技術(shù)編號(hào):40407391
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)涉及核聚變等離子體物理分析,具體涉及一種高溫等離子體中雜質(zhì)輸運(yùn)系數(shù)測量方法和系統(tǒng)。背景技術(shù)、在磁約束核聚變裝置上,等離子體的基本成分是氫及其同位素氘和氚,其它成分均定義為雜質(zhì)。托卡馬克等離子體中,雜質(zhì)的主要來源是面向等離子體材料(plasmafacing?material,pfm)和真空室氣壁。等離子體與面向等離子體材料相互作用,包括濺射、起泡、起弧、熱沖擊等物理化學(xué)過程,這是重雜質(zhì)的主要來源。真空室器壁吸附有大量分子或原子,通過低能解吸過程如熱解吸、粒子轟擊以及化學(xué)反應(yīng)等過程進(jìn)入等離子...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。