1.一種離子源測(cè)試夾具，其特征在于：所述的測(cè)試夾具包括金屬底座（1），金屬單尖樣品（2）、絕緣層壓塊（3），絕緣遮蔽層（4），柵極金屬片（5），螺柱（6），金屬單尖樣品（2）的剖面為T型，T型的底部為固定端，T型的頂部為尖端，金屬單尖樣品（2）的固定端固定在金屬底座（1）的卡槽內(nèi)，金屬單尖樣品（2）的尖端豎直朝上，金屬單尖樣品（2）的尖端從下至上順序穿過(guò)絕緣層壓塊（3）、絕緣遮蔽層（4）和柵極金屬片（5），金屬單尖樣品（2）的尖端與柵極金屬片（5）的上表面平齊，所述的柵極金屬片（5）上開(kāi)有圓孔Ⅰ，金屬單尖樣品（2）的尖端位于圓孔Ⅰ的中心；絕緣層壓塊（3）、絕緣遮蔽層（4）通過(guò)螺釘固定在金屬底座（1）上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源測(cè)試夾具，其特征在于：所述的絕緣遮蔽層（4）的外沿超過(guò)絕緣層壓塊（3）的外沿，形成絕緣遮蔽層（4）的邊緣，在絕緣遮蔽層（4）的邊緣通過(guò)絕緣遮蔽層（4）上的貫穿孔穿過(guò)螺柱（6），螺柱（6）的下端通過(guò)螺帽Ⅰ與金屬底座（1）固定，在貫穿孔處的絕緣遮蔽層（4）的上表面和下表面分別固定螺帽Ⅱ和螺帽Ⅲ，調(diào)節(jié)螺帽Ⅲ使得絕緣遮蔽層（4）在豎直方向上下移動(dòng)；貫穿孔的直徑大于螺柱（6）的外徑，沿絕緣遮蔽層（4）的外沿對(duì)稱分布的L型壓塊（7），螺釘Ⅰ位于L型壓塊（7）的豎直面，與絕緣遮蔽層（4）的外沿相接觸，螺釘Ⅱ位于L型壓塊（7）的水平面并固定在金屬底座（1）上，使用L型壓塊（7）固定絕緣遮蔽層（4）與金屬底座（1）的相對(duì)位置，調(diào)節(jié)螺釘Ⅰ在水平平面上移動(dòng)絕緣遮蔽層（4），直至金屬單尖樣品（2）的尖端位于柵極金屬片（5）圓孔的中心，壓緊螺帽Ⅱ固定絕緣遮蔽層（4）。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源測(cè)試夾具，其特征在于：所述的絕緣遮蔽層（4）開(kāi)有豎直的圓孔Ⅱ，金屬單尖樣品（2）通過(guò)圓孔Ⅱ穿出，圓孔Ⅱ的內(nèi)徑尺寸略小于柵極金屬片（5）的圓孔Ⅰ的內(nèi)徑。