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一種全反射X熒光光譜儀的樣品盤定位裝置的制作方法

文檔序號:12033263閱讀:286來源:國知局
一種全反射X熒光光譜儀的樣品盤定位裝置的制作方法

本發(fā)明屬于全反射x熒光光譜儀的設計,具體涉及一種全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置。



背景技術:

全反射x熒光光譜儀(txrf)具有靈敏度高(pg-ng),樣品用量少(ng-μg,包括微米級微塵樣品),定量準確、樣品無需消化,即可直接和多元素同時分析等一系列突出優(yōu)點。txrf體積小,可帶到取樣現(xiàn)場,能夠分析中子活化(naa)不能分析的pb,s,as等元素。

txrf與普通的ed-xrf不同之處在于經(jīng)過切割反射體,當x射線發(fā)生全反射時,入射x射線和出射線的強度相等,消除了原級x射線在反射體上的相干和不相干散射現(xiàn)象,使散射本底降低了3個多量級,從而大大提高了峰背比。txrf就是利用x射線全反射原理,將樣品在反射體兼樣品架上涂成薄層進行激發(fā),達到降低散射本底、提高峰背比,以實現(xiàn)痕量元素分析的一項高新分析技術。

txrf樣品架的位置位于探測器正下方,用于承載樣品盤,第二次全反射應該發(fā)生在樣品盤表面中部。對mo靶x射線熒光全反射角度為0.1度,微小的位置變化會造成很大的誤差,因此,對樣品架及定位裝置精度要求嚴格。

布魯克的txrf儀的樣品盤是豎直放置,固定樣品盤采用夾片式固定方式,將樣品架向外拉出,裝樣后將樣品架送入進行測量,這種裝樣方式對固體微塵顆粒樣品測量存在困難。

對于水平裝樣系統(tǒng),不適合采用夾片式樣品架及定位,樣品架裝在入射光方向及兩側都會影響入射光到達樣品盤表面,裝在出射光方向影響樣品放入與取出,不方便儀器調試。



技術實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術中存在的問題,提供一種適用于水平裝樣系統(tǒng)的全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置,方便儀器調試及裝放樣品和定位。

本發(fā)明的技術方案如下:一種全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置,包括位于探測器下方的樣品盤架,樣品盤架的底面能夠水平抽拉,樣品盤水平設置于樣品盤架的底面上,在樣品盤架底面的下方設有壓緊裝置,在樣品盤架兩側邊框上設有水平定位裝置。

進一步,如上所述的全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置,其中,所述的壓緊裝置包括傾斜設置的壓板和與壓板端部連接的升降軸,所述升降軸的上端連接有彈簧,彈簧的頂端設有鋼珠,當樣品盤處于測量位置時,通過樣品盤架的底面下壓所述壓緊裝置的壓板一側,使壓板另一側端部的升降軸向上運動頂起所述鋼珠,從而壓緊樣品盤。

進一步,如上所述的全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置,其中,所述壓板能以圓柱銷為中心轉動,在壓板設升降軸的一端下方連接復位彈簧。

進一步,如上所述的全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置,其中,所述的水平定位裝置包括位于樣品盤架兩側邊框上的凸緣,在所述凸緣上設有定位頂珠,所述定位頂珠頂住樣品盤的邊緣。

本發(fā)明的有益效果如下:本發(fā)明所提供的全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置采用抽拉上頂式,與布魯克的txrf儀的樣品架不同。該裝置的樣品盤固定結構,方便裝樣、放樣,以及樣品到位后的固定。將樣品盤架水平抽出,可實現(xiàn)樣品放入與取出。樣品盤定位點位于樣品盤邊緣,不影響入射和出射光,方便儀器調試及裝放樣品和定位,對于固體微塵顆粒樣品也不影響測量。本發(fā)明解決了水平裝樣系統(tǒng)的全反射x射線熒光儀的裝樣和樣品定位問題,該結構操作簡單,位置固定。

附圖說明

圖1為本發(fā)明全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置結構原理圖;

圖2為樣品盤定位裝置的機械結構圖;

圖3為樣品盤定位裝置的俯視圖;

圖4為樣品盤定位裝置處于不同位置的結構原理圖。

圖中,1.探測器2.樣品盤3.樣品盤架4.壓板5.壓緊件6.凸緣7.定位頂珠8.圓柱銷9.復位彈簧10.升降軸

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發(fā)明進行詳細的描述。

如圖1所示,本發(fā)明所提供的全反射x熒光光譜儀的樣品盤定位裝置,包括位于探測器1下方的樣品盤架3,樣品盤架3的底面能夠水平抽拉,樣品盤2水平設置于樣品盤架3的底面上,在樣品盤架底面的下方設有壓緊裝置,壓緊裝置包括傾斜設置的壓板4和位于壓板端部的壓緊件5,在樣品盤架兩側邊框上設有水平定位裝置。

作為一個具體的實施例,壓緊裝置的結構如圖2所示,所述壓緊裝置包括傾斜設置的壓板4,在壓板一端的上方連接升降軸10,所述升降軸10的上端連接有彈簧,彈簧的頂端設有鋼珠,升降軸、彈簧、鋼珠即構成了壓緊件5的一種實施方式。壓板4能以圓柱銷8為中心轉動,在壓板4設升降軸的一端下方連接復位彈簧9。當樣品盤2處于測量位置時(即位于探測器1的正下方),通過樣品盤架3的底面下壓所述壓緊裝置的壓板4一側,壓板4便圍繞圓柱銷8發(fā)生旋轉,使壓板另一側端部的升降軸10向上運動,升降軸10通過彈簧頂起鋼珠,從而通過鋼珠壓緊樣品盤2。

由于在壓板4連接升降軸的一端下方連接有復位彈簧9,當樣品盤2隨著樣品盤架3外抽時,樣品盤架3的底面脫離壓板4,壓板4連接升降軸的一端被復位彈簧9下拉,使得升降軸10隨之向下運動。由于升降軸10的下移釋放了其頂端彈簧對鋼珠的壓緊力,使樣品盤2能夠隨樣品盤架3向外抽拉。

如圖3所示,所述水平定位裝置包括位于樣品盤架3兩側邊框上的凸緣6,在所述凸緣6上設有定位頂珠7,所述定位頂珠7頂住樣品盤2的邊緣。在本實施例中,一側凸緣上設置兩個定位頂珠,另一側凸緣上設置一個定位頂珠。

在裝樣時,將樣品盤架底面抽出,如圖4中所示的a狀態(tài),將樣品盤2放置在樣品盤架3的表面;然后將樣品盤架3送回,在樣品盤架3推回到位時將壓板4壓下,把壓板端部的壓緊件5頂起壓緊樣品盤2,如圖4中所示的b狀態(tài);樣品盤2上面通過凸緣6上的定位頂珠保證樣品盤的水平位置,如圖4中所示的c狀態(tài)。

顯然,本領域的技術人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若對本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權利要求及其同等技術的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。



技術特征:

技術總結
本發(fā)明涉及一種全反射X熒光光譜儀的樣品盤定位裝置,包括位于探測器下方的樣品盤架,樣品盤架的底面能夠水平抽拉,樣品盤水平設置于樣品盤架的底面上,在樣品盤架底面的下方設有壓緊裝置,在樣品盤架兩側邊框上設有水平定位裝置。本發(fā)明解決了水平裝樣系統(tǒng)的全反射X射線熒光儀的裝樣和樣品定位問題,定位裝置不影響入射和出射光,該結構操作簡單,位置固定。

技術研發(fā)人員:鄭維明;康海英;崔大慶;劉聯(lián)偉
受保護的技術使用者:中國原子能科學研究院
技術研發(fā)日:2017.06.30
技術公布日:2017.10.24
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