本發(fā)明涉及一種基體校正系數(shù)，特別是涉及一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法。
背景技術(shù)：
：基本參數(shù)法是一種利用樣品元素對(duì)激發(fā)射線和熒光射線的質(zhì)量吸收系數(shù)、元素的激發(fā)因子、儀器常數(shù)等基本參數(shù)和樣品的化學(xué)組成計(jì)算待測(cè)元素所發(fā)出特征x射線強(qiáng)度為基礎(chǔ)的xrf分析方法。待測(cè)元素所發(fā)出特征x射線強(qiáng)度與基本參數(shù)和樣品化學(xué)組成的關(guān)系用sherman方程表示。在sherman方程中，待測(cè)元素?zé)晒鈴?qiáng)度是其濃度的隱函數(shù)，即濃度不能直接用強(qiáng)度表示。sherman方程的簡(jiǎn)單表示式見(jiàn)式(1)式(1)中：ri——樣品中元素i的相對(duì)強(qiáng)度；pi——樣品中元素i受x光管激發(fā)產(chǎn)生的強(qiáng)度；sii——樣品中j元素的對(duì)i元素二次激發(fā)產(chǎn)生的強(qiáng)度；p(i)——純?cè)氐膇受x光管激發(fā)產(chǎn)生的強(qiáng)度。lachance和traill在采用單色激發(fā)和不考慮二次熒光的假設(shè)條件下，推導(dǎo)了待測(cè)元素所發(fā)出特征x射線強(qiáng)度與基本參數(shù)和樣品化學(xué)組成的關(guān)系式。即lachance-traill方程，具體表達(dá)式見(jiàn)式(2)：式(2)中：ci——樣品中元素i的濃度；cj——樣品中基體元素濃度；ri——樣品中元素i的相對(duì)強(qiáng)度；αi，j——樣品中j元素的對(duì)i元素基體影響系數(shù)。lachance-traill方程中，待測(cè)元素濃度與其強(qiáng)度的關(guān)系簡(jiǎn)單明了，首先是與其強(qiáng)度成正比，其次是與樣品中其它元素的濃度相關(guān)，且每個(gè)共存元素j對(duì)待測(cè)元素i的影響可用一個(gè)確定系數(shù)αi，j表示。稱為基體校正系數(shù)?；w校正系數(shù)可用基體元素j的質(zhì)量吸收系數(shù)μj和待測(cè)元素i的質(zhì)量吸收系數(shù)μi計(jì)算，且有：αi，j＝(μj-μi)/μi。即基體校正系數(shù)為共存元素與待測(cè)元素質(zhì)量吸收系數(shù)的相對(duì)偏差。在實(shí)際應(yīng)用中，首先激發(fā)光源不是單色的，另外待測(cè)元素存在二次熒光有時(shí)會(huì)很大，因此直接用αi，j＝(μj-μi)/μi公式計(jì)算基體校正系數(shù)，會(huì)給測(cè)定結(jié)果帶來(lái)較大的誤差。αi，j需要采用其它適宜的方法計(jì)算。對(duì)于任意樣品，只要化學(xué)組成確定，即式(2)中的ci和各個(gè)cj已知，則可用式(1)計(jì)算求得ri，此時(shí)式(2)為αi，j未知的多元方程，通過(guò)改變樣品的化學(xué)組成，可列出與系數(shù)相等的多個(gè)方程，組成方程組，解多元一次方程組可求出αi，j。此為計(jì)算基體校正系數(shù)的基本思路。若采用多色激發(fā)，當(dāng)樣品化學(xué)組成改變時(shí)，αi，j值并非常數(shù)，因此隨意設(shè)計(jì)樣品的化學(xué)組成的方程組并不能求出準(zhǔn)確的αi，j值，設(shè)計(jì)合理的樣品化學(xué)組成是準(zhǔn)確計(jì)算αi，j值的關(guān)鍵技術(shù)所在。dejongh設(shè)計(jì)了由n個(gè)元素組成，待分析元素為i的樣品的n個(gè)化學(xué)組成，第一號(hào)樣品為(c1，c2，......，cn)，第二號(hào)樣品的化學(xué)組成中元素2的含量為c2+0.1，其它元素的含量均與第一個(gè)樣品相同；第n號(hào)樣品的元素n的含量為cn+0.1其它元素的含量均與第一個(gè)樣品相同。dejongh認(rèn)為第n個(gè)樣品強(qiáng)度的變化是由于n元素變化了0.1％引起的，并以此為基礎(chǔ)推導(dǎo)出了計(jì)算αi，j的近似公式。dejongh設(shè)計(jì)的n個(gè)樣品中，各個(gè)樣品之間化學(xué)組成差異很小，但后n-1個(gè)樣品的總和比第一個(gè)樣品高0.1，相當(dāng)于樣品的全部元素k(包括待測(cè)元素i，但k≠j)的含量均由ck變化為ck’＝100*ck/(100+0.1)，k號(hào)樣品中待測(cè)元素強(qiáng)度的變化是由k元素的含量增加了0.1％和待測(cè)元素即其它共存元素減小共同作用的結(jié)果，從而使計(jì)算結(jié)果產(chǎn)生誤差或偏差。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的主要目的在于，提供一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是，使其計(jì)算結(jié)果更加準(zhǔn)確可靠，從而更加適于實(shí)用。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，包括，根據(jù)待測(cè)物品的化學(xué)成分及各成分的質(zhì)量百分含量，設(shè)計(jì)一系列設(shè)計(jì)樣品的化學(xué)成分及各成分的質(zhì)量百分含量，所述的待測(cè)物品至少包含待測(cè)成分i、和輔助成分k；利用sherman方程，計(jì)算待測(cè)成分i在待測(cè)物品中的x射線熒光強(qiáng)度ri和待測(cè)成分i在設(shè)計(jì)樣品中的x射線熒光強(qiáng)度ri′，所述的x射線熒光強(qiáng)度包括初級(jí)熒光強(qiáng)度和二級(jí)熒光強(qiáng)度；根據(jù)所述的r和r′，計(jì)算輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)αik，所述的設(shè)計(jì)樣品各成分的質(zhì)量百分含量總和等于所述的待測(cè)物品各成分的質(zhì)量百分含量總和。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。優(yōu)選的，前述的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，所述的待測(cè)物品由n個(gè)成分組成，所述的待測(cè)物品中各成分的質(zhì)量百分含量分別為c1，c2，...，ck，...，ci，...，cn，其中，ci為待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量，ck為輔助成分k的質(zhì)量百分含量，所述的設(shè)計(jì)樣品的總數(shù)量為n-1個(gè)，即所述的設(shè)計(jì)樣品包括第一樣品、第二樣品、...、第k樣品、...、第n-1樣品，所述的第一樣品、第二樣品、...、第k樣品、...、第n-1樣品的成分及各成分的質(zhì)量百分含量分別為，第一樣品：c1+δc，c2，...，ck，...，ci-δc，...，cn，第二樣品：c1，c2+δc，...，ck，...，ci-δc，...，cn，第k樣品：c1，c2，...，ck+δc，...，ci-δc，...，cn，第n-1樣品：c1，c2，...ci-δc，...，cn+δc，需要說(shuō)明的是第i樣品的各成分與各成分的質(zhì)量百分含量與所述的待測(cè)物品中的各成分與各成分的質(zhì)量百分含量相同，因此，無(wú)需進(jìn)行進(jìn)一步設(shè)計(jì)，可直接沿用待測(cè)物品中的各成分與各成分的質(zhì)量百分含量，因此，需設(shè)計(jì)的樣品的數(shù)量為n-1個(gè)。所述的第一樣品、第二樣品、...、第k樣品、...、第n-1樣品的各成分的質(zhì)量百分含量總和等于所述的待測(cè)物品各成分的質(zhì)量百分含量總和，所述的δc為待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量的設(shè)計(jì)變化量。則，根據(jù)第一公式計(jì)算輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)αik，所述的第一公式為：αik＝((ci-δc)/r′i-ci/ri)/δc所述的第一公式中：cj-待測(cè)物品中待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量；δc-待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量的設(shè)計(jì)變化量；ri-待測(cè)成分i在第i樣品中的x射線熒光強(qiáng)度；ri′-待測(cè)成分i在第k樣品中的x射線熒光強(qiáng)度；αik-輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)。優(yōu)選的，前述的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，其中所述的δc小于ci且δc小于0.1％。優(yōu)選的，前述的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，其中所述的待測(cè)物品為無(wú)機(jī)非金屬材料。優(yōu)選的，前述的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，其中所述的無(wú)機(jī)非金屬材料至少包括輔助氧化物jo和待測(cè)氧化物io，根據(jù)第二公式計(jì)算所述的輔助氧化物jo對(duì)所述的待測(cè)氧化物io的基體校正系數(shù)，所述的第二公式為：αio，jo＝(αi，j*(1-kj)+αio*(kj-ki))/(1+αio*ki)，第二公式中：ki-無(wú)機(jī)非金屬材料中待測(cè)氧化物io中的氧的質(zhì)量百分含量；kj-無(wú)機(jī)非金屬材料中輔助氧化物jo中的氧的質(zhì)量百分含量；αio-無(wú)機(jī)非金屬材料中氧元素對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)；αio，jo-無(wú)機(jī)非金屬材料中輔助氧化物jo對(duì)待測(cè)氧化物io的基體校正系數(shù)。優(yōu)選的，前述的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，其中所述的待測(cè)物品為無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片。優(yōu)選的，前述的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，其中所述的無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中，所述的無(wú)機(jī)非金屬材料至少包括輔助氧化物vo、待測(cè)氧化物wo和熔劑f，在熔劑f的影響下，根據(jù)所述的第三公式計(jì)算所述的輔助氧化物vo對(duì)所述的待測(cè)氧化物wo的基體校正系數(shù)，所述的第三公式為：αw，v，f＝αw，v*y/(1+αwf*(1-y))，所述的第三公式中：αw，v，f-在熔劑f的影響下，無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中，輔助氧化物vo對(duì)待測(cè)氧化物wo的基體校正系數(shù)；αw，v-無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中，輔助氧化物vo對(duì)待測(cè)氧化物wo的基體校正系數(shù)，根據(jù)所述的第二公式計(jì)算所述的αw，v；αwf-無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中，熔劑f對(duì)待測(cè)氧化物wo的基體校正系數(shù)；y-無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中，無(wú)機(jī)非金屬材料的質(zhì)量百分含量；1-y-無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中，熔劑f的質(zhì)量百分含量。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明提供的一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，至少具有下列優(yōu)點(diǎn)：1、本發(fā)明提供了一種xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，計(jì)算結(jié)果更加準(zhǔn)確、可靠。本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法中，各個(gè)設(shè)計(jì)樣品的各成分的質(zhì)量百分含量總和均相同，且均等于待測(cè)物品的各成分的質(zhì)量百分含量總和，減少了計(jì)算的偏差和誤差，使得計(jì)算結(jié)果更加準(zhǔn)確、可信。2、本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，可進(jìn)一步適用于無(wú)機(jī)非金屬材料和無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片。無(wú)機(jī)非金屬材料，通常由氧化物組成，本發(fā)明根據(jù)無(wú)機(jī)非金屬材料的化學(xué)組成上的特點(diǎn)，進(jìn)一步提供了適用于計(jì)算氧化物間的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法。無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片，通常由氧化物和熔劑組成，本發(fā)明進(jìn)一步提供了在熔劑的影響下，無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中，氧化物間的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法?？梢?jiàn)，本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，將xrf分析的基體校正系數(shù)的影響因素，如樣品與待測(cè)物品的質(zhì)量偏差、無(wú)機(jī)非金屬材料中成分的存在形式、無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片中熔劑對(duì)基體校正系數(shù)的影響，通過(guò)樣品的設(shè)計(jì)和計(jì)算方法，將上述影響因素均予以考慮，使得到的基體校正系數(shù)更加準(zhǔn)確、可信。上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明如后。具體實(shí)施方式為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，其具體實(shí)施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。在下述說(shuō)明中，不同的“一實(shí)施例”或“實(shí)施例”指的不一定是同一實(shí)施例。此外，一或多個(gè)實(shí)施例中的特定特征、結(jié)構(gòu)或特點(diǎn)可由任何合適形式組合。本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，所設(shè)計(jì)的各個(gè)設(shè)計(jì)樣品的各成分的質(zhì)量百分含量總和均相同，且均等于待測(cè)物品的各成分的質(zhì)量百分含量總和，避免了由于設(shè)計(jì)樣品與待測(cè)物品間的各成分的質(zhì)量百分含量總和差別使得計(jì)算結(jié)果產(chǎn)生偏差的缺點(diǎn)，使得到的基體校正系數(shù)更加準(zhǔn)確。需要說(shuō)明的是，此處的“化學(xué)成分”，既包含化學(xué)元素，如金屬元素鋁、鎂、錳等，也包含氧化物，如氧化鎂、氧化鋁、二氧化硅、氧化鈣、氧化鐵等。進(jìn)一步的，本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法中，所述的待測(cè)物品由n個(gè)化學(xué)元素組成，所述的待測(cè)物品中各化學(xué)元素的質(zhì)量百分含量分別為c1，c2，...，ck，...，ci，...，cn，其中，ci為待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量，ck為輔助成分k的質(zhì)量百分含量，所述的樣品的總數(shù)量為n-1個(gè)，即所述的樣品包括第一樣品、第二樣品、...、第k樣品、...、第n-1樣品，所述的第一樣品、第二樣品、...、第k樣品、...、第n-1樣品的化學(xué)成分及各成分的質(zhì)量百分含量分別為，第一樣品：c1+δc，c2，...，ck，...，ci-δc，...，cn，第二樣品：c1，c2+δc，...，ck，...，ci-δc，...，cn，第k樣品：c1，c2，...，ck+δc，...，ci-δc，...，cn，第n-1樣品：c1，c2，...ci-δc，...，cn+δc，所述的第一樣品、第二樣品、...、第k樣品、...、第n-1樣品的各成分的質(zhì)量百分含量總和相同，所述的δc為待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量的設(shè)計(jì)變化量，則，根據(jù)第一公式計(jì)算輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)αik，所述的第一公式為：αik＝((ci-δc)/r′i-ci/ri)/δc所述的第一公式中：ci-待測(cè)物品中待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量；δc-待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量的設(shè)計(jì)變化量；ri-待測(cè)成分i在第i樣品中的x射線熒光強(qiáng)度；ri′-待測(cè)成分i在第k樣品中的x射線熒光強(qiáng)度；αik-輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)。可見(jiàn)，本發(fā)明進(jìn)一步提供了如何將所有樣品設(shè)計(jì)成與待測(cè)物品中成分質(zhì)量百分含量總和相等的設(shè)計(jì)方法。需要說(shuō)明的是，此處的“第一樣品、第二樣品、...、第k樣品、...、第n-1樣品”僅為標(biāo)記作用，并非做任何順序上的限定。進(jìn)一步的，本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法中，δc為待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量的設(shè)計(jì)變化量，通過(guò)增加或減少δc，使得各個(gè)樣品的組成趨于相同，且各個(gè)設(shè)計(jì)樣品的質(zhì)量分?jǐn)?shù)總和與待測(cè)物品的相同。進(jìn)一步的，采用本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，可分別計(jì)算待測(cè)物品中所有的非待測(cè)成分對(duì)待測(cè)成分的基體校正系數(shù)。進(jìn)一步的，發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法，不僅可適用于合金材料，還可適用于無(wú)機(jī)非金屬材料和無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片。下面，對(duì)本發(fā)明提供的xrf分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法做進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。此處需要說(shuō)明的是，前述的第一公式、第二公式、...、第三公式，與下面記載的式(1)、式(2)、...，并非一一對(duì)應(yīng)關(guān)系。1、設(shè)計(jì)待計(jì)算樣品的基本化學(xué)組成，可參考標(biāo)準(zhǔn)樣品化學(xué)組成或系列標(biāo)準(zhǔn)樣品平均化學(xué)組成，各元素質(zhì)量百分?jǐn)?shù)之和應(yīng)接近100％，設(shè)元素名用序數(shù)1，2，…，n標(biāo)識(shí)，序數(shù)為i的元素質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為ci，且有：∑ci＝100(i＝1，2，…，k…，n)。2、利用sherman方程計(jì)算基本化學(xué)組成和輔助化學(xué)組成樣品的強(qiáng)度，其中，計(jì)算初級(jí)熒光強(qiáng)度的sherman方程為：上述計(jì)算公式記載在《x射線熒光光譜的基本參數(shù)法》，卓尚軍，陶光儀，韓小元著，上?？茖W(xué)技術(shù)出版社，2011.11，第36頁(yè)。計(jì)算二次熒光強(qiáng)度按下式的sherman方程為：上述計(jì)算公式記載在《x射線熒光光譜的基本參數(shù)法》，卓尚軍，陶光儀，韓小元著，上?？茖W(xué)技術(shù)出版社，2011.11，第38頁(yè)。對(duì)樣品中i元素計(jì)算其它元素對(duì)它的基體校正系數(shù)，需要設(shè)計(jì)(n-1)個(gè)輔助化學(xué)組成，取δci＜ci且要求δci＜0.1，對(duì)于每一個(gè)輔助化學(xué)組成，待測(cè)元素i的濃度均為ci-δci，序號(hào)為k(k≠i)的輔助化學(xué)組成對(duì)應(yīng)的k序數(shù)元素濃度為(ck+δci)，其它元素濃度均與待測(cè)物品中相同，并對(duì)m(m＜n)種元素進(jìn)行測(cè)定，則需要m(n-1)個(gè)輔助化學(xué)組成。3、計(jì)算k對(duì)i的基體校正系數(shù)αik＝((ci-δc)/r′i-ci/ri)/δc4、對(duì)于無(wú)機(jī)非金屬材料的粉未壓片樣品，需要把元素間的基體校正系數(shù)轉(zhuǎn)換為氧化物間的基體校正系數(shù)，氧化物對(duì)氧化物的基體校正系數(shù)按下式計(jì)算：αio，jo＝(αi，j*(1-kj)+αio*(kj-ki))/(1+αio*ki)5、對(duì)于無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片樣品，利用式(5)(下述)計(jì)算的基體校正系數(shù)，只能用于計(jì)算玻璃熔片中待測(cè)元素的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)。若要將測(cè)得的玻璃熔片中待測(cè)元素強(qiáng)度用于通常的樣品中氧化成分量百分?jǐn)?shù)計(jì)算，需要對(duì)式(5)計(jì)算的基體校正系數(shù)進(jìn)行換算。換算過(guò)程一般可分為三個(gè)步驟，第一步是將熔片中元素間基體校正系數(shù)轉(zhuǎn)換為熔片中氧化物間的基體校正系數(shù)，第二步是將熔劑中氧化物對(duì)樣品氧化物的基體校正系數(shù)轉(zhuǎn)換為熔劑對(duì)樣品中各氧化物的基體校正系數(shù)；最后，再根據(jù)熔劑對(duì)樣品中各氧化物的基體校正系數(shù)和稀釋比，計(jì)算用樣品中元素含用其氧化物的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)表示時(shí)的基體校正系數(shù)。需要將氧化物間的基體校正系數(shù)換算為含熔劑影響的系數(shù)αi，j，f。在熔片中含有熔劑f為(1-y)的αi，j，f計(jì)算公式如下：αi，j，f＝αi，j*y/(1+αi，f*(1-y))對(duì)于金屬材料：本發(fā)明設(shè)計(jì)了由n個(gè)元素組成，待測(cè)元素為i樣品的n個(gè)化學(xué)組成：δc為一個(gè)很小的濃度值，第i號(hào)樣品化學(xué)組成為(c1，c2，...ci，...，cn)，第1號(hào)樣品化學(xué)組成為：元素1的含量為c1+δc，元素i的含量為ci-δc，其它元素的含量均與第i號(hào)樣品相同，即：(c1+δc，c2，...ci-δc，...，cn)。第2號(hào)樣品的化學(xué)組成中元素2的含量為c2+δc，元素i的含量為ci-δc，其它元素的含量均與第i號(hào)樣品相同；第n號(hào)樣品的元素n的含量為cn+δc，元素i的含量為ci-δc，其它元素的含量均與第i號(hào)樣品相同。本發(fā)明中各個(gè)樣品之間化學(xué)組成差異很小，且各樣品總和完全相同。對(duì)于第i號(hào)樣品有：對(duì)于第k號(hào)樣品有：或式(3)兩邊除以r，式(4)兩邊除以r’再相減后得：(ci-δc)/r′i-ci/ri＝αikδcαik＝((ci-δc)/r′i-ci/ri)/δc(5)由式(5)可知：利用第i號(hào)樣品計(jì)算的強(qiáng)度r和第k號(hào)樣品計(jì)算的強(qiáng)度r’值，即可計(jì)算元素k對(duì)元素i的基體校正系數(shù)αik。對(duì)于無(wú)機(jī)非金屬材料：無(wú)機(jī)非金屬材料，樣品中元素通常是以氧化物形式存在，樣品中元素的含量也是用其氧化物在樣品中的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)表示，此時(shí)基體校正系數(shù)αi，j也應(yīng)該轉(zhuǎn)換為的氧化物對(duì)的基體校正系數(shù)。設(shè)氧化物io和jo中的氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為ki和kj；對(duì)于純氧化物io，由式(3)得：(1-ki)＝r(io)*(1+αio*ki)(6)對(duì)于質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為cio和cjo(j≠i，j＝1，2，...，n)的混合物有：cio*(1-ki)＝ri(1+∑(αi，j*(1-kj)*cjo)+(ki*cio+∑kj*cjo))＝ri(1+∑(αi，j*(1-kj)*cjo)+αio*ki*cio+αio*∑kj*cjo)＝ri(1+∑(αi，j*(1-kj)*cjo)+αio*ki*(1-∑cjo)+αio*∑kj*cjo)＝ri(1+αio*ki+∑(αi，j*(1-kj)*cjo)-αio*ki*∑cjo+αio*∑kj*cjo)＝ri(1+αio*ki+∑(αi，j*(1-kj)*cjo))+∑(αio*kj*cjo-αio*ki*cjo)＝ri(1+αio*ki)(1+∑(αi，j*(1-kj)+αio*(kj-*ki))/(1+αio*ki)cjo)cio*(1-ki)＝ri(1+αio*ki)(1+∑(αi，j*(1-kj)+αio*(kj-*ki*))/(1+αio*ki)cjo)(7)式(7)與式(6)兩邊相除得cio＝(ri/r(io))*(1+∑(αi，j*(1-kj)*cjo+αio*cjo*(kj-ki))/(1+αio*ki))＝(ii/i(i))/(iio/i(i))*(1+(∑αi，j*(1-kj)+αio*(kj-ki))/(1+αio*ki)*cjo)＝ii/iio*(1+∑(αi，j*(1-kj)+αio*(kj-ki))/(1+αio*ki)*cjo)令：αio，jo＝(αi，j*(1-kj)+αio*(kj-ki))/(1+αio*ki)(8)rio＝ii/iio即rio為氧化物樣品中元素的強(qiáng)度與純氧化物中強(qiáng)度之比。則有：cio＝rio*(1+∑αio，jo*cjo)(9)式8計(jì)算得αio，jo即為輔助氧化物jo對(duì)待測(cè)氧化物io的基體校正系數(shù)。對(duì)于無(wú)機(jī)非金屬材料的熔片，例如玻璃熔片：玻璃熔片α系數(shù)(用熔劑熔融時(shí)的基體校正系數(shù))熔體包括樣品和熔劑，熔體中樣品的質(zhì)量百分含量為y，熔體中熔劑的質(zhì)量百分含量為1-y，wi為待測(cè)成分i在熔片中的質(zhì)量百分含量，ci為i在樣品中的質(zhì)量百分含量，必有：wi＝y(tǒng)*ci由式(9)可知：在熔體樣片中：wi＝ri*(1+∑α1，j*wj+αif*(1-y))y*ci＝ri*(1+∑αi，j*y*cj+αif*(1-y))＝ri*((1+αif*(1-y))+∑αi，j*y*cj)＝ri*(1+αif*(-y))*(1+∑αi，j*y/(1+αif*(-y))*cj)即：y*ci＝ri*(1+αif*(1-y))*(1+∑αi，j*y/(1+αif*(1-y))*cj)對(duì)于純i有：y＝r(if)*(1+αif*(1-y))上二式二邊相除得：ci＝(ri/r(if))*(1+∑αi，j*y/(1+αi，f*(1-y))*cj)令：rif＝(ri/r(if)(10)αi，j，f＝αi，j*y/(1+αif*(1-y))(11)得：ci＝ri，f*(1+∑αi，j，f*cj)(12)實(shí)施例1鋁鎂錳合金中元素間影響影響計(jì)算鋁鎂錳合金的鋁元素含量在95％以上，鎂元素含量為0.8％至1.2％，錳元素含量在1.0％至1.5％；另外含有硅鐵等雜質(zhì)。為計(jì)算方便，雜質(zhì)元素含量忽略，設(shè)定樣品中僅含有鋁、鎂和錳三種元素。1.1、對(duì)樣品中的三種元素編號(hào)及元素含量設(shè)計(jì)見(jiàn)表1。表1：基本化學(xué)組成樣品中元素編號(hào)及含量元素mgalmn編號(hào)123含量，％197.51.5強(qiáng)度ri0.01038314391.06392.13081.2、利用sherman方程計(jì)算基本化學(xué)組成和輔助化學(xué)組成樣品的強(qiáng)度，利用sherman方程計(jì)算樣品中元素強(qiáng)度時(shí)所用的基本參數(shù)見(jiàn)表2：表2：基本參數(shù)儀器常數(shù)1.15846光管電壓50kv光管鈹窗厚度75μm光管靶材銠靶出射角90°激發(fā)線強(qiáng)度分布pella-feng經(jīng)驗(yàn)公式法質(zhì)量吸收系數(shù)thinh-leroux法鎂激發(fā)因子0.0274鋁激發(fā)因子0.0364錳激發(fā)因子0.2503用sherman方程可以計(jì)算表1所示化學(xué)組成樣品中鎂、鋁和錳的強(qiáng)度，計(jì)算鎂的強(qiáng)度時(shí)需要考慮鋁和錳的二次激發(fā)，計(jì)算鋁的強(qiáng)度時(shí)僅需要考慮錳的二次激發(fā)，計(jì)算錳強(qiáng)度時(shí)沒(méi)有二次激發(fā)的影響。各元素的強(qiáng)度計(jì)算值見(jiàn)表1中的ri行。本樣品中3個(gè)元素均為可測(cè)元素，對(duì)于每個(gè)待測(cè)元素需要設(shè)計(jì)2個(gè)輔助樣品進(jìn)行基體校正系數(shù)計(jì)算，3個(gè)待測(cè)元素需要6個(gè)輔助樣品。每個(gè)待測(cè)元素的δci值均設(shè)定為0.1％，6個(gè)輔助樣品的化學(xué)組成見(jiàn)表3。用sherman方程計(jì)算的6個(gè)輔助樣品強(qiáng)度值列于表3的ri’中。表3：輔助樣品的濃度與強(qiáng)度(％)1.3、計(jì)算元素j對(duì)i的基體校正系數(shù)在本實(shí)施例中，式(5)可改寫為式(13)：αij＝((ci-δci)/r′i-ci/ri)/δci(i＝1，2，3；j＝1，2，3且j≠i)(13)將表1和表3中的相關(guān)數(shù)值代入式(13)可計(jì)算元素k對(duì)i的基體校正系數(shù)αi，j；α1，2＝((c1-δc1)/r1’-c1/r1)/δc1＝((1.00-0.10)/0.9362-1.00/1.0383)/0.10＝-1.74α1，3＝((c1-δc1)/r1’-c1/r1)/δc1＝((1.00-0.10)/0.9316-1.00/1.0383)/0.10＝0.0297α2，1＝((c2-δc2)/r2’-c2/r2)/δc2＝((97.50-0.10)/90.685-97.50/91.0639)/0.10＝0.0337α2，3＝((c2-δc2)/r2’-c2/r2)/δc2＝((97.50-0.10)/90.768-97.50/91.0639)/0.10＝0.0239α3，1＝((c3-δc3)/r3’-c3/r3)/δc3＝((1.50-0.10)/1.9903-1.50/2.1308)/0.10＝-0.0055α3，2＝((c3-δc3)/r3’-c3/r3)/δc3＝((1.50-0.10)/1.9900-1.50/2.1308)/0.10＝-0.0044實(shí)施例2水泥熟料粉末壓片時(shí)的基體校正系數(shù)計(jì)算水泥熟料的化學(xué)組成主要為二氧化硅、三氧化二鋁、三氧化二鐵、氧化鈣和氧化鎂，另外還存在鉀鈉硫鈦等雜質(zhì)元素或其氧化物，為簡(jiǎn)化計(jì)算，本實(shí)例忽略這些雜質(zhì)元素。2.1、對(duì)樣品中的六種元素編號(hào)及元素含量設(shè)計(jì)見(jiàn)表4。表4：基本樣品元素編號(hào)及化學(xué)組成2.2、利用sherman方程計(jì)算基本化學(xué)組成和輔助化學(xué)組成樣品的強(qiáng)度。利用sherman方程計(jì)算樣品中元素強(qiáng)度時(shí)所用的基本參數(shù)見(jiàn)表5：表5：基本參數(shù)儀器常數(shù)1.15846光管電壓50kv光管鈹窗厚度75μm光管靶材銠靶出射角90°激發(fā)線強(qiáng)度分布pella-feng經(jīng)驗(yàn)公式法質(zhì)量吸收系數(shù)thinh-leroux法鎂激發(fā)因子0.0274鋁激發(fā)因子0.0364硅激發(fā)因子0.0499鈣激發(fā)因子0.1692鐵激發(fā)因子0.2804用sherman方程可以計(jì)算表4所示化學(xué)組成樣品中鎂、鋁、硅、鈣和鐵的強(qiáng)度，計(jì)算低原子序數(shù)元素強(qiáng)度時(shí)考慮全部共存高原子序數(shù)元素二次激發(fā)，各元素的強(qiáng)度計(jì)算值見(jiàn)表4的ri行。本樣品中6個(gè)元素，其中5個(gè)元素可測(cè)，不測(cè)定氧元素的強(qiáng)度。每個(gè)待測(cè)元素需要設(shè)計(jì)5個(gè)輔助樣品進(jìn)行基體校正系數(shù)計(jì)算，5個(gè)待測(cè)元素需要25個(gè)輔助樣品。計(jì)算同一個(gè)待測(cè)元素的δci值相同，其值為相當(dāng)于其氧化物表示的含量0.1％，5個(gè)元素的δci值及25個(gè)輔助樣品的化學(xué)組成見(jiàn)表6。用sherman方程計(jì)算的25個(gè)輔助樣品強(qiáng)度值列于表6的ri’中。表6：輔助樣品的濃度與強(qiáng)度(％)2.3、計(jì)算j對(duì)i的基體校正系數(shù)按照定義，當(dāng)j＝i時(shí)，系數(shù)為0，即αi，i＝0。由于不對(duì)氧元素測(cè)定，故無(wú)需計(jì)算α1，j。本實(shí)例中，j對(duì)i的基體校正系數(shù)的計(jì)算公式為式(5)，可改寫為式(14)即：αi，j＝((ci-δci)/ri’-ci/ri)/δci(i＝2，3，4，5，6；j＝1，2，3，4，5，6且j≠i)(14)式中的ci和ri為表4中元素i的濃度和強(qiáng)度；δci見(jiàn)表6中的δci列；ri’在表6中有5個(gè)值，計(jì)算αi，j時(shí)所用的ri’值對(duì)應(yīng)的序號(hào)為：n＝(i-2)*5+j(i＜j)n＝(i-1)*5+j-1(i＜j)例如：計(jì)算α3，2時(shí)，ri’值對(duì)應(yīng)的序號(hào)為：(3-2)*5+2＝7；計(jì)算a2，3時(shí)，ri’值對(duì)應(yīng)的序號(hào)為：(2-2)*5+3-1＝2；計(jì)算α4，3時(shí)，ri’值對(duì)應(yīng)的序號(hào)為：(4-2)*5+3＝13；將表4和表6中的相關(guān)數(shù)值代入式(14)，即可計(jì)算j對(duì)i的基體校正系數(shù)，如：α2，1＝((c2-δc2)/r2’-c2/r2)/δc2＝((1.2062-0.0603)/0.4705-1.2062/0.4955)/0.0603＝0.01966…………α6，5＝((c6-δc6)/r6’-c6/r6)/δc6＝((2.7977-0.0699)/2.5071’-2.7977/2.5727)/0.0699＝0.00818由式(14)計(jì)算元素j對(duì)i的全部基體校正系數(shù)αi，k見(jiàn)表(7)。表7：元素間基體校正系數(shù)2.4、將元素間基體校正系數(shù)換算為相應(yīng)元素氧化物間的基體校正系數(shù)表7所列的基體校正系數(shù)要求樣品的濃度用元素的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)表示，而熟料中的化學(xué)成分通常以氧化物的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)表示。為將元素的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)與元素的強(qiáng)度之間的關(guān)系式轉(zhuǎn)化為對(duì)應(yīng)氧化物的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)與元素強(qiáng)度之間的關(guān)系式，需要將元素間的基體校正系數(shù)轉(zhuǎn)換為氧化物間的基體校正系數(shù)，氧化物對(duì)氧化物的α系數(shù)按式(8)計(jì)算：本實(shí)例中，式(8)可改寫為式(15)：αio，jo＝(αi，j*(1-kj)+αi，o*(kj-ki))/(1+αi，o*ki)(15)(式(15)中，i＝2，3，4，5，6；j＝2，3，4，5，6且j≠i)將鐵元素對(duì)鎂元素的基體校正系數(shù)轉(zhuǎn)化為三氧化二鐵對(duì)氧化鎂的系數(shù)計(jì)算過(guò)程如下：計(jì)算氧化鎂中氧元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)：kmg＝氧原子量/氧化鎂分子量＝16/40.31＝0.397；計(jì)算三氧化二鐵中氧元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)：kfe＝3*氧原子量/三氧化二鐵分子量＝48.0/159.7＝0.300αmgo，fe2o3＝(αmg，fe*(1-kfe)+αmg，o*(kfe-kmg))/(1+αmg，o*kmg)＝(0.04543*(1-0.300)+0.01966*(0.300-0.397))/(1+.01966*0.397)＝0.02965以相同的方法計(jì)算的其它氧化物間的基體校正系數(shù)見(jiàn)表8。表8：氧化物間的基體校正系數(shù)實(shí)施例3鎂鉻磚樣品玻璃熔片分析用基體校正系數(shù)計(jì)算鎂鉻磚是一種耐火材料，其主要化學(xué)成分是氧化鎂和三氧化二鉻，還存在一些硅鋁鐵等雜質(zhì)，為方便計(jì)算忽略這些雜質(zhì)，僅考慮樣品中鎂、鉻和氧三種元素。熔劑采用四硼酸鋰，稀釋比為1∶9。玻璃熔片是樣品與熔劑的混合熔體，在計(jì)算基體校正系數(shù)時(shí)要考慮熔劑的化學(xué)組成及其含量，本實(shí)例涉及鎂、鉻、鋰、硼和氧五種元素組成樣品中元素間基體校正系數(shù)的計(jì)算。3.1、對(duì)樣品中的五種元素編號(hào)及元素含量設(shè)計(jì)見(jiàn)表9，其中鋰、硼和氧元素為非測(cè)量元素，僅需要對(duì)鎂和鉻元素強(qiáng)度進(jìn)行計(jì)算。表9：基本化學(xué)組成樣品的元素編號(hào)及含量元素libomgcr編號(hào)12345樣品氧化物含量，％8020熔片中元素含量，％8.8520427.5765357.378404.824611.36842元素強(qiáng)度ri2.678530198.60703543.2、利用sherman方程計(jì)算基本化學(xué)組成和輔助化學(xué)組成樣品的強(qiáng)度，利用sherman方程計(jì)算樣品中元素強(qiáng)度時(shí)所用的基本參數(shù)見(jiàn)表10。表10：基本參數(shù)儀器常數(shù)1.15846光管電壓50kv光管鈹窗厚度75μm光管靶材銠靶出射角90°激發(fā)線強(qiáng)度分布pella-feng經(jīng)驗(yàn)公式法質(zhì)量吸收系數(shù)thinh-leroux法鎂激發(fā)因子0.0274鉻激發(fā)因子0.2290用sherman方程可以計(jì)算表9所示化學(xué)組成樣品中鎂和鉻的強(qiáng)度，計(jì)算鎂的強(qiáng)度時(shí)需要考慮鉻的二次激發(fā)，計(jì)算鉻強(qiáng)度時(shí)沒(méi)有二次激發(fā)的影響。計(jì)算樣品中元素強(qiáng)度時(shí)所用的基本參數(shù)見(jiàn)表10。強(qiáng)度計(jì)算值見(jiàn)表9中最后一行。本樣品中有2個(gè)可測(cè)元素，對(duì)于每個(gè)待測(cè)元素需要計(jì)算4個(gè)元素對(duì)其強(qiáng)度的影響，故需要設(shè)計(jì)4個(gè)輔助樣品進(jìn)行基體校正系數(shù)計(jì)算，2個(gè)待測(cè)元素需要8個(gè)輔助樣品。二個(gè)待測(cè)元素的δci值均設(shè)定值并不相同，但均小于0.1％，8個(gè)輔助樣品的化學(xué)組成見(jiàn)表11。用sherman方程計(jì)算的8個(gè)輔助樣品強(qiáng)度值列于表11的ri’中。表11：輔助樣品的濃度與強(qiáng)度(％)3.3、計(jì)算j對(duì)i的基體校正系數(shù)按照定義，當(dāng)j＝i時(shí)，系數(shù)為0，即αi，i＝0。由于不對(duì)鋰、硼和氧元素測(cè)定，故無(wú)需計(jì)算α1，j、α2，j、α3，j。根據(jù)式(5)，j對(duì)i的基體校正系數(shù)可用式(16)計(jì)算：αi，j＝((ci-δci)/ri’-ci/ri)/δci(i＝3，4；j＝1，2，3，4，5且j≠i)(16)式中的ci和ri為表9中元素i的濃度和強(qiáng)度；δci見(jiàn)表11中的δci列；ri’在表11中有4個(gè)值，計(jì)算αi，j時(shí)所用的ri’值對(duì)應(yīng)的序號(hào)為：n＝(i-4)*4+j。用式(16)計(jì)算鋰元素對(duì)鎂元素的影響影響如下：α4，1＝((c4-δc4)/r4’-c4/r4)/δc4＝((4.82461-0.00603)/2.6752723-4.82461/2.67853019)/0.00603＝-0.01003…………用式(16)計(jì)算鎂元素對(duì)鉻元素的影響影響如下：α5，4＝((c5-δc5)/r5’-c5/r5)/δc5＝((1.36842-0.006842)/8.5663151-1.36842/8.6070354)/0.006842＝-0.006277672表12列出了由式(16)計(jì)算的全部元素間基體校正系數(shù)表12：元素間基體校正系數(shù)3.4、玻璃樣片中的元素用相應(yīng)元素在樣品中氧化物濃度表示時(shí)，基體校正系數(shù)的換算表12所列的基體校正系數(shù)是玻璃熔片中各元素間的基體校正系數(shù)，由該系數(shù)求得的濃度是元素在玻璃熔片中的濃度。在實(shí)際的熔片法xrf分析時(shí)，要求把熔片中待測(cè)元素強(qiáng)度直接轉(zhuǎn)換為樣品中物化物濃度。此時(shí)計(jì)算公式中的基體校正系數(shù)不能采用表12中的數(shù)值，需要分三步進(jìn)行轉(zhuǎn)換。首先是將熔片中元素間基體校正系數(shù)轉(zhuǎn)換為熔片中氧化物間的基體校正系數(shù)。用實(shí)例2相同的方法可計(jì)算出的氧化鋰、三氧化二硼和氧化鉻對(duì)氧化鎂的基體校正系數(shù)和氧化鋰、三氧化二硼和氧化鎂對(duì)氧化鉻的基體校正系數(shù)見(jiàn)表13。表13：氧化物間的基體校正系數(shù)然后是將熔劑中氧化物對(duì)樣品氧化物的基體校正系數(shù)轉(zhuǎn)換為熔劑對(duì)樣品中各氧化物的基體校正系數(shù)；本實(shí)例中的熔劑四硼酸鋰(li2b4o7)可視為一個(gè)氧化鋰分子和二個(gè)三氧化二硼分子的混合物，氧化鋰的比例為氧化鋰分子量與四硼酸鋰之比，m＝29.88/141.12＝0.2117；用式(10)計(jì)算的四硼酸鋰對(duì)氧化鎂和氧化鉻基體校正系數(shù)：αmgo，na2b4o7＝(αmgo，li2o*m+αmgo，b2o3*(1-m))＝-0.00245*0.2117+0.00281*(1-0.2117)＝0.00170αcr2o3，na2b4o7＝(αcr2o3，li2o*m+αcr2o3，b2o3*(1-m))＝-0.00731*0.2117-0.00696*(1-0.2117)＝-0.00703最后，再根據(jù)熔劑對(duì)樣品稀釋比例為1∶9，即玻璃熔片中樣品的比例為10％，用式(11)可計(jì)算氧化鉻對(duì)氧化鎂的基體校正系數(shù)和氧化鎂對(duì)氧化鉻的基體校正系數(shù)：αmgo，cr2o3，na2b4o7＝αmgo，cr2o3*y/(1+αmgo，na2b4o7*(1-y))＝0.01995*0.1/(1+0.00170*(100-10))＝0.00173αcr2o3，mgo，na2b4o7＝αcr2o3，mgo*y/(1+αcr2o3，na2b4o7*(1-y))＝-0.00458*0.1/(1-0.00703*(100-10))＝-0.001246937在上述實(shí)施例中，對(duì)各個(gè)實(shí)施例的描述都各有側(cè)重，某個(gè)實(shí)施例中沒(méi)有詳述的部分，可以參見(jiàn)其他實(shí)施例的相關(guān)描述?？梢岳斫獾氖?，上述裝置中的相關(guān)特征可以相互參考。另外，上述實(shí)施例中的“第一”、“第二”等是用于區(qū)分各實(shí)施例，而并不代表各實(shí)施例的優(yōu)劣。在此處所提供的說(shuō)明書中，說(shuō)明了大量具體細(xì)節(jié)。然而，能夠理解，本發(fā)明的實(shí)施例可以在沒(méi)有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)踐。在一些實(shí)例中，并未詳細(xì)示出公知的結(jié)構(gòu)和技術(shù)，以便不模糊對(duì)本說(shuō)明書的理解。類似地，應(yīng)當(dāng)理解，為了精簡(jiǎn)本公開(kāi)并幫助理解各個(gè)發(fā)明方面中的一個(gè)或多個(gè)，在上面對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的描述中，本發(fā)明的各個(gè)特征有時(shí)被一起分組到單個(gè)實(shí)施例、或者對(duì)其的描述中。所要求保護(hù)的本發(fā)明要求比在每個(gè)權(quán)利要求中所明確記載的特征更多的特征。更確切地說(shuō)，如下面的權(quán)利要求書所反映的那樣，發(fā)明方面在于少于前面公開(kāi)的單個(gè)實(shí)施例的所有特征。因此，遵循具體實(shí)施方式的權(quán)利要求書由此明確地并入該具體實(shí)施方式，其中每個(gè)權(quán)利要求本身都作為本發(fā)明的單獨(dú)實(shí)施例。本領(lǐng)域那些技術(shù)人員可以理解，可以對(duì)實(shí)施例中的裝置中的部件進(jìn)行自適應(yīng)性地改變并且把它們?cè)O(shè)置在與該實(shí)施例不同的一個(gè)或多個(gè)裝置中。可以把實(shí)施例中的部件組合成一個(gè)部件，以及此外可以把它們分成多個(gè)子部件。除了這樣的特征中的至少一些是相互排斥之外，可以采用任何組合對(duì)本說(shuō)明書(包括伴隨的權(quán)利要求、摘要)中公開(kāi)的所有特征以及如此公開(kāi)的任何裝置的所有部件進(jìn)行組合。除非另外明確陳述，本說(shuō)明書(包括伴隨的權(quán)利要求、摘要)中公開(kāi)的每個(gè)特征可以由提供相同、等同或相似目的的替代特征來(lái)代替。此外，本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠理解，盡管在此所述的一些實(shí)施例包括其它實(shí)施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同實(shí)施例的特征的組合意味著處于本發(fā)明的范圍之內(nèi)并且形成不同的實(shí)施例。例如，在下面的權(quán)利要求書中，所要求保護(hù)的實(shí)施例的任意之一都可以以任意的組合方式來(lái)使用。本發(fā)明的各個(gè)部件實(shí)施例可以以硬件實(shí)現(xiàn)，或者以它們的組合實(shí)現(xiàn)。應(yīng)該注意的是上述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說(shuō)明而不是對(duì)本發(fā)明進(jìn)行限制，并且本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離所附權(quán)利要求的范圍的情況下可設(shè)計(jì)出替換實(shí)施例。在權(quán)利要求中，不應(yīng)將位于括號(hào)之間的任何參考符號(hào)構(gòu)造成對(duì)權(quán)利要求的限制。單詞“包含”不排除存在未列在權(quán)利要求中的部件或組件。位于部件或組件之前的單詞“一”或“一個(gè)”不排除存在多個(gè)這樣的部件或組件。本發(fā)明可以借助于包括有若干不同部件的裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)。在列舉了若干部件的權(quán)利要求中，這些部件中的若干個(gè)可以是通過(guò)同一個(gè)部件項(xiàng)來(lái)具體體現(xiàn)。單詞第一、第二、以及第三等的使用不表示任何順序。可將這些單詞解釋為名稱。本發(fā)明權(quán)利要求和/或說(shuō)明書中的技術(shù)特征可以進(jìn)行組合，其組合方式不限于權(quán)利要求中通過(guò)引用關(guān)系得到的組合。通過(guò)權(quán)利要求和/或說(shuō)明書中的技術(shù)特征進(jìn)行組合得到的技術(shù)方案，也是本發(fā)明的保護(hù)范圍。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁(yè)12