1.一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量方法,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量方法,其特征在于,所述的獲取雜質(zhì)注入到等離子體中引起的等離子體輻射功率的時空演化信號,具體包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量方法,其特征在于,所述的獲取雜質(zhì)注入到等離子體中引起的等離子體輻射功率的時空演化信號,具體包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量方法,其特征在于,采用激光吹氣注入技術(shù),以固定頻率注入等量雜質(zhì)到所述等離子體中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量方法,其特征在于,所述的利用雜質(zhì)輸運方程數(shù)值求解技術(shù),通過改變雜質(zhì)擴散系數(shù)和雜質(zhì)對流速度系數(shù)來逼近所述等離子體輻射的幅度和相位在空間上的分布,具體包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量方法,其特征在于,所述的通過改變雜質(zhì)擴散系數(shù)和雜質(zhì)對流速度系數(shù),數(shù)值求解所述雜質(zhì)輸運方程得到多個不同系數(shù)組對應的幅度和相位的空間分布數(shù)據(jù),具體包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量方法,其特征在于,所述雜質(zhì)輸運方程表示為:
8.一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量系統(tǒng),其特征在于,包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量系統(tǒng),其特征在于,所述信號獲取模塊包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運系數(shù)測量系統(tǒng),其特征在于,所述數(shù)值模擬模塊包括: