本發(fā)明涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法。

背景技術(shù)：

光學(xué)相干層析(OCT)是一種利用低相干光干涉原理的層析測(cè)量技術(shù)，它具有測(cè)量速度快和無損檢測(cè)等優(yōu)點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)材料內(nèi)部微米級(jí)輪廓的精確測(cè)量。在結(jié)合了光譜儀結(jié)構(gòu)后發(fā)展出的譜域光學(xué)相干層析技術(shù)(SOCT)，進(jìn)一步提高了該方法的測(cè)量速度與信噪比。近年來，以SOCT技術(shù)為基礎(chǔ)又發(fā)展出了一系列新的功能型OCT方法，例如測(cè)量材料內(nèi)部雙折射特性的偏振敏感SOCT，測(cè)量材料內(nèi)部流速場(chǎng)的多普勒SOCT，以及測(cè)量材料內(nèi)部變形場(chǎng)的相位對(duì)照SOCT等，并被廣泛應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)和先進(jìn)材料等多項(xiàng)領(lǐng)域的研究與檢測(cè)當(dāng)中。其中，相位對(duì)照SOCT是一種利用干涉光譜相位敏感特性的SOCT方法，可以實(shí)現(xiàn)材料內(nèi)部變形場(chǎng)的納米級(jí)層析測(cè)量，被先后應(yīng)用于眼角膜，高聚物等材料在不同載荷下的微變形場(chǎng)動(dòng)態(tài)檢測(cè)當(dāng)中。

然而，相位對(duì)照SOCT方法是基于對(duì)干涉信號(hào)進(jìn)行測(cè)量的技術(shù)，不可避免地會(huì)受到散斑噪聲的影響。同時(shí)，材料內(nèi)部散射信號(hào)很弱，且隨著深度的增加不斷減弱。這些都導(dǎo)致了測(cè)量結(jié)果的信噪比低，往往需要人為的參與，才能辨識(shí)出噪聲污染下被測(cè)樣件的截面輪廓，以及內(nèi)部變形場(chǎng)細(xì)節(jié)上的變化趨勢(shì)。

亟待解決上述問題，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)測(cè)量結(jié)果的降噪，使截面輪廓更加清晰，變形場(chǎng)分布更加細(xì)致。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法，在相位對(duì)照譜域光學(xué)相干層析技術(shù)的基礎(chǔ)上結(jié)合了模糊邏輯的方法，通過對(duì)測(cè)量結(jié)果提取特征參數(shù)，并進(jìn)行模糊邏輯推理和判斷，對(duì)樣件的截面輪廓以及樣件內(nèi)部的變形場(chǎng)進(jìn)行降噪，使截面輪廓更加清晰，變形場(chǎng)分布更加細(xì)致。

一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法包括：

計(jì)算干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)；

根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄，其中C₁為附近區(qū)域的幅值之和、C₂為單一方向的幅值之和、C₃為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差的連續(xù)程度、C₄為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差擬合的誤差；

對(duì)特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄進(jìn)行模糊化處理得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4；

對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，輸出O₁和O₂，其中O₁為該點(diǎn)是樣件內(nèi)部一點(diǎn)的可能性，O₂為該點(diǎn)是噪聲點(diǎn)的可能性；

計(jì)算降噪后的輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)；

根據(jù)輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)解調(diào)出降噪后的變形場(chǎng)。

優(yōu)選的，

步驟計(jì)算干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)包括：

將成像在CCD相機(jī)上的干涉光譜用光強(qiáng)表示為

其中，k表示波數(shù)，I₀表示直流分量，I_R表示參考面，I_i表示被測(cè)樣件的反射光強(qiáng)，M表示被測(cè)樣件的表面?zhèn)€數(shù)，φ_i表示干涉光強(qiáng)的相位，φ_i＝φ_i0+2kz，φ_i0表示初始相位；

將光強(qiáng)信號(hào)沿波數(shù)k軸進(jìn)行傅里葉變換得到原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)；

通過公式計(jì)算被測(cè)樣件變形前后的位移，其中深度方向的坐標(biāo)z＝π·f_k。

優(yōu)選的，

步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

選取以(y,z)為中心的一個(gè)區(qū)域?yàn)樘卣鲄?shù)C₁的取值范圍；

通過公式計(jì)算C₁。

優(yōu)選的，

步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

以(y,z)為中心分別沿y方向、z方向和yz軸之間45度夾角方向?yàn)樘卣鲄?shù)C₂取值；

通過公式

計(jì)算C₂。

優(yōu)選的，

步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

選取以(y,z)為中心的一個(gè)區(qū)域?yàn)樘卣鲄?shù)C₃的取值范圍；

對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位差進(jìn)行三階曲面擬合得到Δφ_f(y,z)；

通過公式C₃(y,z)＝|Δφ_m(y,z)-Δφ_f(y,z)|計(jì)算C₃。

優(yōu)選的，

步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

選取以(y,z)為中心的一個(gè)區(qū)域?yàn)樘卣鲄?shù)C₄的取值范圍；

對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位進(jìn)行三階曲面擬合；

通過公式計(jì)算C₄。

優(yōu)選的，

步驟對(duì)特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄進(jìn)行模糊化處理得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4包括：

通過公式分別計(jì)算得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4，其中，C_max表示相應(yīng)特征參數(shù)的最大值，C_min表示相應(yīng)特征參數(shù)的最小值；

選取3個(gè)模糊狀態(tài)，分別標(biāo)記為B、M和S；

繪制模糊集隸屬度函數(shù)。

優(yōu)選的，

步驟對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，并輸出O₁和O₂包括：

參照模糊集隸屬度函數(shù)進(jìn)行判斷；

若滿足條件1，則輸出O₁是B；

否則，輸出O₁是S；

條件1為參數(shù)C₁是B、參數(shù)C₂是B、參數(shù)C₄是S、參數(shù)C₁與C₄均是M和參數(shù)C₂與C₄均是M中的任意一種。

優(yōu)選的，

步驟對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，并輸出O₁和O₂還包括：

若滿足條件2，則輸出O₂是B；

否則，輸出O₂是S；

條件2為參數(shù)C₁是S、參數(shù)C₂是S、參數(shù)C₃是B、參數(shù)C₄是B和參數(shù)C₄是S且參數(shù)C₃是M中的任意一種。

優(yōu)選的，

步驟所述計(jì)算降噪后的輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)包括：

通過公式

計(jì)算降噪后的幅值A(chǔ)_e(y,z)和相位差Δφ_e(y,z)。

從以上技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明實(shí)施例具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明的光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法，首先，計(jì)算出干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)。其次，根據(jù)原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算提取特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄，其中，C₁為附近區(qū)域的幅值之和，即選取一個(gè)區(qū)域?qū)ζ鋬?nèi)部的幅值求和；C₂為單一方向的幅值之和，即選取幾個(gè)方向分別求和，取其中的最大值后再減去中心點(diǎn)自身的幅值；C₃為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差的連續(xù)程度，即以(y,z)為中心取一個(gè)區(qū)域，對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位差進(jìn)行三階曲面擬合，再取擬合后中心點(diǎn)的相位差與原始相位差之間差的絕對(duì)值；C₄為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差擬合的誤差，即以(y,z)為中心選取一個(gè)區(qū)域，先對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位進(jìn)行三階曲面擬合，再用擬合后的相位差分別與原始相位差作差并求和。再次，對(duì)求得的特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄進(jìn)行模糊化處理得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4，并對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，輸出O₁和O₂，其中O₁為該點(diǎn)是樣件內(nèi)部一點(diǎn)的可能性，O₂為該點(diǎn)是噪聲點(diǎn)的可能性。最后計(jì)算降噪后的幅值A(chǔ)_e(y,z)和相位差Δφ_e(y,z)，根據(jù)輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)解調(diào)出降噪后的變形場(chǎng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣件的截面輪廓以及樣件內(nèi)部的變形場(chǎng)進(jìn)行降噪，使截面輪廓更加清晰，變形場(chǎng)分布更加細(xì)致。

附圖說明

圖1為本發(fā)明中一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例的流程圖；

圖2為本發(fā)明中一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例中模糊集隸屬度函數(shù)圖；

圖3為本發(fā)明中一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例中含有散斑噪聲截面輪廓y-z平面的幅值分布圖；

圖4為圖3中y＝1mm處幅值隨深度變化的曲線圖；

圖5為本發(fā)明中一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例中經(jīng)過本方法降噪后截面輪廓y-z平面的幅值分布圖；

圖6為圖5中y＝1mm處幅值隨深度變化的曲線圖；

圖7為降噪處理之前樣件內(nèi)部的相位差分布圖；

圖8為使用本方法處理后樣件內(nèi)部的相位差分布圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法，在相位對(duì)照譜域光學(xué)相干層析技術(shù)的基礎(chǔ)上結(jié)合了模糊邏輯的方法，通過對(duì)測(cè)量結(jié)果提取特征參數(shù)，并進(jìn)行模糊邏輯推理和判斷，對(duì)樣件的截面輪廓以及樣件內(nèi)部的變形場(chǎng)進(jìn)行降噪，使截面輪廓更加清晰，變形場(chǎng)分布更加細(xì)致。

本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例包括：

101、計(jì)算干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)；

102、根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄，其中C₁為附近區(qū)域的幅值之和、C₂為單一方向的幅值之和、C₃為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差的連續(xù)程度、C₄為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差擬合的誤差；

103、對(duì)特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄進(jìn)行模糊化處理得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4；

104、對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，輸出O₁和O₂，其中O₁為該點(diǎn)是樣件內(nèi)部一點(diǎn)的可能性，O₂為該點(diǎn)是噪聲點(diǎn)的可能性；

105、計(jì)算降噪后的輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)；

106、根據(jù)輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)解調(diào)出降噪后的變形場(chǎng)。

本實(shí)施例中，首先，計(jì)算出干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)。其次，根據(jù)原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算提取特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄，其中，C₁為附近區(qū)域的幅值之和，即選取一個(gè)區(qū)域?qū)ζ鋬?nèi)部的幅值求和；C₂為單一方向的幅值之和，即選取幾個(gè)方向分別求和，取其中的最大值后再減去中心點(diǎn)自身的幅值；C₃為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差的連續(xù)程度，即以(y,z)為中心取一個(gè)區(qū)域，對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位差進(jìn)行三階曲面擬合，再取擬合后中心點(diǎn)的相位差與原始相位差之間差的絕對(duì)值；C₄為相鄰區(qū)域內(nèi)相位差擬合的誤差，即以(y,z)為中心選取一個(gè)區(qū)域，先對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位進(jìn)行三階曲面擬合，再用擬合后的相位差分別與原始相位差作差并求和。再次，對(duì)求得的特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄進(jìn)行模糊化處理得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4，并對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，輸出O₁和O₂，其中O₁為該點(diǎn)是樣件內(nèi)部一點(diǎn)的可能性，O₂為該點(diǎn)是噪聲點(diǎn)的可能性。最后計(jì)算降噪后的幅值A(chǔ)_e(y,z)和相位差Δφ_e(y,z)，根據(jù)輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)解調(diào)出降噪后的變形場(chǎng)，參照如公式實(shí)現(xiàn)對(duì)樣件的截面輪廓以及樣件內(nèi)部的變形場(chǎng)進(jìn)行降噪，使截面輪廓更加清晰，變形場(chǎng)分布更加細(xì)致。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟101、計(jì)算干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)包括：

將成像在CCD相機(jī)上的干涉光譜用光強(qiáng)表示為

其中，k表示波數(shù)，I₀表示直流分量，I_R表示參考面，I_i表示被測(cè)樣件的反射光強(qiáng)，M表示被測(cè)樣件的表面?zhèn)€數(shù)，φ_i表示干涉光強(qiáng)的相位，φ_i＝φ_i0+2kz，φ_i0表示初始相位；

將光強(qiáng)信號(hào)沿波數(shù)k軸進(jìn)行傅里葉變換得到原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)；

通過公式計(jì)算被測(cè)樣件變形前后的位移，其中深度方向的坐標(biāo)z＝π·f_k。

本實(shí)施例中，在不考慮材料自身相互干涉產(chǎn)生干涉信號(hào)的前提下，將干涉光譜用光強(qiáng)表示為再將光強(qiáng)信號(hào)沿波數(shù)k軸進(jìn)行傅里葉變換得到原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)，其中，傅里葉變換后得到的幅值A(chǔ)(y,z)能夠描述y-z平面上被測(cè)樣件內(nèi)部的截面輪廓結(jié)構(gòu)，而被測(cè)樣件變形前后的位移可以用相位差Δφ表示，從而為后續(xù)計(jì)算提取特征參數(shù)做準(zhǔn)備。變形場(chǎng)與相位差之間是線性關(guān)系，通過公式計(jì)算，因此后面對(duì)相位差的去噪即是對(duì)變形場(chǎng)的去噪。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

選取以(y,z)為中心的一個(gè)區(qū)域?yàn)樘卣鲄?shù)C₁的取值范圍；

通過公式計(jì)算C₁。

本實(shí)施例中，選取適當(dāng)?shù)奶卣鲄^(qū)域，如以(y,z)為中心取5×5的一個(gè)區(qū)域，取n＝2，則有即對(duì)其內(nèi)部的幅值求和，計(jì)算得出特征參數(shù)C₁的取值。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

以(y,z)為中心分別沿y方向、z方向和yz軸之間45度夾角方向?yàn)樘卣鲄?shù)C₂取值；

通過公式

計(jì)算C₂。

本實(shí)施例中，以(y,z)為中心沿y方向，z方向，yz軸之間45度夾角的方向分別求和，取其中的最大值后再減去中心點(diǎn)自身的幅值，從而計(jì)算出特征參數(shù)C₂。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

選取以(y,z)為中心的一個(gè)區(qū)域?yàn)樘卣鲄?shù)C₃的取值范圍；

對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位差進(jìn)行三階曲面擬合得到Δφ_f(y,z)；

通過公式C₃(y,z)＝|Δφ_m(y,z)-Δφ_f(y,z)|計(jì)算C₃。

本實(shí)施例中，以(y,z)為中心取7×7的一個(gè)區(qū)域?yàn)槔?，?duì)區(qū)域內(nèi)的相位差進(jìn)行三階曲面擬合，再取擬合后中心點(diǎn)的相位差與原始相位差之間的差值，再求絕對(duì)值，從而求得特征參數(shù)C₃。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟根據(jù)干涉光譜的原始幅值A(chǔ)_m(y,z)和原始相位差Δφ_m(y,z)計(jì)算特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄包括：

選取以(y,z)為中心的一個(gè)區(qū)域?yàn)樘卣鲄?shù)C₄的取值范圍；

對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位進(jìn)行三階曲面擬合；

通過公式計(jì)算C₄。

本實(shí)施例中，如以(y,z)為中心取7×7的一個(gè)區(qū)域，上式中取a＝3，則有即首先對(duì)區(qū)域內(nèi)的相位進(jìn)行三階曲面擬合，再用擬合后的相位差分別與原始相位差作差并求和，從而計(jì)算特征參數(shù)C₄。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟對(duì)特征參數(shù)C₁、C₂、C₃和C₄進(jìn)行模糊化處理得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4包括：

通過公式分別計(jì)算得到模糊化特征參數(shù)C_n1、C_n2、C_n3和C_n4，其中，C_max表示相應(yīng)特征參數(shù)的最大值，C_min表示相應(yīng)特征參數(shù)的最小值；

選取3個(gè)模糊狀態(tài)，分別標(biāo)記為B、M和S；

繪制模糊集隸屬度函數(shù)。

本實(shí)施例中，參考圖2，橫坐標(biāo)為特征參數(shù)，縱坐標(biāo)為隸屬度。隸屬度函數(shù)是模糊控制的應(yīng)用基礎(chǔ)，是否正確地構(gòu)造隸屬度函數(shù)是能否用好模糊控制的關(guān)鍵之一。隸屬度函數(shù)的確定過程,本質(zhì)上說應(yīng)該是客觀的，但每個(gè)人對(duì)于同一個(gè)模糊概念的認(rèn)識(shí)理解又有差異，因此，隸屬度函數(shù)的確定又帶有主觀性。用3個(gè)模糊狀態(tài)B、M和S，繪制模糊集隸屬度函數(shù)，B表示大、M表示中和S表示小。本發(fā)明以如下函數(shù)為例：

繪制隸屬度函數(shù)。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，并輸出O₁和O₂包括：

參照模糊集隸屬度函數(shù)進(jìn)行判斷；

若滿足條件1，則輸出O₁是B；

否則，輸出O₁是S；

條件1為參數(shù)C₁是B、參數(shù)C₂是B、參數(shù)C₄是S、參數(shù)C₁與C₄均是M和參數(shù)C₂與C₄均是M中的任意一種。

本實(shí)施例中，參照模糊集隸屬度函數(shù)進(jìn)行判斷，關(guān)于輸出O₁的規(guī)則包括：如果參數(shù)C₁是B，則輸出O₁是B；如果參數(shù)C₂是B，則輸出O₁是B；如果參數(shù)C₄是S，則輸出O₁是B；如果參數(shù)C₁是M，且參數(shù)C₄是M，則輸出O₁是B；如果參數(shù)C₂是M，且參數(shù)C₄是M，則輸出O₁是B；若不滿足上述任一規(guī)則，則輸出O₁是S。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟對(duì)模糊化特征參數(shù)進(jìn)行判斷，并輸出O₁和O₂包括：

若滿足條件2，則輸出O₂是B；

否則，輸出O₂是S；

條件2為參數(shù)C₁是S、參數(shù)C₂是S、參數(shù)C₃是B、參數(shù)C₄是和參數(shù)C₄是S且參數(shù)C₃是M中的任意一種。

本實(shí)施例中，參照模糊集隸屬度函數(shù)進(jìn)行判斷，關(guān)于輸出O₂的規(guī)則包括：如果參數(shù)C₁是S，則輸出O₂是B；如果參數(shù)C₂是S，則輸出O₂是B；如果參數(shù)C₃是B，則輸出O₂是B；如果參數(shù)C₄是B，則輸出O₂是B；如果參數(shù)C₄是S，且參數(shù)C₃是M，則輸出O₂是B；若不滿足上述任一規(guī)則，則輸出O₂是S。

下面對(duì)本發(fā)明的一種光學(xué)相干層析變形場(chǎng)降噪方法實(shí)施例做進(jìn)一步說明，步驟所述計(jì)算降噪后的輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)包括：

通過公式

計(jì)算降噪后的幅值A(chǔ)_e(y,z)和相位差Δφ_e(y,z)。

本實(shí)施例中，根據(jù)前述對(duì)O₁和O₂的范圍的判斷，計(jì)算降噪后的輸出幅值A(chǔ)_e(y,z)和輸出相位差Δφ_e(y,z)，從而對(duì)樣件的截面輪廓以及樣件內(nèi)部的變形場(chǎng)進(jìn)行降噪，使截面輪廓更加清晰，變形場(chǎng)分布更加細(xì)致。降噪前后的截面輪廓幅值可參閱圖3-圖6，相位差分布情況可參閱圖7-圖8，改圖顯示的是測(cè)量材料內(nèi)部的一個(gè)截面，為三維空間中的y-z平面。

所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到，為描述的方便和簡(jiǎn)潔，上述描述的裝置的具體工作過程，可以參考前述方法實(shí)施例中的對(duì)應(yīng)過程，在此不再贅述。在本申請(qǐng)所提供的幾個(gè)實(shí)施例中，應(yīng)該理解到，所揭露的裝置可以通過其它的方式實(shí)現(xiàn)。

以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。