1.大厚度比復(fù)雜構(gòu)件透照設(shè)備，其特征在于，包括置于工作臺(tái)(1)上的工件(2)，工件(2)的一側(cè)布置有發(fā)射器(3)，發(fā)射器(3)的X射線發(fā)射端口(38)朝向工件(2)布置，工件(2)的另一側(cè)依次布置有低電壓管成像裝置(4)、中電壓管成像裝置(5)、高電壓管成像裝置(6)、信息提取器(12)和圖形展示裝置(13)，低電壓管成像裝置(4)、中電壓管成像裝置(5)和高電壓管成像裝置(6)均豎直布置，低電壓管成像裝置(4)與中電壓管成像裝置(5)之間留有第一間隙(7)，中電壓管成像裝置(5)與高電壓管成像裝置(6)之間留有第二間隙(8)，第一間隙(7)與第二間隙(8)寬度相同；
所述工件(2)分為上部結(jié)構(gòu)件(21)、置于上部結(jié)構(gòu)件(21)下方的中部結(jié)構(gòu)件(22)、置于中部結(jié)構(gòu)件(22)下方的下部結(jié)構(gòu)件(23)，上部結(jié)構(gòu)件(21)的厚度大于中部結(jié)構(gòu)件(22)的厚度，中部結(jié)構(gòu)件(22)的厚度大于下部結(jié)構(gòu)件(23)的厚度，下部結(jié)構(gòu)件(23)的底部固定在底座上，上部結(jié)構(gòu)件(21)、中部結(jié)構(gòu)件(22)與下部結(jié)構(gòu)件(23)呈階梯狀布置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大厚度比復(fù)雜構(gòu)件透照設(shè)備，其特征在于，所述發(fā)射器(3)包括置于殼體內(nèi)的電子加速單元(31)、安裝在所述電子加速單元(31)一端的電子發(fā)射單元(32)、安裝在所述電子加速單元(31)另一端的靶(33)，所述殼體內(nèi)還布置有電子漂移段(34)，電子漂移段(34)置于電子加速單元(31)與靶(33)之間，所述靶(33)置于屏蔽端頭(35)之間，屏蔽端頭(35)內(nèi)預(yù)留有發(fā)射通道(36)，靶(33)置于發(fā)射通道(36)的一端，發(fā)射通道(36)的另一端為發(fā)射端口(38)，所述發(fā)射通道(36)內(nèi)布置有準(zhǔn)直器(37)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大厚度比復(fù)雜構(gòu)件透照設(shè)備，其特征在于，所述靶(33)為平面結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大厚度比復(fù)雜構(gòu)件透照設(shè)備，其特征在于，所述靶(33)為球面結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大厚度比復(fù)雜構(gòu)件透照設(shè)備，其特征在于，所述靶(33)為屈折面結(jié)構(gòu)。