壓量可通過氣壓控制部分5來控制。例如,該氣壓控制部分5可構(gòu)造成接受來自加壓氣體源12的加壓氣體(例如,諸如氮氣的加壓情性氣體或加壓空氣),然后在根據(jù)控制器4提供的電子信號控制的壓力下將該氣體輸出到管線8。該氣壓控制部分5可包括一個或多個閥和/或壓力調(diào)節(jié)器。在一些實施例中,該壓力控制部分5可以是一個比例氣壓控制閥。一個示例性的閥可包括一個通過管線8輸出一些注入氣的閥組件和另一從閥中放出一些注入氣的閥組件。
壓力控制部分5能夠提供在可用于控制該流動控制閥2的壓力范圍內(nèi)的一個壓力范圍的輸出壓力。例如,該壓力控制部分5可構(gòu)造成提供在0-約50PSI范圍內(nèi)或其它范圍內(nèi)的輸出壓力。
如附圖1所示,該氣壓控制部分5可構(gòu)造以檢測管線8中的氣壓并調(diào)節(jié)該氣壓控制以補償管線8中的壓力波動。在一些實施例中,該壓力控制部分5可具有自己的至少根據(jù)測得的下游氣壓來控制該氣壓控制部分5的輔助控制器。這種示例性的設(shè)置可具有一個與該輔助控制器有關(guān)的控制回路,它可以是除一個可能的與控制器4有關(guān)的控制回路之外的又一個回路。
在一些實施例中,裝置1可包括一個任意的構(gòu)造為可測量流體壓力并與控制器4連通以提供一個指示所測得的流體壓力信號的壓力傳感器6,。如附圖1所示,該壓力傳感器6可設(shè)置得用于檢測流動控制閥2的上游流體壓力。當(dāng)供給裝置1的流體具有變動壓力時,該裝置可能提高輸出流體流速的穩(wěn)定性??晒┻x擇的是,壓力傳感器6可設(shè)置得用于檢測閥2的下游流體壓力。
裝置1也可包括一個構(gòu)造成能夠向控制器4輸入預(yù)定流體流速的輸入部分10。在一些實施例中,該輸入部分10可包括一個小鍵盤、一個連接到計算機的連接部分,一個本地或遠(yuǎn)程裝置或其他任何能夠使用戶輸入預(yù)定流體流速的構(gòu)造??蛇x擇的(或此外),該輸入部分10可包括一個存儲器來保存一個或多個預(yù)定流體流速和/或一個可確定流體流速的獨立處理器??刂破?接受來自流量計3、壓力傳感器6和輸入部分10的電子信號。根據(jù)一個或多個這些信號,控制器4可確定一個適當(dāng)?shù)男盘柊l(fā)送給壓力控制部分5以便在管線8中產(chǎn)生一個特定的氣壓,從而通過流動控制閥2產(chǎn)生一個特定的流體流速。該控制器4可根據(jù)來自流量計3、壓力傳感器6和輸入部分10的輸入信號的任何變化而改變輸出到壓力控制部分5的信號。在一些情況下,可改變管線8中的壓力以維持來自裝置1的一個大致穩(wěn)定態(tài)的流速(例如,當(dāng)流過裝置1的液體壓力變化時)和/或改變裝置1的流體流速(例如,響應(yīng)來自輸入部分10的變化的輸入)。
在一些實施例中,控制器4可以是PLC,嵌入的或單板控制器,或任何其它的計算裝置例如PC機。該控制器4可使用控制邏輯或算法來分析流速和非必要的來自傳感器6的流體壓力信號。該控制器4也可確定一個預(yù)定流速和測量流速的差值,并產(chǎn)生一個發(fā)送給控制部分5的調(diào)節(jié)信號。該算法可設(shè)計為用于補償控制部分5和流體流動控制閥2的特定行為。這種補償可包括i)預(yù)測機械閥的驅(qū)動滯后;ii)偏置控制信號以增加閥開或關(guān)速率以密切跟蹤流動、壓力或所需流速的快速改變;和/或iii)反向偏置控制信號以降低閥響應(yīng)的震蕩(ringing)和/或過沖。這些補償可為特殊的硬件組合而設(shè)計。
此外,為了得到特定的流速范圍,可選擇流量計3和流體流動控制閥2。
另外,如果使用一種控制算法,該算法和控制部分5將允許高的流速操作彈性,同時在整個流速范圍內(nèi)提供高精確度。操作彈性表示在低于裝置的滿負(fù)荷值下操作的能力;例如,一個高彈性操作的流動控制器在相對的低流速和高流速下都可能精確地操作而無須更換硬件。此外,該控制算法可通過預(yù)料閥對控制信號的響應(yīng)并偏置該控制信號以校正這種閥響應(yīng)來補償特定的閥性能。這種補償可對閥2產(chǎn)生更高的適應(yīng)性,在閥位置和預(yù)定速率之間更好地跟蹤,并產(chǎn)生一個再現(xiàn)性更好和更穩(wěn)定的流速。
在控制氣壓控制部分5中,控制器4可使用一個比例—積分—微分(“PID”)反饋控制方法來調(diào)節(jié)電子控制信號和/或管線8中的氣壓。在一個PID反饋控制方法中,該控制器4可計算一個基于測量流速和預(yù)定流速的差值的誤差。本申請中所使用的術(shù)語“誤差”,可廣義地定義為測量流速與預(yù)定流速之間的差值。在這個實施方式中,術(shù)語“比例”指的是這個誤差(或流速差值),術(shù)語“積分”指的是一段時間內(nèi)的誤差的和,以及術(shù)語“微分”指的是一段時間內(nèi)誤差的變化率。盡管這三個術(shù)語都可用在PID反饋控制方法中,但這些術(shù)語中的一個或多個可被設(shè)定為零。因而,來自控制器4的電子控制信號可作為PID回路中的術(shù)語“比例”、“積分”和/或“微分”的函數(shù)而變化;此外,這些術(shù)語根據(jù)預(yù)定流速與測量流速的差值而變化。
該算法也可使用前饋(預(yù)測流體流動控制閥2的準(zhǔn)確位置)和反饋(測量調(diào)節(jié)后的流速)兩種控制方法。使用這兩種控制方法可提供更好的性能??晒┻x擇的是,下面兩種方法中的任意一種均可在控制流動中單獨地使用。
在其它實施例中,可使用兩種基本方法的結(jié)合來控制流動,將在下面進(jìn)行描述。
第一種方法可以是PID反饋控制方法的積分術(shù)語的非線性執(zhí)行。例如,一個算法可使用誤差的歷史記錄來計算控制器4的輸出,然后再驅(qū)動流體流動控制閥2(或控制氣壓控制部分5)。再在這些實施例中以及在每個程序掃描期間,控制器4可使用預(yù)定流、當(dāng)前流和當(dāng)前氣壓設(shè)定來根據(jù)誤差增加或減小該氣壓。例如,如果該氣壓變化沒有導(dǎo)致零誤差,該控制器4可在下一個掃描期間再次重復(fù)應(yīng)用該方法。此外,該控制器4可將可能的誤差分成幾個范圍,并根據(jù)該范圍應(yīng)用不同的氣壓校正因子。在實施中使用變化的氣壓校正因子,該控制器4可根據(jù)所選擇范圍來驅(qū)動流體流動控制閥2(或控制氣壓控制部分5)。
第二種方法是一種前饋反饋控制方法。在前饋中,根據(jù)對可引起誤差的情況的認(rèn)識,在系統(tǒng)中添加一個額外的輸入。一個好的前饋控制系統(tǒng)的實例是一個熱水器控制回路。在該熱水器實例中,該PID(或其它基于反饋的控制器)連續(xù)調(diào)節(jié)該熱水器的輸出以維持一個預(yù)定的溫度。如果經(jīng)過該熱水器的流速突然改變,該溫度將相應(yīng)地改變,該控制回路將響應(yīng)該溫度改變。在一個前饋系統(tǒng)中,在對可能產(chǎn)生的誤差的預(yù)測中,監(jiān)測水流速并調(diào)節(jié)熱水器的輸出以響應(yīng)對將引起的誤差的預(yù)測中流速的改變。在該前饋控制系統(tǒng)中,該系統(tǒng)可更快地響應(yīng)流動的改變。當(dāng)應(yīng)用于本實施例中時,控制器4可使用所要求的流速改變來計算和預(yù)測所期望的用于流體流動控制閥2的氣壓設(shè)定。例如,可根據(jù)1,2,3或任何流點上執(zhí)行的校正程序衍生的方程式來計算所期望的(或預(yù)測的)氣壓設(shè)定。在確定流點后,一個二階微分方程式將擬合這些流點,而且控制器4可使用該方程式來計算精確到一定程度的氣壓。根據(jù)所期望的精確度也可使用一個更高或較低階的方程式。在另一實施例中,控制器4仍可使用用于控制回路的積分或其它方法來將氣壓調(diào)節(jié)到所預(yù)定的氣壓。
如附圖1所示,通過出口7流過裝置1的控制流速可被輸送到另一可使用該流體的部件30中。例如,部件30可以是一個半導(dǎo)體制造工具,而且該裝置1和工具可以是用于半導(dǎo)體制造的系統(tǒng)的部件。半導(dǎo)體制造工具的一些實例包括裝載鎖(load locks)、晶片拋光工具、晶片蝕刻工具以及用于半導(dǎo)體制造的其它任何類型的裝置。
附圖2是一個包括一個第一流動控制裝置19和一個第二流動控制裝置22的系統(tǒng)的實施方式的示意圖。其中裝置19和22中的每一個均可構(gòu)造成與前述的流體流動控制裝置1相同。第一流體通過流體入口18進(jìn)入第一流動控制裝置19,并通過流體出口20離開裝置19。第二流體通過流體入口21進(jìn)入第二流動控制裝置22,并通過流體出口23離開裝置22。出口20和23可被流動耦合在一起以便產(chǎn)生一個可通過管線24離開系統(tǒng)16的混合的流體組合。
很顯然,對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說,可以對這里所描述的結(jié)構(gòu)和方法作出各種修飾和變化。例如,雖然所述裝置與一個通過氣壓驅(qū)動的流體流動控制閥相連,但也可使用其它類型的流體流動控制閥(例如,分檔電機驅(qū)動閥,螺線管驅(qū)動閥等等)。因此,應(yīng)當(dāng)理解為本發(fā)明并不僅限于說明書中所述的內(nèi)容。相反地,本發(fā)明意圖包括上述的修飾和變化。
權(quán)利要求
1.一種流動控制裝置,包括一個流體流入該裝置的入口;一個流體流出該裝置的出口;一個流體流動控制閥,其中該流體流動控制閥構(gòu)造成通過氣壓驅(qū)動以便于調(diào)節(jié)流體的流速;一個氣壓控制部分,其中該裝置構(gòu)造為使流體流動控制閥通過氣壓控制部分供給的氣壓來驅(qū)動;一個構(gòu)造為用于測量流體流速的流量計;以及一個構(gòu)造為至少根據(jù)流量計測得的流速來控制氣壓控制部分的控制器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,進(jìn)一步包括一個構(gòu)造為用于測量流體壓力的壓力傳感器,其特征在于該控制器至少根據(jù)壓力傳感器測得的流體壓力和流量計測得的流速來控制氣壓控制部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流動控制裝置,其特征在于該壓力傳感器位于流體流動控制閥的上游。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,其特征在于該流量計位于流體流動控制閥的上游。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,其特征在于該氣壓控制部分包括一個構(gòu)造為用于測量氣壓的壓力傳感器,以及其中該氣壓控制部分還包括一個構(gòu)造為用于至少根據(jù)壓力傳感器測得的氣壓來控制氣壓控制部分的輔助控制器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,其特征在于該流量計包括一個超聲流量計。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,其特征在于該控制器構(gòu)造為用于至少根據(jù)流量計所測得的流速與一個預(yù)定流速的差值來控制該氣壓控制部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的流動控制裝置,其特征在于該控制器構(gòu)造為用于至少根據(jù)所述流速差值和一種比例—積分—微分反饋控制方法來控制該氣壓控制部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,其特征在于該氣壓控制部分包括一個比例氣壓控制閥。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,其特征在于該控制器構(gòu)造為根據(jù)一個算法來控制流體流動控制閥的驅(qū)動,其中該算法包括確定測量流速與一個預(yù)定流速之間的至少一個差值;根據(jù)該差值選擇一個調(diào)節(jié)量的范圍,其中該調(diào)節(jié)量的范圍選自各自與不同的差值范圍相關(guān)的多個調(diào)節(jié)量范圍中;以及根據(jù)所選擇的調(diào)節(jié)量的范圍來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。
11.一種用于多流體流動控制的系統(tǒng),包括一個第一流動控制裝置;以及一個第二流動控制裝置,其特征在于該第一流動控制裝置和第二流動控制裝置中的每一個均根據(jù)權(quán)利要求1所述的流動控制裝置來構(gòu)造。
12.一種用于半導(dǎo)體加工的系統(tǒng),包括至少一個權(quán)利要求1所述的流動控制裝置;以及至少一個半導(dǎo)體制造工具,其特征在于該半導(dǎo)體制造工具接收來自至少一個流動控制裝置的流體。
13.一種控制流體流動的方法,該方法包括提供權(quán)利要求1的裝置;用流量計測量流速;至少根據(jù)流量計測得的流速來控制氣壓控制部分;以及通過來自氣壓控制部分的氣壓來驅(qū)動該流體流動控制閥。
14.一種流動控制裝置,包括一個流體流入該裝置的入口;一個流體流出該裝置的出口;一個流體流動控制閥,其中該流體流動控制閥構(gòu)造成通過被驅(qū)動來調(diào)節(jié)流體的流速;一個構(gòu)造為用于測量流體流速的流量計;以及一個構(gòu)造為用于根據(jù)算法來控制流體流動控制閥的驅(qū)動的控制器;其特征在于,該算法包括確定測量流速與一個預(yù)定流速之間的至少一個差值;根據(jù)該差值選擇一個調(diào)節(jié)量的范圍,其中該調(diào)節(jié)量的范圍選自各自與不同的差值范圍相關(guān)的多個調(diào)節(jié)量范圍;以及根據(jù)所選擇的調(diào)節(jié)量范圍來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流動控制裝置,其特征在于該控制器構(gòu)造為用于至少根據(jù)該流速差值和和一種比例—積分—微分反饋控制方法來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流動控制裝置,進(jìn)一步包括一個構(gòu)造為用于測量流體壓力的壓力傳感器,其特征在于該控制器構(gòu)造為用于至少根據(jù)壓力傳感器測得的流體壓力和流量計測得的流速來控制流體流動控制閥。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的流動控制裝置,其特征在于該壓力傳感器位于流體流動控制閥的上游。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流動控制裝置,其特征在于該流量計位于流體流動控制閥的上游。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流動控制裝置,其特征在于該流量計包括一個超聲流量計。
20.一種用于多流體流動控制的系統(tǒng),包括一個第一流動控制裝置;以及一個第二流動控制裝置,其特征在于該第一流動控制裝置和第二流動控制裝置中的每一個均根據(jù)權(quán)利要求14所述的流動控制裝置來構(gòu)造。
21.一種用于半導(dǎo)體加工的系統(tǒng),包括至少一個權(quán)利要求14所述的流動控制裝置;以及至少一個半導(dǎo)體制造工具,其特征在于該半導(dǎo)體制造工具接收來自至少一個流動控制裝置的流體。
22.一種控制流體流動的方法,該方法包括提供權(quán)利要求14的裝置;用流量計測量流速;確定測量流速與一個預(yù)定流速之間的至少一個差值;根據(jù)該差值選擇一個調(diào)節(jié)量的范圍;以及根據(jù)所選擇的調(diào)節(jié)量范圍來控制該流體流動控制閥的驅(qū)動。
全文摘要
一種流動控制裝置可包括一個流體流入該裝置的入口,一個流體流出該裝置的出口,一個氣壓控制部分,一個通過氣壓控制部分供給的氣壓來驅(qū)動的流體流動控制閥,一個構(gòu)造為用于測量流體流速的流量計,以及一個構(gòu)造為用于至少根據(jù)流量計測得的流速來控制氣壓控制部分的控制器。驅(qū)動該流體流動控制閥可調(diào)節(jié)流速。
文檔編號G05D16/18GK1683817SQ20051005421
公開日2005年10月19日 申請日期2005年1月6日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月6日
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