背景技術(shù)：

1、成像系統(tǒng)可以包括輻射源和輻射檢測(cè)器。輻射源可以朝向位于輻射源與輻射檢測(cè)器之間的物體發(fā)送輻射束；并且，輻射檢測(cè)器可以基于輻射束與物體之間的交互作用來(lái)拍攝物體的圖像。成像系統(tǒng)可以在時(shí)間延遲積分(tdi：time?delay?integration)模式下運(yùn)行，以生成具有改善的信噪比和降低的運(yùn)動(dòng)模糊的物體圖像。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本文公開(kāi)了一種輻射檢測(cè)器，該輻射檢測(cè)器包括第一傳感元件和第二傳感元件。輻射檢測(cè)器配置為(a)確定在第一曝光的期間入射到第一傳感元件上的輻射粒子的第一計(jì)數(shù)，并且(b)將第一計(jì)數(shù)與第一結(jié)余數(shù)(carry?forward?number)求和，從而得到第二結(jié)余數(shù)，其中，第一結(jié)余數(shù)與入射到不同于第一和第二傳感元件的傳感元件上的輻射粒子的計(jì)數(shù)相關(guān)。輻射檢測(cè)器配置為(a)確定在第一曝光之后的第二曝光的期間入射到第二傳感元件上的輻射粒子的第二計(jì)數(shù)，并且(b)將第二計(jì)數(shù)與第二結(jié)余數(shù)求和，從而得到第三結(jié)余數(shù)。

2、在一方面，輻射檢測(cè)器還包括第三傳感元件。輻射檢測(cè)器配置為(a)確定在第二曝光之后的第三曝光的期間入射到第三傳感元件上的輻射粒子的第三計(jì)數(shù)，并且(b)將第三計(jì)數(shù)與第三結(jié)余數(shù)求和，從而得到第四結(jié)余數(shù)。

3、在一方面，輻射檢測(cè)器包括第一計(jì)數(shù)器，該第一計(jì)數(shù)器配置為(a)確定第一計(jì)數(shù)，并且(b)將第一計(jì)數(shù)與第一結(jié)余數(shù)求和。輻射檢測(cè)器包括第二計(jì)數(shù)器，該第二計(jì)數(shù)器配置為(a)確定第二計(jì)數(shù)，并且(b)將第二計(jì)數(shù)與第二結(jié)余數(shù)求和。

4、在一方面，輻射檢測(cè)器配置為將第二結(jié)余數(shù)從第一計(jì)數(shù)器傳輸?shù)降诙?jì)數(shù)器。

5、在一方面，輻射檢測(cè)器包括第一計(jì)數(shù)器和第一寄存器。第一計(jì)數(shù)器配置為確定第一計(jì)數(shù)。第一寄存器配置為將第一計(jì)數(shù)與第一結(jié)余數(shù)求和。輻射檢測(cè)器包括第二計(jì)數(shù)器和第二寄存器。第二計(jì)數(shù)器配置為確定第二計(jì)數(shù)。第二寄存器配置為將第二計(jì)數(shù)與第二結(jié)余數(shù)求和。

6、在一方面，輻射檢測(cè)器配置為將第二結(jié)余數(shù)從第一寄存器傳輸?shù)降诙拇嫫鳌?/p>

7、在一方面，輻射檢測(cè)器包括數(shù)字處理器，該數(shù)字處理器包括計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)器。第一寄存器和第二寄存器被實(shí)現(xiàn)在計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)器中。

8、在一方面，輻射檢測(cè)器配置為拍攝物體的圖像。圖像的圖元(picture?element)的值等于第三結(jié)余數(shù)。

9、在一方面，輻射粒子是x射線。

10、在一方面，輻射檢測(cè)器包括：輻射吸收層，包括電極；第一電壓比較器，配置為將電極的電壓與第一閾值進(jìn)行比較；第二電壓比較器，配置為將電壓與第二閾值進(jìn)行比較；計(jì)數(shù)器，配置為記錄輻射吸收層吸收的光子的數(shù)目；以及控制器?？刂破髋渲脼閺脑诘谝浑妷罕容^器確定電壓的絕對(duì)值等于或超過(guò)第一閾值的絕對(duì)值的時(shí)間起，啟動(dòng)時(shí)間延遲?？刂破髋渲脼樵跁r(shí)間延遲的期間啟用第二電壓比較器?？刂破髋渲脼槿绻诙妷罕容^器確定電壓的絕對(duì)值等于或超過(guò)第二閾值的絕對(duì)值，則使計(jì)數(shù)器記錄的數(shù)目增加一。

11、系統(tǒng)可以包括上述輻射檢測(cè)器、輻射源和框架。輻射源配置為朝向物體發(fā)送輻射束?？蚣芘渲脼閲@軸線旋轉(zhuǎn)。輻射檢測(cè)器固定到框架。輻射檢測(cè)器配置為基于輻射束與物體之間的交互作用來(lái)拍攝物體的圖像。在一方面，系統(tǒng)還可以包括輻射源靶，該輻射源靶固定到框架，并且配置為接收電子束，從而發(fā)射輻射束。

12、一種使用該系統(tǒng)的方法包括：利用輻射檢測(cè)器拍攝物體的第一圖像，其中，(a)框架圍繞物體并圍繞軸線旋轉(zhuǎn)，并且(b)輻射源相對(duì)于物體保持靜止在第一源位置。拍攝第一圖像包括(a)在曝光的期間，利用輻射源朝向物體發(fā)送輻射粒子脈沖，(b)利用輻射檢測(cè)器確定在曝光的期間入射到第一傳感元件上的輻射粒子的計(jì)數(shù)，(c)利用輻射檢測(cè)器將計(jì)數(shù)與結(jié)余數(shù)求和，從而得到另一結(jié)余數(shù)，(d)在曝光之后的另一曝光的期間，利用輻射源朝向物體發(fā)送另一輻射粒子脈沖，(e)利用輻射檢測(cè)器確定在另一曝光的期間入射到第二傳感元件上的輻射粒子的另一計(jì)數(shù)，并且(f)利用輻射檢測(cè)器將另一計(jì)數(shù)與另一結(jié)余數(shù)求和；并且，在拍攝第一圖像之后，利用輻射檢測(cè)器拍攝物體的第二圖像，其中，(a)框架圍繞物體并圍繞軸線旋轉(zhuǎn)，并且(b)輻射源相對(duì)于物體保持靜止在第二源位置。拍攝第二圖像包括(a)在曝光的期間，利用輻射源朝向物體發(fā)送輻射粒子脈沖，(b)利用輻射檢測(cè)器確定在曝光的期間入射到第一傳感元件上的輻射粒子的計(jì)數(shù)，(c)利用輻射檢測(cè)器將計(jì)數(shù)與結(jié)余數(shù)求和，從而得到另一結(jié)余數(shù)，(d)在曝光之后的另一曝光的期間，利用輻射源朝向物體發(fā)送另一輻射粒子脈沖，(e)利用輻射檢測(cè)器確定在另一曝光的期間入射到第二傳感元件上的輻射粒子的另一計(jì)數(shù)，并且(f)利用輻射檢測(cè)器將另一計(jì)數(shù)與另一結(jié)余數(shù)求和。第一源位置不同于第二源位置。該方法還可以包括至少基于第一圖像和第二圖像來(lái)重建物體的三維圖像。

13、在一方面，輻射源(a)在拍攝第一圖像的期間，從點(diǎn)x經(jīng)過(guò)中間的一系列點(diǎn)變動(dòng)到點(diǎn)y，(b)在拍攝第一圖像之后且在拍攝第二圖像之前，從點(diǎn)y變動(dòng)返回到點(diǎn)x，并且(c)在第二圖像的拍攝的期間從點(diǎn)x經(jīng)過(guò)中間的一系列點(diǎn)變動(dòng)到點(diǎn)y。點(diǎn)x和點(diǎn)y都是相對(duì)于框架的。

14、在一方面，通過(guò)將電子束引導(dǎo)到輻射源靶上的靶點(diǎn)來(lái)實(shí)現(xiàn)輻射源發(fā)送輻射束，從而從靶點(diǎn)生成輻射束。使輻射源變動(dòng)包括移動(dòng)靶點(diǎn)。

15、系統(tǒng)可以包括上述輻射檢測(cè)器和輻射源，該輻射源配置為朝向膜發(fā)送輻射束。輻射檢測(cè)器配置為基于輻射束與膜之間的交互作用來(lái)拍攝膜的圖像。在一方面，系統(tǒng)還可以包括輻射源靶，該輻射源靶配置為接收電子束，從而發(fā)射輻射束。

16、一種使用上述系統(tǒng)的方法包括利用輻射檢測(cè)器拍攝膜的圖像，其中，輻射源和膜(a)都相對(duì)于輻射檢測(cè)器線性地平移，并且(b)相對(duì)彼此保持靜止。拍攝圖像包括(a)在第一曝光的期間，利用輻射源朝向膜發(fā)送第一輻射粒子脈沖，(b)利用輻射檢測(cè)器確定在第一曝光的期間入射到第一傳感元件上的輻射粒子的第一計(jì)數(shù)，(c)利用輻射檢測(cè)器將第一計(jì)數(shù)與第一結(jié)余數(shù)求和，從而得到第二結(jié)余數(shù)，(d)在第一曝光之后的第二曝光的期間，利用輻射源朝向膜發(fā)送第二輻射粒子脈沖，(e)利用輻射檢測(cè)器確定在第二曝光的期間入射到第二傳感元件上的輻射粒子的第二計(jì)數(shù)，并且(f)利用輻射檢測(cè)器將第二計(jì)數(shù)與第二結(jié)余數(shù)求和。

17、膜可以包括陽(yáng)極層、電解質(zhì)層和陰極層，其中，電解質(zhì)層夾在陽(yáng)極層與陰極層之間。

技術(shù)特征：

1.一種輻射檢測(cè)器，包括第一傳感元件和第二傳感元件，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器，還包括第三傳感元件，其中，所述輻射檢測(cè)器配置為(a)確定在所述第二曝光之后的第三曝光的期間入射到所述第三傳感元件上的輻射粒子的第三計(jì)數(shù)，并且(b)將所述第三計(jì)數(shù)與所述第三結(jié)余數(shù)求和，從而得到第四結(jié)余數(shù)。

3.一種系統(tǒng)，包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器、輻射源和框架，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，還包括輻射源靶，所述輻射源靶固定到所述框架，并配置為接收電子束，從而發(fā)射所述輻射束。

5.一種系統(tǒng)，包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器和配置為朝向膜發(fā)送輻射束的輻射源，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，還包括輻射源靶，所述輻射源靶配置為接收電子束，從而發(fā)射所述輻射束。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的輻射檢測(cè)器，其中，所述輻射檢測(cè)器配置為將所述第二結(jié)余數(shù)從所述第一計(jì)數(shù)器傳輸?shù)剿龅诙?jì)數(shù)器。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器，

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的輻射檢測(cè)器，其中，所述輻射檢測(cè)器配置為將所述第二結(jié)余數(shù)從所述第一寄存器傳輸?shù)剿龅诙拇嫫鳌?/p>

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的輻射檢測(cè)器，

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器，

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器，其中，所述輻射粒子是x射線。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢測(cè)器，其中，所述輻射檢測(cè)器包括：

15.一種使用根據(jù)權(quán)利要求3-4中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)的方法，所述方法包括：

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，還包括至少基于所述第一圖像和所述第二圖像來(lái)重建所述物體的三維圖像。

17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述輻射源

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，

19.一種使用根據(jù)權(quán)利要求5-6中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)的方法，所述方法包括利用所述輻射檢測(cè)器拍攝所述膜的圖像，其中，所述輻射源和所述膜(a)都相對(duì)于所述輻射檢測(cè)器線性地平移，并且(b)相對(duì)于彼此保持靜止，其中，所述拍攝所述圖像包括：(a)在所述第一曝光的期間，利用所述輻射源朝向所述膜發(fā)送第一輻射粒子脈沖，(b)利用所述輻射檢測(cè)器確定在所述第一曝光的期間入射到所述第一傳感元件上的輻射粒子的所述第一計(jì)數(shù)，(c)利用所述輻射檢測(cè)器將所述第一計(jì)數(shù)與所述第一結(jié)余數(shù)求和，從而得到所述第二結(jié)余數(shù)，(d)在所述第一曝光之后的所述第二曝光的期間，利用所述輻射源朝向所述膜發(fā)送第二輻射粒子脈沖，(e)利用所述輻射檢測(cè)器確定在所述第二曝光的期間入射到所述第二傳感元件上的輻射粒子的所述第二計(jì)數(shù)，并且(f)利用所述輻射檢測(cè)器將所述第二計(jì)數(shù)與所述第二結(jié)余數(shù)求和。

20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述膜包括陽(yáng)極層、電解質(zhì)層和陰極層，其中，所述電解質(zhì)層夾在所述陽(yáng)極層與所述陰極層之間。

技術(shù)總結(jié)
輻射檢測(cè)器(100)包括第一傳感元件(150.1)和第二傳感元件(150.2)。所述輻射檢測(cè)器(100)配置為(A)確定在第一曝光的期間(E1)入射到所述第一傳感元件(150.1)上的輻射粒子的第一計(jì)數(shù)(N1)，并且(B)將所述第一計(jì)數(shù)(N1)與第一結(jié)余數(shù)(C1)求和，從而得到第二結(jié)余數(shù)(C2)，其中，所述第一結(jié)余數(shù)(C1)與入射到不同于所述第一、第二傳感元件(150.1、150.2)的傳感元件(150.0)上的輻射粒子的計(jì)數(shù)(N0)相關(guān)。所述輻射檢測(cè)器(100)配置為(A)確定在所述第一曝光(E1)之后的第二曝光(E2)的期間入射到所述第二傳感元件(150.2)上的輻射粒子的第二計(jì)數(shù)(N2)，并且(B)將所述第二計(jì)數(shù)(N2)與所述第二結(jié)余數(shù)(C2)求和，從而得到第三結(jié)余數(shù)(C3)。

技術(shù)研發(fā)人員：劉雨潤(rùn),程華斌,李欣,張甲
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳幀觀德芯科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19