技術(shù)編號:6265431
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種控制流體流速的裝置、方法和系統(tǒng)。本發(fā)明的一些示例性的方面將涉及一種用于半導體加工設(shè)備的流動控制裝置。相關(guān)技術(shù)描述一些常規(guī)流體流動控制裝置通常是具有有限流速范圍的大裝置。另外,一些常規(guī)裝置將具有相對低的再現(xiàn)性和設(shè)定值準確性。在一些情況下,上游液體輸出壓力的變化(例如,波動)可引起流速偏移和/或波動到所需的容許偏差之外。此外,諸如流動阻力、部分填充輸送管線以及抽吸的特定液體輸送條件也可降低流動控制能力。此外,缺乏與一些結(jié)構(gòu)有關(guān)的充分響應(yīng)性也將引起...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。