1.一種正電子發(fā)射斷層成像系統(tǒng)飛行時(shí)間性能檢測(cè)方法，包括：
使用該系統(tǒng)對(duì)活度規(guī)則分布的受檢對(duì)象進(jìn)行數(shù)據(jù)采集；
將采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行有飛行時(shí)間信息的反投影操作，獲取第一反投影數(shù)據(jù)；
將采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行無(wú)飛行時(shí)間信息的反投影操作，獲取第二反投影數(shù)據(jù)；
將第一及第二反投影數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比，根據(jù)對(duì)比數(shù)據(jù)獲取系統(tǒng)的飛行時(shí)間性能。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，所述受檢對(duì)象為活度沿物體幾何中心對(duì)稱分布的有源模體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，所述有源模體為桶源、棒源或柱源。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，所述受檢體放置于系統(tǒng)視場(chǎng)中心位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，所述將第一及第二反投影數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比包括：將受檢體圖像體素的第一反投影數(shù)據(jù)體素值比較其第二反投影數(shù)據(jù)體素值，獲得該體素比例值及受檢體整體的比例圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，所述根據(jù)對(duì)比數(shù)據(jù)獲取系統(tǒng)的飛行時(shí)間性能包括：根據(jù)所述比例圖像截面的對(duì)稱性判斷系統(tǒng)飛行時(shí)間性能。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，根據(jù)所述比例圖像多個(gè)截面的對(duì)稱性判斷系統(tǒng)飛行時(shí)間性能。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，選取有限角度采集數(shù)據(jù)進(jìn)行反投影操作。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的性能檢測(cè)方法，其特征在于，進(jìn)行所述反投影操作時(shí)，包括進(jìn)行歸一化校正、衰減校正或系統(tǒng)死時(shí)間校正中的至少一種。
10.一種正電子發(fā)射斷層成像系統(tǒng)飛行時(shí)間性能檢測(cè)裝置，包括：
數(shù)據(jù)采集單元，用于控制該系統(tǒng)對(duì)活度規(guī)則分布的受檢對(duì)象進(jìn)行數(shù)據(jù)采集；
第一反投影單元，用于將采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行有飛行時(shí)間信息的反投影操作，獲取第一反投影數(shù)據(jù)；
第二反投影單元，用于將采集的數(shù)據(jù)進(jìn)行無(wú)飛行時(shí)間信息的反投影操作，獲取第二反投影數(shù)據(jù)；
對(duì)比單元，用于將第一及第二反投影數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比，根據(jù)對(duì)比數(shù)據(jù)獲取系統(tǒng)的飛行時(shí)間性能。