本發(fā)明涉及地球物理探測(cè)
技術(shù)領(lǐng)域：
，具體而言，涉及一種基于空間域相位校正的孔隙成像方法及裝置。
背景技術(shù)：
：近年來(lái)，微納CT技術(shù)更廣泛的應(yīng)用于包括地質(zhì)、地球化學(xué)、地球物理等領(lǐng)域，以頁(yè)巖為例，由于其特殊的頁(yè)巖油氣存儲(chǔ)方式，對(duì)于其內(nèi)部納米級(jí)孔喉分布的狀況的研究極為重要。傳統(tǒng)的方法很難無(wú)損的實(shí)現(xiàn)頁(yè)巖微納孔隙研究，即使是用X射線掃描也存在分辨率不夠、信噪比低及弱吸收物體難成像等問(wèn)題，而且當(dāng)物體與檢測(cè)器有一定距離時(shí)，會(huì)存在嚴(yán)重的相位干擾問(wèn)題。目前利用相位信息對(duì)X射線投影數(shù)據(jù)進(jìn)行處理的方法多采用頻率域的濾波方法，該種方法通過(guò)濾波函數(shù)消除相位影響，其結(jié)果存在成像分辨率有限、易受局部值干擾以及結(jié)果不穩(wěn)定等問(wèn)題，很難精確地實(shí)現(xiàn)頁(yè)巖的微納孔隙研究。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種基于空間域相位校正的孔隙成像方法及裝置。一方面，本發(fā)明較佳實(shí)施例提供一種基于空間域相位校正的孔隙成像方法，該方法包括：對(duì)樣品進(jìn)行X射線掃描，得到該樣品的投影數(shù)據(jù)；利用所述X射線的光強(qiáng)傳輸方程構(gòu)造相位對(duì)于所述投影數(shù)據(jù)的干擾模型；對(duì)所述干擾模型進(jìn)行空間域的離散化處理，得到該干擾模型的空間域離散化算子方程；對(duì)所述空間域離散化算子方程進(jìn)行正則化，以建立需要最小化的目標(biāo)函數(shù)，并預(yù)設(shè)該目標(biāo)函數(shù)中正則化因子的初始值；建立基于先驗(yàn)噪聲和所述正則化因子的偏差方程；將所述投影數(shù)據(jù)及正則化因子的初始值作為輸入數(shù)據(jù)代入所述目標(biāo)函數(shù)對(duì)應(yīng)的歐拉方程，并利用牛頓法對(duì)該歐拉方程及所述偏差方程進(jìn)行迭代求解，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述正則化因子的后驗(yàn)迭代選取，最后再根據(jù)后驗(yàn)迭代選取后得到的所述正則化因子的最終值得到相位校正后的投影數(shù)據(jù)；利用濾波反投影算法對(duì)所述相位校正后的投影數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，得到所述樣品的圖像。另一方面，本發(fā)明較佳實(shí)施例提供一種基于空間域相位校正的孔隙成像裝置，該裝置包括：投影數(shù)據(jù)獲取模塊，用于對(duì)樣品進(jìn)行X射線掃描，得到該樣品的投影數(shù)據(jù)；干擾模型構(gòu)造模塊，用于利用所述X射線的光強(qiáng)傳輸方程構(gòu)造相位對(duì)于所述投影數(shù)據(jù)的干擾模型；空間域離散化處理模塊，用于對(duì)所述干擾模型進(jìn)行空間域的離散化處理，得到該干擾模型的空間域離散化算子方程；正則化處理模塊，用于對(duì)所述空間域離散化算子方程進(jìn)行正則化，以建立需要最小化的目標(biāo)函數(shù)，并預(yù)設(shè)該目標(biāo)函數(shù)中正則化因子的初始值；偏差方程構(gòu)建模塊，用于建立基于先驗(yàn)噪聲和所述正則化因子的偏差方程；迭代求解模塊，用于將所述投影數(shù)據(jù)及正則化因子的初始值作為輸入數(shù)據(jù)代入所述目標(biāo)函數(shù)對(duì)應(yīng)的歐拉方程，并利用牛頓法對(duì)該歐拉方程及所述偏差方程進(jìn)行迭代求解，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述正則化因子的后驗(yàn)迭代選取，最后再根據(jù)后驗(yàn)迭代選取后得到的所述正則化因子的最終值得到相位校正后的投影數(shù)據(jù)；圖像顯示模塊，用于利用濾波反投影算法對(duì)所述相位校正后的投影數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，得到所述樣品的圖像。本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的基于空間域相位校正的孔隙成像方法及裝置，通過(guò)對(duì)樣品的X射線掃描投影數(shù)據(jù)進(jìn)行空間域的相位校正，實(shí)現(xiàn)提高樣品孔隙成像的分辨率、降低相位信息干擾以及減小相對(duì)誤差的目的，同時(shí)該種投影數(shù)據(jù)處理方式具有較佳的抗噪聲性能和較快的收斂速度，更易識(shí)別樣品內(nèi)部的微細(xì)結(jié)構(gòu)，能夠?qū)悠返募{米級(jí)孔喉、毫米-微米級(jí)孔隙進(jìn)行較為精細(xì)的刻畫(huà)。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本發(fā)明的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的用于實(shí)現(xiàn)基于空間域相位校正的孔隙成像方法的數(shù)據(jù)處理設(shè)備與光強(qiáng)檢測(cè)器的示意性連接框圖；圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的基于空間域相位校正的孔隙成像方法的流程圖；圖3為本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的基于空間域相位校正的孔隙成像裝置的功能模塊框圖。附圖標(biāo)記：具體實(shí)施方式為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。通常在此處附圖中描述和示出的本發(fā)明實(shí)施例的組件可以以各種不同的配置來(lái)布置和設(shè)計(jì)。應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步定義和解釋。如圖1所示，是本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的數(shù)據(jù)處理設(shè)備100與光強(qiáng)檢測(cè)器200的示意性連接框圖。所述數(shù)據(jù)處理設(shè)備100可以是計(jì)算機(jī)或其他任意能夠?qū)崿F(xiàn)數(shù)據(jù)計(jì)算的設(shè)備，具體地，該數(shù)據(jù)處理設(shè)備100包括存儲(chǔ)器110、處理器120以及基于空間域相位校正的孔隙成像裝置130。所述存儲(chǔ)器110、處理器120、光強(qiáng)檢測(cè)器200相互之間通過(guò)一條或多條通訊總線或信號(hào)線實(shí)現(xiàn)電性連接。所述基于空間域相位校正的孔隙成像裝置130包括至少一個(gè)可以軟件或固件(firmware)的形式存儲(chǔ)于所述存儲(chǔ)器110中或固化在所述數(shù)據(jù)處理設(shè)備100的操作系統(tǒng)(operatingsystem，OS)中的軟件功能模塊。所述處理器120用于執(zhí)行存儲(chǔ)器110中存儲(chǔ)的可執(zhí)行模塊，例如所述基于空間域相位校正的孔隙成像裝置130包括的軟件功能模塊或計(jì)算機(jī)程序。存儲(chǔ)器110可以是，但不限于，隨機(jī)存取存儲(chǔ)器、只讀存儲(chǔ)器、可編程只讀存儲(chǔ)器、可擦除只讀存儲(chǔ)器等。所述存儲(chǔ)器110用于存儲(chǔ)程序，所述處理器120在接收到執(zhí)行指令后，執(zhí)行所述程序，下述本發(fā)明實(shí)施例揭示的流過(guò)程定義的數(shù)據(jù)處理設(shè)備100所執(zhí)行的方法可以應(yīng)用于處理器120中，或者由處理器120實(shí)現(xiàn)。處理器120可能是一種集成電路芯片，具有信號(hào)的處理能力，如中央處理器、微處理器等，可以實(shí)現(xiàn)或者執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例中的公開(kāi)的各方法、步驟及邏輯框圖。請(qǐng)參閱圖2，是本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的使用所述數(shù)據(jù)處理設(shè)備100及檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)的基于空間域相位校正的孔隙成像方法的流程圖。所應(yīng)說(shuō)明的是，本發(fā)明所述的基于空間域相位校正的孔隙成像方法并不以圖2及以下所述的具體順序?yàn)橄拗?。下面將?duì)圖2所示的具體流程進(jìn)行詳細(xì)描述。步驟S101，對(duì)樣品進(jìn)行X射線掃描，得到該樣品的投影數(shù)據(jù)。較佳地，在實(shí)驗(yàn)室條件下對(duì)樣品進(jìn)行X射線掃描，得到包含相位信息的原始投影數(shù)據(jù)。所述樣品是指巖石樣品，如可以是頁(yè)巖樣品，但不限制于此。該原始投影數(shù)據(jù)受實(shí)驗(yàn)室條件下的噪聲、X射線光源的亮暗場(chǎng)噪聲、裝置位置偏移以及一些無(wú)法預(yù)知的噪聲的干擾，存在一定的誤差。其中，X射線光源的亮暗場(chǎng)噪聲和裝置位置偏移這兩種干擾因素可以通過(guò)對(duì)原始投影數(shù)據(jù)的去噪校正處理來(lái)降低其帶來(lái)的誤差?；诖?，本實(shí)施例中，所得到的投影數(shù)據(jù)為對(duì)所述原始投影數(shù)據(jù)進(jìn)行去噪校正處理后的數(shù)據(jù)。步驟S103，利用所述X射線的光強(qiáng)傳輸方程構(gòu)造相位對(duì)于所述投影數(shù)據(jù)的干擾模型?？紤]到樣品內(nèi)部的孔隙結(jié)構(gòu)可能復(fù)雜多樣，在具體操作中，首先根據(jù)X射線的光強(qiáng)及樣品的先驗(yàn)信息選定相位移動(dòng)吸收比。所述先驗(yàn)信息包括所述樣品主要成分的線性吸收系數(shù)和吸收邊信息，并對(duì)該相位移動(dòng)吸收比做單一性假設(shè)，再根據(jù)X射線的光強(qiáng)和光強(qiáng)傳播方程TIE構(gòu)造相位對(duì)于投影數(shù)據(jù)的干擾模型，表示為：其中，表示在實(shí)驗(yàn)室條件下對(duì)所述樣品進(jìn)行X射線掃描后得到的去噪校正后的投影數(shù)據(jù)，為X射線透過(guò)所述樣品后光強(qiáng)檢測(cè)器200記錄的剩余光強(qiáng)，Iin為X射線的入射光強(qiáng)，error為實(shí)驗(yàn)室噪聲，f＝e-μT(r)表示相位校正投影數(shù)據(jù)，d為所述樣品與所述檢測(cè)器之間的距離，δ為所述樣品的相位因子，為拉普拉斯算子，μ為所述樣品的線性吸收系數(shù)，T(r)為所述樣品的投影厚度，r表示所述樣品在投影平面的幾何坐標(biāo)。步驟S105，對(duì)所述干擾模型進(jìn)行空間域的離散化處理，得到該干擾模型的空間域離散化算子方程。所述干擾模型方程為連續(xù)方程，其中包括的拉普拉斯算子對(duì)f進(jìn)行二階微分。為便于通過(guò)計(jì)算機(jī)求解，對(duì)該拉普拉斯算子進(jìn)行空間域離散化處理，具體地，在空間域采用周圍五點(diǎn)進(jìn)行加權(quán)表達(dá)，得出的空間域離散化表達(dá)形式：∂2fi,j∂x2≈∂2f∂x2=1(Δx)2(a1fi,j+a2fi+1,j+a3fi+2,j+a4fi-1,j+a5fi-2,j)∂2fi,j∂y2≈∂2f∂y2=1(Δy)2(a1fi,j+a2fi,j+1+a3fi,j+2+a4fi,j-1+a5fi,j-2)]]>其中，i,j表示不同方向的網(wǎng)格點(diǎn)。將所述干擾模型中的設(shè)置為所述的空間域離散化表達(dá)形式，得到所述干擾模型的空間域離散化算子方程ue＝Αf+error，其中Α為空間域離散化算子?；谠摳蓴_模型的空間域離散化處理，在成像過(guò)程中，每個(gè)像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的實(shí)際尺度可以達(dá)到50nm，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)納米尺度的樣品內(nèi)部孔隙成像。步驟S107，對(duì)所述空間域離散化算子方程進(jìn)行正則化，以建立需要最小化的目標(biāo)函數(shù)，并預(yù)設(shè)該目標(biāo)函數(shù)中正則化因子的初始值。由于所述空間域離散化算子方程具有不適定性，所以采用正則化方法進(jìn)行優(yōu)化求解。具體地，本實(shí)施例中，對(duì)所述空間域離散化算子方程采用吉洪諾夫正則化方法建立需要最小化的目標(biāo)函數(shù)：其中，為目標(biāo)函數(shù)，數(shù)學(xué)符號(hào):＝表示定義，u表示含有相位信息的投影數(shù)據(jù)，α為正則化因子且α>0，根據(jù)樣品的離散化程度及主要物質(zhì)的先驗(yàn)信息設(shè)定該正則化因子的初始值為α0。所述目標(biāo)函數(shù)對(duì)應(yīng)的歐拉方程為：(A*A+αI)(fα-f0)=A*(ue-Af0)(A*A+αI)fα′=-fα]]>其中Α*表示Α的伴隨矩陣，fα表示根據(jù)當(dāng)前正則化因子α計(jì)算出的相位校正投影數(shù)據(jù)f，f′α為fα的一階導(dǎo)數(shù)，f0為預(yù)設(shè)常量，I為單位矩陣。步驟S109，建立基于先驗(yàn)噪聲和所述正則化因子的偏差方程。采用Morozov偏差原則，建立基于先驗(yàn)噪聲和正則化因子α的偏差方程，表示為：其中，e代表所述先驗(yàn)噪聲且為預(yù)設(shè)常量，||error||≤e≤||ue||。步驟S111，將所述投影數(shù)據(jù)及正則化因子的初始值作為輸入數(shù)據(jù)代入所述目標(biāo)函數(shù)對(duì)應(yīng)的歐拉方程進(jìn)行求解，并利用牛頓法對(duì)所述偏差方程進(jìn)行迭代求解，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述正則化因子的后驗(yàn)迭代選取，最后再根據(jù)后驗(yàn)迭代選取后得到的所述正則化因子的最終值得到相位校正后的投影數(shù)據(jù)。對(duì)所述正則化因子α進(jìn)行后驗(yàn)迭代選取的具體求解過(guò)程包括：(1)輸入正則化因子的初始值為α0，先驗(yàn)噪聲e，正則化因子收斂條件ε，迭代中斷次數(shù)kmax，X射線角度angelmax，令k:＝0，angel:＝1。(2)將α0代入所述目標(biāo)函數(shù)對(duì)應(yīng)的歐拉方程，得到：(A*A+α0I)(fα0-f0)=A*(ue-Af0)(A*A+α0I)fα0′=-fα0]]>再令f0等于0，并通過(guò)高斯消元法求解該歐拉方程得到需要說(shuō)明的是，于不同實(shí)施方式中，f0可以設(shè)置為不同的常量，并不限制于設(shè)置為0。(3)根據(jù)迭代式及計(jì)算求出α1。迭代式中的參量k表示迭代次數(shù)，αk表示第k次迭代時(shí)的正則化因子，αk+1表示第k+1次迭代時(shí)的正則化因子，(·,·)表示內(nèi)積。(4)將該α1代入步驟(2)的歐拉方程中，求解出并根據(jù)所述迭代式及該計(jì)算得到α2。如此不斷重復(fù)步驟(2)及(3)，直至||αk+1-αk||<ε或者kmax＝k時(shí)，跳至步驟(5)。(5)輸出如果angelmax＝angel，停止，否則，angel＝angel+1，跳回步驟(2)。步驟S113，利用濾波反投影算法對(duì)所述相位校正后的投影數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，得到所述樣品的圖像。請(qǐng)參閱圖3，是本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的基于空間域相位校正的孔隙成像裝置130的功能模塊框圖。所述基于空間域相位校正的孔隙成像裝置130包括投影數(shù)據(jù)獲取模塊131、干擾模型構(gòu)造模塊132、空間域離散化處理模塊133、正則化處理模塊134、偏差方程構(gòu)建模塊135、迭代求解模塊136、圖像顯示模塊137。下面將對(duì)圖3所示的各個(gè)功能模塊進(jìn)行詳細(xì)闡述。所述投影數(shù)據(jù)獲取模塊131，用于對(duì)樣品進(jìn)行X射線掃描，得到該樣品的投影數(shù)據(jù)。具體地，該投影數(shù)據(jù)獲取模塊131可用于執(zhí)行圖2所示的步驟S101，具體的操作方法可參照上述對(duì)步驟S101的詳細(xì)描述。所述干擾模型構(gòu)造模塊132，用于利用所述X射線的光強(qiáng)傳輸方程構(gòu)造相位對(duì)于所述投影數(shù)據(jù)的干擾模型。具體地，該干擾模型構(gòu)造模塊132可用于執(zhí)行圖2所示的步驟S103，具體的操作方法可參照上述對(duì)步驟S103的詳細(xì)描述。所述空間域離散化處理模塊133，用于對(duì)所述干擾模型進(jìn)行空間域的離散化處理，得到該干擾模型的空間域離散化算子方程。具體地，該空間域離散化處理模塊133可用于執(zhí)行圖2所示的步驟S105，具體的操作方法可參照上述對(duì)步驟S105的詳細(xì)描述。所述正則化處理模塊134，用于對(duì)所述空間域離散化算子方程進(jìn)行正則化，以建立需要最小化的目標(biāo)函數(shù)，并預(yù)設(shè)該目標(biāo)函數(shù)中正則化因子的初始值。具體地，該正則化處理模塊134可用于執(zhí)行圖2所示的步驟S107，具體的操作方法可參照上述對(duì)步驟S107的詳細(xì)描述。所述偏差方程構(gòu)建模塊135，用于建立基于先驗(yàn)噪聲和所述正則化因子的偏差方程。具體地，該偏差方程構(gòu)建模塊135可用于執(zhí)行圖2所示的步驟S109，具體的操作方法可參照上述對(duì)步驟S109的詳細(xì)描述。所述迭代求解模塊136，用于將所述投影數(shù)據(jù)及正則化因子的初始值作為輸入數(shù)據(jù)代入所述目標(biāo)函數(shù)對(duì)應(yīng)的歐拉方程進(jìn)行求解，并利用牛頓法對(duì)所述偏差方程進(jìn)行迭代求解，以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述正則化因子的后驗(yàn)迭代選取，最后再根據(jù)后驗(yàn)迭代選取后得到的所述正則化因子的最終值得到相位校正后的投影數(shù)據(jù)。具體地，該迭代求解模塊136可用于執(zhí)行圖2所示的步驟S111，具體的操作方法可參照上述對(duì)步驟S111的詳細(xì)描述。所述圖像顯示模塊137，用于利用濾波反投影算法對(duì)所述相位校正后的投影數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，得到所述樣品的圖像。具體地，該圖像顯示模塊137可用于執(zhí)行圖2所示的步驟S113，具體的操作方法可參照上述對(duì)步驟S113的詳細(xì)描述。本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的基于空間域相位校正的孔隙成像方法及裝置，對(duì)干擾方程建立基于空間域的求解模型，并通過(guò)吉洪諾夫正則化方法及迭代法進(jìn)行求解，得到了具有較高分辨率、結(jié)果穩(wěn)定及收斂速度較快的成像結(jié)果，實(shí)現(xiàn)提高樣品孔隙成像的分辨率、降低相位信息干擾以及減小相對(duì)誤差的目的，能夠?qū)悠返募{米級(jí)孔喉、毫米-微米級(jí)孔隙進(jìn)行較為精細(xì)的刻畫(huà)。附圖中的流程圖和結(jié)構(gòu)框圖顯示了根據(jù)本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的方法、裝置和計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品的可能實(shí)現(xiàn)的體系架構(gòu)、功能和操作。在這點(diǎn)上，流程圖或框圖中的每個(gè)方框可以代表一個(gè)模塊、程序段或代碼的一部分，所述模塊、程序段或代碼的一部分包含一個(gè)或多個(gè)用于實(shí)現(xiàn)規(guī)定的邏輯功能的可執(zhí)行指令。也應(yīng)當(dāng)注意，在有些作為替換的實(shí)現(xiàn)中，方框中所標(biāo)注的功能也可以以不同于附圖中所標(biāo)注的順序發(fā)生。例如，兩個(gè)連續(xù)的方框?qū)嶋H上可以基本并行地執(zhí)行，它們有時(shí)也可以按相反的順序執(zhí)行，這依所涉及的功能而定。也要注意的是，框圖和/或流程圖中的每個(gè)方框、以及框圖和/或流程圖中的方框的組合，可以用執(zhí)行規(guī)定的功能或動(dòng)作的專用的基于硬件的系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，或者可以用專用硬件與計(jì)算機(jī)指令的組合來(lái)實(shí)現(xiàn)。在本申請(qǐng)所提供的幾個(gè)實(shí)施例中，應(yīng)該理解到，所揭露方法和裝置，可以通過(guò)其它的方式實(shí)現(xiàn)。以上所描述的裝置實(shí)施例僅僅是示意性的，例如，所述單元的劃分，僅僅為一種邏輯功能劃分，實(shí)際實(shí)現(xiàn)時(shí)可以有另外的劃分方式，又例如，多個(gè)單元或組件可以結(jié)合或者可以集成到另一個(gè)系統(tǒng)，或一些特征可以忽略，或不執(zhí)行。另一點(diǎn)，所顯示或討論的相互之間的耦合或直接耦合或通信連接可以是通過(guò)一些通信接口，裝置或單元的間接耦合或通信連接，可以是電性，機(jī)械或其它的形式。另外，在本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例中的各功能單元可以集成在一個(gè)處理單元中，也可以是各個(gè)單元單獨(dú)物理存在，也可以兩個(gè)或兩個(gè)以上單元集成在一個(gè)單元中。所述功能如果以軟件功能單元的形式實(shí)現(xiàn)并作為獨(dú)立的產(chǎn)品銷售或使用時(shí)，可以存儲(chǔ)在一個(gè)計(jì)算機(jī)可讀取存儲(chǔ)介質(zhì)中?；谶@樣的理解，本發(fā)明的技術(shù)方案本質(zhì)上或者說(shuō)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻(xiàn)的部分或者該技術(shù)方案的部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來(lái)，該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品存儲(chǔ)在一個(gè)存儲(chǔ)介質(zhì)中，包括若干指令用以使得一臺(tái)計(jì)算機(jī)設(shè)備(可以是個(gè)人計(jì)算機(jī)，服務(wù)器，或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例所述方法的全部或部分步驟。以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本
技術(shù)領(lǐng)域：
的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3