本發(fā)明涉及無(wú)損檢測(cè)領(lǐng)域，特別涉及一種接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架。

背景技術(shù)：

目前在射線檢測(cè)中采用偏心曝光時(shí)，射線源放置的位置由人工測(cè)量并以木頭等作為支架固定在特定位置，當(dāng)被測(cè)接管或筒體直徑較小時(shí)，給拍片人員對(duì)射線源的固定和位置精度的保證帶來(lái)很大困難，并容易造成誤差。

以對(duì)內(nèi)徑φ350mm、φ450mm的接管進(jìn)行偏心曝光為例：

現(xiàn)有的方法是首先測(cè)量出射線源的固定位置，然后通過木頭等作為支架將射線源用膠布固定在指定位置。拍片過程中可能存在射線源脫落等危險(xiǎn)，且現(xiàn)有的支架如果操作不當(dāng)，易劃傷接管內(nèi)壁。由于接管內(nèi)徑不同，需要制作不同規(guī)格長(zhǎng)度的支架，容易造成資源浪費(fèi)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架，在射線檢測(cè)中進(jìn)行偏心曝光時(shí)，用來(lái)固定射線源的源頭，防止射線源脫落等現(xiàn)象發(fā)生。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是提供一種接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架，其包含：

由上部橫板、下部橫板、左側(cè)支撐板、右側(cè)支撐板圍成的一個(gè)框架結(jié)構(gòu)；通過所述上部橫板對(duì)射頻源的源頭進(jìn)行固定；

與所述框架結(jié)構(gòu)連接的一個(gè)長(zhǎng)度可調(diào)節(jié)的腳支架，其通過兩端設(shè)置的支點(diǎn)接觸于接管內(nèi)壁，將支撐架固定在接管內(nèi)。

優(yōu)選地，所述上部橫板開設(shè)有若干第一通孔，對(duì)射頻源的源頭進(jìn)行固定；所述下部橫板開設(shè)有若干第二通孔，其與若干第一通孔相對(duì)應(yīng)；所述第二通孔對(duì)射頻源的管路進(jìn)行固定。

優(yōu)選地，所述上部橫板設(shè)置有對(duì)應(yīng)不同偏心距離的多個(gè)第一通孔；

所述支撐架設(shè)置有一個(gè)射頻源的源頭，通過其中一個(gè)第一通孔來(lái)固定。

優(yōu)選地，所述源頭所在高度高于所述腳支架。

優(yōu)選地，所述腳支架包含螺紋連接的延伸段，通過旋轉(zhuǎn)來(lái)改變長(zhǎng)度。

優(yōu)選地，所述接管的內(nèi)徑為330mm至480mm。

優(yōu)選地，所述腳支架一端的支點(diǎn)設(shè)置在左側(cè)支撐板的左邊，另一端的支點(diǎn)通過螺紋連接的延伸段設(shè)置在右側(cè)支撐板的右邊。

優(yōu)選地，所述腳支架兩端的支點(diǎn)，各自通過若干沉頭螺釘，在支點(diǎn)端部連接相應(yīng)的防滑橡膠頭，并通過所述防滑橡膠頭與接管內(nèi)壁接觸。

優(yōu)選地，所述上部橫板、下部橫板、左側(cè)支撐板、右側(cè)支撐板、腳支架由不銹鋼制成；所述腳支架的支點(diǎn)被塑料件包裹，并通過塑料件與接管內(nèi)壁接觸。

優(yōu)選地，所述腳支架的支點(diǎn)上具有表面滾花結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架，利用腳支架對(duì)射線源在接管內(nèi)壁進(jìn)行固定；腳支架設(shè)有螺紋連接且可伸縮改變長(zhǎng)度的延伸段，可通過螺紋旋轉(zhuǎn)調(diào)整腳支架的長(zhǎng)度，來(lái)適應(yīng)不同規(guī)格的接管內(nèi)徑，這樣可以保證固定牢靠，節(jié)約資源。因此，與現(xiàn)有技術(shù)相比，利用本發(fā)明的支撐架進(jìn)行偏心曝光，測(cè)量簡(jiǎn)單、快捷；裝置成本低廉；操作方便，安全；所測(cè)數(shù)據(jù)準(zhǔn)確；有效提高工作效率。

附圖說(shuō)明

圖1是射線源的源頭結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明所述接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖1所示接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架的俯視圖；

圖4是圖1所示接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架的左視圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供一種接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架(以下簡(jiǎn)稱為支撐架)，能夠?qū)D1所示射線源的源頭8在接管內(nèi)壁進(jìn)行固定，使其適用于射線檢測(cè)中的偏心曝光。

如圖2～圖4所示，支撐架設(shè)置了由上部橫板2、下部橫板3、左側(cè)支撐板1、右側(cè)支撐板4圍成的一個(gè)框架結(jié)構(gòu)，還設(shè)置有腳支架5；所述腳支架5一端的支點(diǎn)設(shè)置在左側(cè)支撐板1的左邊，另一端的支點(diǎn)通過螺紋連接的延伸段設(shè)置在右側(cè)支撐板4的右邊。

其中，上部橫板2開設(shè)有第一通孔21，用來(lái)固定射頻源的源頭8；與之對(duì)應(yīng)地，在所述下部橫板3開設(shè)有第二通孔31，用來(lái)固定射頻源的管路(源通過管路發(fā)送到源頭位置)等。之后，將帶有螺紋的腳支架5伸開張緊，將支撐架固定到被測(cè)接管內(nèi)壁。作業(yè)時(shí)，通過源頭8在被測(cè)接管內(nèi)部進(jìn)行偏心曝光。

本例中，上部橫板2間隔地開設(shè)有3個(gè)φ20mm的第一通孔21，下部橫板3開設(shè)有對(duì)應(yīng)的3個(gè)φ30mm的第二通孔31。設(shè)計(jì)多組通孔，是為了檢測(cè)時(shí)適用于不同的偏心距離。理論上可以同時(shí)安裝多個(gè)源頭；但一般情況下，曝光點(diǎn)僅需一個(gè)，因此優(yōu)選是使用一組對(duì)應(yīng)的第一通孔和第二通孔。

圖2～圖4中提供了支撐架各處的示例尺寸，用來(lái)幫助理解其與圖1所示源頭的裝配關(guān)系，而不作為對(duì)部件尺寸的具體限制。實(shí)際應(yīng)用時(shí)，通過上部橫板2對(duì)源頭8進(jìn)行固定，使源頭8位于腳支架5的上部(源頭8所處的高度高于腳支架5)，以避免曝光時(shí)腳支架5對(duì)拍片質(zhì)量的影響。

腳支架5中采用螺紋連接的延伸段，通過旋轉(zhuǎn)可以改變其長(zhǎng)度，以便適應(yīng)地固定在不同規(guī)格的接管內(nèi)壁。優(yōu)選的，通過螺旋旋轉(zhuǎn)張開，本發(fā)明適用的接管的內(nèi)徑范圍為330mm至480mm，但不限于此。

主要部件(上部橫板2、下部橫板3、左側(cè)支撐板1、右側(cè)支撐板4、腳支架5)的材料優(yōu)選為不銹鋼0cr18ni9。為避免腳支架5在其與被測(cè)接管的接觸部位劃傷工件，將所有的接觸點(diǎn)以塑料pvc材料的部件進(jìn)行包裹。例如，在腳支架5兩端的支點(diǎn)，各自通過三個(gè)沉頭螺釘7，安裝了相應(yīng)的防滑橡膠頭6。

優(yōu)選的，同一組第一通孔21與第二通孔31的同軸度不低于φ0.05；框架結(jié)構(gòu)中各相鄰垂直表面的垂直度不低于0.05；各棱邊倒鈍處理；支點(diǎn)上還采取不銹鋼表面滾花9處理。

綜上所述，本發(fā)明的接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架中，通過帶有螺紋的腳支架5伸縮固定在接管內(nèi)壁，保證對(duì)射線源的安全固定，及可靠支撐，避免脫落危險(xiǎn)；本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便快捷，制作成本低廉，使偏心曝光的測(cè)量更加方便、準(zhǔn)確。

盡管本發(fā)明的內(nèi)容已經(jīng)通過上述優(yōu)選實(shí)施例作了詳細(xì)介紹，但應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到上述的描述不應(yīng)被認(rèn)為是對(duì)本發(fā)明的限制。在本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀了上述內(nèi)容后，對(duì)于本發(fā)明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)由所附的權(quán)利要求來(lái)限定。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種接管內(nèi)壁偏心曝光支撐架，其包含：由上部橫板、下部橫板、左側(cè)支撐板、右側(cè)支撐板圍成的一個(gè)框架結(jié)構(gòu)；通過所述上部橫板對(duì)射頻源的源頭進(jìn)行固定；與所述框架結(jié)構(gòu)連接的一個(gè)腳支架，其長(zhǎng)度可調(diào)節(jié)以匹配待測(cè)接管的內(nèi)徑；通過腳支架兩端設(shè)置的支點(diǎn)接觸于接管內(nèi)壁，將支撐架固定在接管內(nèi)。在射線檢測(cè)中進(jìn)行偏心曝光時(shí)，有效防止射線源脫落等現(xiàn)象發(fā)生。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便快捷，制作成本低廉，使偏心曝光的測(cè)量更加方便、準(zhǔn)確。

技術(shù)研發(fā)人員：湯一炯;季龍華;農(nóng)建超
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海電氣核電設(shè)備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.22
技術(shù)公布日：2017.07.21