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一種基于MUSIC算法的頻率分集陣列兩層介質(zhì)目標(biāo)定位方法與流程

文檔序號:12456960閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種基于MUSIC算法的頻率分集陣列兩層介質(zhì)目標(biāo)定位方法,其特征是,包括如下步驟:

1)構(gòu)造單發(fā)單收的頻率分集陣列;

2)利用步驟1)構(gòu)造的頻率分集陣列對目標(biāo)所在區(qū)域進(jìn)行掃描,確定電磁波在兩層介質(zhì)分界面的折射點(diǎn)位置,根據(jù)折射點(diǎn)位置,確定電磁波在兩層介質(zhì)中的傳播路徑,即確定傳播時(shí)延;

3)根據(jù)步驟2得到的時(shí)延,推導(dǎo)出兩層介質(zhì)的頻率分集陣列的發(fā)射-接收波束方向圖,分析波束方向圖,在洛必達(dá)法則下,距離和角度呈簡單的數(shù)學(xué)關(guān)系,即兩組頻偏不同的頻率分集陣列發(fā)射-接收方向圖完全包含了解耦后的距離、角度信息;

4)依據(jù)步驟3)的分析,改變頻偏,利用步驟1)構(gòu)造的頻率分集陣列對目標(biāo)所在區(qū)域再次進(jìn)行掃描,從而得到兩組不同頻偏情況下各陣元接收的回波信號;

5)對回波進(jìn)行匹配濾波,得到基帶信號回波,根據(jù)L個回波信號快拍數(shù)據(jù)得到回波信號協(xié)方差矩陣的估計(jì)值;

6)對步驟5的估計(jì)值進(jìn)行特征值分解,根據(jù)特征值大小,把與目標(biāo)源個數(shù)K相等的特征值和其對應(yīng)的特征矢量看成信號子空間,將余下的2N-K個特征值和特征矢量作為噪聲子空間;

7)根據(jù)步驟6)得到的噪聲子空間構(gòu)造譜函數(shù),對距離和角度變化進(jìn)行逐點(diǎn)計(jì)算,尋找波峰即可完成目標(biāo)定位。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于MUSIC算法的頻率分集陣列兩層介質(zhì)目標(biāo)定位方法,其特征是,所述的步驟1)中,所構(gòu)造的頻率分集陣列的各個陣元僅接收自身發(fā)出的信號。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于MUSIC算法的頻率分集陣列兩層介質(zhì)目標(biāo)定位方法,其特征是,所述的步驟1)中,所構(gòu)造的頻率分集陣列的每個陣元的發(fā)射頻率依次線性增加,第n個陣元發(fā)射信號的載頻fn為:

fn=f0+nΔf1 n=0,1,…,N-1

式中,f0為頻率分集陣列的基準(zhǔn)載頻,Δf1為頻率分集陣列的初始頻率偏置,N為頻率分集陣列的陣元個數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于MUSIC算法的頻率分集陣列兩層介質(zhì)目標(biāo)定位方法,其特征是,步驟3)中根據(jù)折射點(diǎn)位置推導(dǎo)出兩層介質(zhì)的頻率分集陣列的發(fā)射-接收波束方向圖為:

<mfenced open = "" close = ""> <mtable> <mtr> <mtd> <mrow> <msub> <mi>F</mi> <mrow> <mi>p</mi> <mi>a</mi> <mi>t</mi> <mi>t</mi> <mi>e</mi> <mi>r</mi> <mi>n</mi> </mrow> </msub> <mrow> <mo>(</mo> <mrow> <mi>t</mi> <mo>,</mo> <msub> <mi>R</mi> <mn>0</mn> </msub> <mo>,</mo> <mi>&theta;</mi> </mrow> <mo>)</mo> </mrow> <mo>=</mo> <mi>exp</mi> <mrow> <mo>&lsqb;</mo> <mrow> <mi>j</mi> <mn>2</mn> <msub> <mi>&pi;f</mi> <mn>0</mn> </msub> <mrow> <mo>(</mo> <mrow> <mi>t</mi> <mo>-</mo> <mfrac> <mrow> <mn>2</mn> <mo>&CenterDot;</mo> <msub> <mi>R</mi> <mn>01</mn> </msub> </mrow> <msub> <mi>c</mi> <mn>1</mn> </msub> </mfrac> <mo>-</mo> <mfrac> <mrow> <mn>2</mn> <mo>&CenterDot;</mo> <msub> <mi>R</mi> <mn>02</mn> </msub> </mrow> <msub> <mi>c</mi> <mn>2</mn> </msub> </mfrac> </mrow> <mo>)</mo> </mrow> </mrow> <mo>&rsqb;</mo> </mrow> </mrow> </mtd> </mtr> <mtr> <mtd> <mrow> <mo>&CenterDot;</mo> <munderover> <mi>&Sigma;</mi> <mrow> <mi>n</mi> <mo>=</mo> <mn>0</mn> </mrow> <mrow> <mi>N</mi> <mo>-</mo> <mn>1</mn> </mrow> </munderover> <mi>exp</mi> <mrow> <mo>&lsqb;</mo> <mrow> <mi>j</mi> <mn>2</mn> <mi>&pi;</mi> <mi>n</mi> <mrow> <mo>(</mo> <mrow> <mi>&Delta;</mi> <mi>f</mi> <mi>t</mi> <mo>+</mo> <mfrac> <mrow> <mn>2</mn> <mo>&CenterDot;</mo> <msub> <mi>f</mi> <mn>0</mn> </msub> <mi>d</mi> <mi> </mi> <msub> <mi>sin&theta;</mi> <mn>2</mn> </msub> </mrow> <msub> <mi>c</mi> <mn>2</mn> </msub> </mfrac> <mo>-</mo> <mfrac> <mrow> <mn>2</mn> <mo>&CenterDot;</mo> <msub> <mi>&Delta;fR</mi> <mn>01</mn> </msub> </mrow> <msub> <mi>c</mi> <mn>1</mn> </msub> </mfrac> <mo>-</mo> <mfrac> <mrow> <mn>2</mn> <mo>&CenterDot;</mo> <msub> <mi>&Delta;fR</mi> <mn>02</mn> </msub> </mrow> <msub> <mi>c</mi> <mn>2</mn> </msub> </mfrac> </mrow> <mo>)</mo> </mrow> </mrow> <mo>&rsqb;</mo> </mrow> </mrow> </mtd> </mtr> </mtable> </mfenced>

上式中,f0為頻率分集陣列的基準(zhǔn)載頻,Δf為頻率分集陣列的初始頻率偏置,θ2為觀測目標(biāo)點(diǎn)與頻率分集陣列的參考陣元在分界面的折射點(diǎn)的法向夾角,R01為頻率分集陣列的參考陣元與其對應(yīng)的折射點(diǎn)的距離,R02為折射點(diǎn)到觀測目標(biāo)點(diǎn)的距離,c1為電磁波在介質(zhì)1的電磁波傳播速度,c2為電磁波在介質(zhì)2的電磁波傳播速度,d為頻率分集陣列的陣元間隔,n=0,1,…,N-1,N為該頻率分集陣列的陣元個數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于MUSIC算法的頻率分集陣列兩層介質(zhì)目標(biāo)定位方法,其特征是,步驟7)中,構(gòu)造噪聲子空間的譜函數(shù)為:

<mrow> <msub> <mi>P</mi> <mrow> <mi>F</mi> <mi>D</mi> <mi>A</mi> <mo>-</mo> <mi>M</mi> <mi>U</mi> <mi>S</mi> <mi>I</mi> <mi>C</mi> </mrow> </msub> <mrow> <mo>(</mo> <mi>R</mi> <mo>,</mo> <mi>&theta;</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mo>=</mo> <mfrac> <mn>1</mn> <mrow> <msup> <mi>a</mi> <mi>H</mi> </msup> <mrow> <mo>(</mo> <mi>R</mi> <mo>,</mo> <mi>&theta;</mi> <mo>)</mo> </mrow> <msub> <mi>U</mi> <mi>N</mi> </msub> <msubsup> <mi>U</mi> <mi>N</mi> <mi>H</mi> </msubsup> <mi>a</mi> <mrow> <mo>(</mo> <mi>R</mi> <mo>,</mo> <mi>&theta;</mi> <mo>)</mo> </mrow> </mrow> </mfrac> </mrow>

UN為步驟6)中2N-K個小特征值對應(yīng)的特征矢量,稱為噪聲子空間,a(R,θ)是空間中一個位置為(R,θ)的陣列流型。

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