1.一種加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，包括試驗(yàn)?zāi)＞?1)、設(shè)置在試驗(yàn)?zāi)＞?1)內(nèi)部的試塊(2)、電極(3)、電源(4)和電線(5)；其中：
試驗(yàn)?zāi)＞?1)包括四周設(shè)置的圍板(11)和中部設(shè)置的隔板(12)，通過圍板(11)和隔板(12)將試驗(yàn)?zāi)＞?1)分割為兩個(gè)相互獨(dú)立的溶液槽，試塊(2)的兩端分別置于兩個(gè)溶液槽內(nèi)；電極(3)設(shè)置有兩個(gè)，分別與試塊(2)的兩端固定，且兩個(gè)電極(3)分別通過電線(5)與電源(4)的正負(fù)極相連；電極(3)為導(dǎo)電材料，且電極(3)上設(shè)置有均勻排列的多個(gè)孔洞。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，試驗(yàn)?zāi)＞?1)兩端的內(nèi)側(cè)均設(shè)置有頂板(13)，頂板(13)和試塊(2)夾緊電極(3)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，試驗(yàn)?zāi)＞?1)兩端的底部均設(shè)置有托板(14)，試塊(2)的兩端分別放置在兩端的托板(14)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，電極(3)的材料為銅、鎳鈦合金或鈍化鐵片。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，電極(3)為厚度1.5～2.5mm的薄片。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，電線(5)兩端設(shè)置有與電極(3)和電源(4)連接的夾頭或環(huán)扣。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，電源(4)為可調(diào)節(jié)電壓6～54V、頻率0.2～1Hz的直流電源、交變電源或脈沖電源。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速碳硫硅鈣石型硫酸鹽腐蝕的裝置，其特征在于，試驗(yàn)?zāi)＞?1)的形狀根據(jù)試塊(2)的形狀進(jìn)行設(shè)置。