1.一種光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，包括：操控座臺(tái)、容置腔體、樣品盒、進(jìn)氣管、紫外燈管以及吸附管；
所述容置腔體設(shè)置于所述操作座臺(tái)上；所述樣品盒設(shè)置于所述容置腔體中，所述樣品盒用于放置光阻樣品；所述進(jìn)氣管由所述操作座臺(tái)穿入所述容置腔體中，且所述進(jìn)氣管與所述樣品盒連通，所述進(jìn)氣管用于將惰性氣體通入所述樣品盒中；所述紫外燈管設(shè)置于所述容置腔體的內(nèi)表面上，所述紫外燈管用于對(duì)放置于所述樣品盒中的光阻樣品進(jìn)行紫外光曝光；所述吸附管與所述樣品盒連通，且所述吸附管穿出所述容置腔體，所述吸附管用于收集由所述惰性氣體吹出的經(jīng)紫外光曝光后的光阻樣品的碎裂物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述容置腔體包括四個(gè)側(cè)壁以及一個(gè)頂壁，所述四個(gè)側(cè)壁兩兩相對(duì)設(shè)置，所述頂壁封閉在所述四個(gè)側(cè)壁的一側(cè)，所述操作座臺(tái)封閉在所述四個(gè)側(cè)壁的另一側(cè)，以使所述操作座臺(tái)的頂表面面向所述頂壁。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述四個(gè)側(cè)壁中的至少一個(gè)被設(shè)置為能夠打開(kāi)或關(guān)閉。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述紫外燈管設(shè)置于所述能夠打開(kāi)或關(guān)閉的側(cè)壁的內(nèi)表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述進(jìn)氣管由外部穿入所述操作座臺(tái)中，并由所述操作座臺(tái)的頂表面穿出，從而穿入所述容置腔體中；所述吸附管由所述容置腔體的頂壁穿出；
在所述進(jìn)氣管由所述操作座臺(tái)的頂表面穿出之后，利用螺母在所述操作座臺(tái)的頂表面上對(duì)所述進(jìn)氣管進(jìn)行緊固；在所述吸附管由所述容置腔體的頂壁穿出之后，利用螺母在所述頂壁的外表面上對(duì)所述吸附管進(jìn)行緊固。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述樣品盒呈長(zhǎng)方體形，所述樣品盒包括：上壁、下壁、左側(cè)壁、右側(cè)壁、前側(cè)壁以及后側(cè)壁，所述進(jìn)氣管連接到所述下壁，所述吸附管連接到所述上壁；
在所述進(jìn)氣管連接到所述下壁之后，利用螺母在所述下壁的外表面上緊固所述進(jìn)氣管；在所述吸附管連接到所述上壁之后，利用螺母在所述上壁的外表面上緊固所述吸附管。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述左側(cè)壁或其部分和/或所述右側(cè)壁或其部分被設(shè)置為能夠打開(kāi)或關(guān)閉。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述光阻霧化處理設(shè)備還包括溫度探測(cè)器，所述溫度探測(cè)器設(shè)置于所述容置腔體中，以探測(cè)所述容置腔體中的溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光阻霧化處理設(shè)備，其特征在于，所述操控座臺(tái)包括：
總氣壓指示表，用于指示惰性氣體源的壓力；
電源開(kāi)關(guān)，用于控制電源的打開(kāi)或關(guān)閉；
控制鍵盤(pán)，用于設(shè)定工作溫度、光阻樣品處理時(shí)間以及所述樣品盒中的氣體流量；
溫度控制系統(tǒng)，用于將所述容置腔體中的溫度保持到所述工作溫度；
顯示屏，用于顯示工作過(guò)程中的設(shè)定參數(shù)；
啟動(dòng)開(kāi)關(guān)，用于控制對(duì)所述樣品盒中的光阻樣品進(jìn)行處理的開(kāi)始或停止。
10.一種光阻霧化處理系統(tǒng)，其特征在于，包括惰性氣體源以及權(quán)力要求1至9任一項(xiàng)所述的光阻霧化處理設(shè)備，所述光阻霧化處理設(shè)備的進(jìn)氣管與所述惰性氣體源連通。