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一種耦合間隙檢驗(yàn)裝置的制作方法

文檔序號(hào):40383054發(fā)布日期:2024-12-20 12:05閱讀:5來源:國知局
一種耦合間隙檢驗(yàn)裝置的制作方法

本申請涉及熱處理,尤其涉及一種耦合間隙檢驗(yàn)裝置。


背景技術(shù):

1、表面感應(yīng)淬火大量應(yīng)用于曲軸、凸輪、風(fēng)電軸承、盾構(gòu)機(jī)軸承等零件的制造。感應(yīng)淬火前,會(huì)根據(jù)工藝參數(shù)進(jìn)行感應(yīng)器與工件的耦合間隙大小確定,稱為對刀。

2、感應(yīng)器與工件的耦合間隙是整個(gè)感應(yīng)淬火過程中最重要的參數(shù)。批量加工零件時(shí),耦合間隙的一致性是工藝和質(zhì)量穩(wěn)定性的保證。在一些工廠中還在使用老式機(jī)床進(jìn)行作業(yè),老式機(jī)床沒有數(shù)控系統(tǒng),需要操作人員人工控制耦合間隙,通常,操作人員在對刀時(shí)通過塞尺丈量或者肉眼觀察間隙。

3、塞尺一般只有毫米級(jí)的精度且塞尺在使用過程中容易彎曲,相鄰塞尺之間具有間隙,使得測量結(jié)果不精確,肉眼觀察則更不準(zhǔn)確,導(dǎo)致每次加工的耦合間隙大小不一致,進(jìn)而影響表面淬火的質(zhì)量。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請?zhí)峁┮环N耦合間隙檢驗(yàn)裝置,用以解決工件每次表面感應(yīng)淬火的耦合間隙大小不一致,而影響表面淬火質(zhì)量的問題。

2、本申請?zhí)峁┮环N耦合間隙檢驗(yàn)裝置,包括基體,所述基體上設(shè)置有多個(gè)檢測平面,所述檢測平面與所述基體的底面平行,所述檢測平面到所述基體底面之間的距離均不相同,所述基體上設(shè)置有標(biāo)識(shí),所述標(biāo)識(shí)用于標(biāo)記所述檢測平面到所述基體底面之間的距離信息。

3、在一些實(shí)施例中,所述檢測平面與所述基體底面的距離依次遞增。

4、在一些實(shí)施例中,所述基體中部的所述檢測平面到所述基體底面的距離最大,所述基體中部的所述檢測平面與所述基體底面的距離朝向基體的兩側(cè)依次遞減。

5、在一些實(shí)施例中,相鄰所述檢測平面之間的間距大于等于0.08mm且小于等于0.22mm。

6、在一些實(shí)施例中,所述檢測平面到所述基體底面的最小距離大于等于1.8mm且小于等于2.2mm。

7、在一些實(shí)施例中,所述檢測平面的寬度大于或等于20mm。

8、在一些實(shí)施例中,所述標(biāo)識(shí)與所述檢測平面一一對應(yīng)設(shè)置。

9、在一些實(shí)施例中,所述標(biāo)識(shí)為可識(shí)的標(biāo)識(shí)字。

10、在一些實(shí)施例中,所述標(biāo)識(shí)設(shè)置在所述基體的側(cè)壁上。

11、在一些實(shí)施例中,所述基體為塑料件。

12、本申請?zhí)峁┑囊环N耦合間隙檢驗(yàn)裝置,通過基體上設(shè)置的檢測平面,即可快速的檢測對刀的耦合間隙,提高對刀精度,以保證每次加工耦合間隙的一致性,提高工件表面感應(yīng)淬火質(zhì)量的穩(wěn)定性;同時(shí)通過標(biāo)識(shí)快速讀取對刀時(shí)工件與表面感應(yīng)淬火的感應(yīng)器之間的耦合間隙,減少計(jì)算時(shí)間,提高效率;并且基體為塑料件,具有良好的絕緣性,不會(huì)造成表面感應(yīng)淬火的感應(yīng)器接地,制造簡單,使用方便。



技術(shù)特征:

1.一種耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,包括基體,所述基體上設(shè)置有多個(gè)檢測平面,所述檢測平面與所述基體的底面平行,所述檢測平面到所述基體底面之間的距離均不相同,所述基體上設(shè)置有標(biāo)識(shí),所述標(biāo)識(shí)用于標(biāo)記所述檢測平面到所述基體底面之間的距離信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述檢測平面與所述基體底面的距離依次遞增。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述基體中部的所述檢測平面到所述基體底面的距離最大,所述基體中部的所述檢測平面與所述基體底面的距離朝向基體的兩側(cè)依次遞減。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,相鄰所述檢測平面之間的間距大于等于0.08mm且小于等于0.22mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述檢測平面到所述基體底面的最小距離大于等于1.8mm且小于等于2.2mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述檢測平面的寬度大于或等于20mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述標(biāo)識(shí)與所述檢測平面一一對應(yīng)設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述標(biāo)識(shí)為可識(shí)的標(biāo)識(shí)字。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述標(biāo)識(shí)設(shè)置在所述基體的側(cè)壁上。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,其特征在于,所述基體為塑料件。


技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┮环N耦合間隙檢驗(yàn)裝置,包括基體,基體上設(shè)置有多個(gè)檢測平面,檢測平面與基體的底面平行,檢測平面到基體底面之間的距離均不相同,基體上設(shè)置有標(biāo)識(shí),標(biāo)識(shí)用于標(biāo)記檢測平面到基體底面之間的距離信息。本申請的耦合間隙檢驗(yàn)裝置,提高了耦合檢測的檢測精度,進(jìn)一步的提高了表面的淬火質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員:軒書博,徐望榮,田開國,李婷,王幸
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國鐵建重工集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20231222
技術(shù)公布日:2024/12/19
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