片，按照能量從低到高的次序放入兩個(gè)濾波轉(zhuǎn)盤的濾光孔中，零位為空。
[0091]兩個(gè)濾波轉(zhuǎn)盤的固定部件稍微錯(cuò)位并排固定于光學(xué)平臺(tái)上，使兩個(gè)轉(zhuǎn)盤的工作位濾光孔能夠一前一后對(duì)準(zhǔn)，即濾光孔中心和X射線束中心同軸。初始狀態(tài)下，不安裝濾光片的兩個(gè)濾光孔處于零位。
[0092]2、待檢物的放置定位
[0093]光學(xué)平臺(tái)和導(dǎo)軌平臺(tái)上分別安放一個(gè)激光器，光學(xué)平臺(tái)的激光器位置與X射線光管位置相重疊，導(dǎo)軌平臺(tái)上的激光器位置在導(dǎo)軌平臺(tái)末端，對(duì)準(zhǔn)導(dǎo)軌平臺(tái)的中心線。這兩個(gè)激光器一個(gè)產(chǎn)生橫向激光，另一個(gè)產(chǎn)生豎向激光，相互對(duì)射產(chǎn)生交叉十字。也就是說，激光十字中心調(diào)整好為X射線主束中心，與快門、過濾轉(zhuǎn)盤上工作位的濾波片中心、光闌、監(jiān)督電離室中心在同一直線。
[0094]安放待檢物于測(cè)量檢定平臺(tái)上，再對(duì)測(cè)量檢定平臺(tái)進(jìn)行X、y、z、r多維調(diào)整，使得十字激光定位在待檢物的中心，以此保證待檢物在X射線束的中心位置處于光路上。
[0095]以同樣方式實(shí)現(xiàn)基準(zhǔn)電離室的精確定位。
[0096]3、工作過程
[0097]打開X射線光管，轉(zhuǎn)動(dòng)濾波轉(zhuǎn)盤，使所需的濾波片處于的工作位?？刂茰y(cè)量檢定平臺(tái)在導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)到達(dá)工作位置，通過基準(zhǔn)電離室探測(cè)和測(cè)量該待檢物輻射質(zhì)下的電離電流，同時(shí)監(jiān)督電離室測(cè)量X射線光管出射的X射線的電離電流。數(shù)據(jù)通過數(shù)據(jù)線發(fā)送到測(cè)量系統(tǒng)中進(jìn)行分析計(jì)算。
[0098]控制轉(zhuǎn)動(dòng)濾波轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)，更換處于工作位的濾波片，再進(jìn)行電離電流測(cè)量，直至完成所有濾波轉(zhuǎn)盤中加載的濾波片處于工作位的測(cè)量。
[0099]改變X射線光管的工作參數(shù)，再重復(fù)上述過程。直至完成所有所需參數(shù)的測(cè)量。
[0100]4、處理和結(jié)論
[0101]完成測(cè)量之后，對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，從而可以根據(jù)基準(zhǔn)值，給待檢物一個(gè)刻度因子，完成對(duì)待檢物的檢定工作。
[0102]本實(shí)用新型X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了方便和精確的X射線源到被測(cè)物的X射線出射調(diào)整，從而保證了測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確和有效。
[0103]以上所述的【具體實(shí)施方式】，對(duì)本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】而已，并不用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)包括: X射線發(fā)生裝置，固定在光學(xué)平臺(tái)上，產(chǎn)生水平出射的X射線束； 擋板，由支架和固定在所述支架中的鉛板構(gòu)成，屏蔽X射線管產(chǎn)生的X射線光子主束方向的漏射線，所述擋板上具有X射線束的出射孔，形成光闌； 快門，固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，并設(shè)置在所述擋板的X射線束射出方向一側(cè)；所述快門包括:具有通孔的擋板和可移動(dòng)的遮光片；所述通孔的中心、所述光闌的中心、所述X射線束的中心在同一直線上；當(dāng)所述遮光片遮擋在所述通孔上時(shí)，所述快門閉合；當(dāng)所述遮光片從所述通孔上移開時(shí)，所述快門打開，使所述X射線束由所述通孔出射； 過濾裝置，固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，并設(shè)置在所述快門的X射線束射出方向一側(cè)，包括以所述通孔為中心位置對(duì)稱設(shè)置的兩組濾波轉(zhuǎn)盤；每組濾波轉(zhuǎn)盤包括N個(gè)濾光孔，所述N為大于I的正整數(shù)，所述濾光孔中夾設(shè)有濾光片；當(dāng)所述濾波轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向依次有兩個(gè)濾光孔同時(shí)與所述通孔位置相對(duì)準(zhǔn)，使所述X射線束由所述濾光孔中的濾光片進(jìn)行濾光之后再由所述通孔出射； 導(dǎo)軌平臺(tái)，設(shè)置在所述光學(xué)平臺(tái)的X射線束出束方向的一側(cè)，包括:平行所述X射線束出束方向設(shè)置的導(dǎo)軌和在所述導(dǎo)軌上平行移動(dòng)的測(cè)量檢定平臺(tái)；調(diào)整所述測(cè)量檢定平臺(tái)，使放置于所述測(cè)量檢定平臺(tái)上的待檢物的中心與所述X射線束的中心相重合。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括: 監(jiān)督電離室，固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，并設(shè)置在所述過濾裝置的X射線束射出方向一側(cè)，對(duì)所述X射線束的劑量進(jìn)行測(cè)量。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，在每組濾波轉(zhuǎn)盤中，除一個(gè)濾光孔外，其余(N-1)個(gè)濾光孔中夾設(shè)有濾光片； 其中，一組濾波轉(zhuǎn)盤的未夾設(shè)濾光片的濾光孔與所述通孔位置對(duì)準(zhǔn)，當(dāng)另一組濾波轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向依次有一個(gè)夾設(shè)有濾光片的濾光孔與所述未夾設(shè)濾光片的濾光孔以及通孔的位置相對(duì)準(zhǔn)，使所述X射線束由所述另一組濾波轉(zhuǎn)盤的濾光片進(jìn)行濾光之后再由所述通孔出射。4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述濾光孔的直徑不小于所述通孔的直徑。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線發(fā)生裝置包括X射線光管和光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)； 所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，所述X射線光管安裝在所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的安裝面上；調(diào)整所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，使所述X射線光管發(fā)出的X射線束沿所述測(cè)量檢定平臺(tái)在所述導(dǎo)軌上的移動(dòng)方向水平射出。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括: 橫向?qū)к?，垂直所述擋板安裝在所述光學(xué)平臺(tái)上； 旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，滑設(shè)在所述橫向?qū)к壣?，在所述光學(xué)平臺(tái)上橫向移動(dòng)，并在平行所述光學(xué)平臺(tái)的平面上進(jìn)行角度旋轉(zhuǎn)； 縱向調(diào)節(jié)架，安裝在所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上，調(diào)整所述縱向調(diào)節(jié)架，使所述縱向調(diào)節(jié)架的頂端到所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)之間的垂直距離發(fā)生改變； 光管固定器，安裝在所述縱向調(diào)節(jié)架的頂端，固定提供X射線束的X射線管； 通過調(diào)節(jié)所述縱向調(diào)節(jié)架的高度，調(diào)整所述X射線束的出射高度，并且通過調(diào)節(jié)所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)的旋轉(zhuǎn)角度，調(diào)整所述X射線束的出射角度，使所述X射線管的中心與所述出射孔的中心對(duì)準(zhǔn)；通過調(diào)節(jié)所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)在所述橫向?qū)к壣系奈恢?，調(diào)整所述X射線管與所述出射孔之間的距離。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述測(cè)量檢定平臺(tái)包括: 移動(dòng)基座，包括: 第一底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述導(dǎo)軌上，由第一電機(jī)控制，沿平行導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)； 滑軌，安裝在所述第一底座上，與所述導(dǎo)軌方向垂直； 第二底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述滑軌上，由第二電機(jī)控制，沿垂直導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)； 第一測(cè)量平臺(tái)，架設(shè)在所述第二底座上，具有第一轉(zhuǎn)軸和第二轉(zhuǎn)軸；通過所述第一轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第一測(cè)量平臺(tái)沿垂直所述導(dǎo)軌所在平面方向的高度位置，通過所述第二轉(zhuǎn)軸調(diào)整第一測(cè)量平臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)； 第二測(cè)量平臺(tái)，放置所述待檢物，架設(shè)在所述第一測(cè)量平臺(tái)之上，所述第二測(cè)量平臺(tái)隨所述第一測(cè)量平臺(tái)垂直移動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)；所述第二測(cè)量平臺(tái)具有第三轉(zhuǎn)軸、第四轉(zhuǎn)軸、第五轉(zhuǎn)軸和第六轉(zhuǎn)軸；通過所述第三轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測(cè)量平臺(tái)沿垂直所述導(dǎo)軌所在平面方向的高度位置，通過所述第四轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測(cè)量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第五轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測(cè)量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿垂直所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第六轉(zhuǎn)軸調(diào)整第二測(cè)量平臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述測(cè)量檢定平臺(tái)包括: 移動(dòng)基座，包括: 第一底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述導(dǎo)軌上，由第一電機(jī)控制，沿平行導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)； 滑軌，安裝在所述第一底座上，與所述導(dǎo)軌方向垂直； 第二底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述滑軌上，由第二電機(jī)控制，沿垂直導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)； 第二測(cè)量平臺(tái)，放置所述待檢物，架設(shè)在所述第二底座上；所述第二測(cè)量平臺(tái)具有第三轉(zhuǎn)軸、第四轉(zhuǎn)軸、第五轉(zhuǎn)軸和第六轉(zhuǎn)軸；通過所述第三轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測(cè)量平臺(tái)沿垂直所述導(dǎo)軌所在平面方向的高度位置，通過所述第四轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測(cè)量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第五轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測(cè)量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿垂直所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第六轉(zhuǎn)軸調(diào)整第二測(cè)量平臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，包括：X射線發(fā)生裝置，產(chǎn)生水平出射的X射線束；擋板，具由光闌；快門，包括具有通孔的擋板和可移動(dòng)的遮光片；通孔的中心、光闌的中心、X射線束的中心在同一直線上；過濾裝置，包括以通孔為中心位置對(duì)稱設(shè)置的兩組濾波轉(zhuǎn)盤；每組濾波轉(zhuǎn)盤包括N個(gè)濾光孔，濾光孔中夾設(shè)有濾光片；當(dāng)濾波轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向依次有兩個(gè)濾光孔同時(shí)與通孔位置相對(duì)準(zhǔn)，使X射線束由所述濾光孔中的濾光片進(jìn)行濾光之后再由通孔出射；導(dǎo)軌平臺(tái)包括：平行X射線束出束方向設(shè)置的導(dǎo)軌和在導(dǎo)軌上平行移動(dòng)的測(cè)量檢定平臺(tái)；調(diào)整測(cè)量檢定平臺(tái)，使放置于測(cè)量檢定平臺(tái)上的待檢物的中心與X射線束的中心相重合。
【IPC分類】G01N23/00
【公開號(hào)】CN204855411
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520477216
【發(fā)明人】吳金杰, 李論, 王玉龍, 陳法君
【申請(qǐng)人】中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院
【公開日】2015年12月9日
【申請(qǐng)日】2015年7月3日