1.一種用于對(duì)在目標(biāo)襯底上的有缺陷裸片中檢測(cè)到的缺陷進(jìn)行自動(dòng)化復(fù)檢的方法，所述方法包括：
獲得包含所述缺陷的位置的結(jié)果文件；
使用次級(jí)電子顯微鏡SEM執(zhí)行所述缺陷的自動(dòng)化復(fù)檢以便獲得所述缺陷的電子束圖像；
執(zhí)行基于如根據(jù)所述電子束圖像確定的所述缺陷的形態(tài)而將所述缺陷自動(dòng)化分類成若干類型；
選擇特定類型的缺陷以用于自動(dòng)化能量分散式x射線EDX復(fù)檢；及
對(duì)所述特定類型的所述缺陷執(zhí)行所述自動(dòng)化EDX復(fù)檢。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中執(zhí)行所述自動(dòng)化EDX復(fù)檢包括，針對(duì)所述特定類型的每一缺陷：
移動(dòng)到缺陷位點(diǎn)；
從所述缺陷位點(diǎn)獲得EDX光譜；
從所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到參考位點(diǎn)；
從所述參考位點(diǎn)獲得所述EDX光譜；及
從來自所述缺陷位點(diǎn)的所述EDX光譜及來自所述參考位點(diǎn)的所述EDX光譜產(chǎn)生差光譜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述缺陷位點(diǎn)被指示為處于重復(fù)單元陣列中，且其中通過以下方式執(zhí)行從所述缺陷位點(diǎn)到所述參考位點(diǎn)的所述移動(dòng)：使初級(jí)電子束沿一個(gè)方向偏轉(zhuǎn)單元尺寸，使得所述參考位點(diǎn)處于鄰近單元中對(duì)應(yīng)于所述缺陷位點(diǎn)的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述缺陷位點(diǎn)被指示為處于非陣列經(jīng)圖案化結(jié)構(gòu)中，所述方法進(jìn)一步包括：
進(jìn)行電子束成像以獲得圍繞所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點(diǎn)的區(qū)域的第一圖像；
進(jìn)行電子束成像以獲得圍繞鄰近裸片上的所述參考位點(diǎn)的區(qū)域的第二圖像；及
在將所述第二圖像對(duì)準(zhǔn)到所述第一圖像之后，確定所述第二圖像中的所述參考位點(diǎn)的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中通過以下方式執(zhí)行從所述缺陷位點(diǎn)到所述參考位點(diǎn)的所述移動(dòng)：使固持所述目標(biāo)襯底的載臺(tái)平移以便使所述SEM的視場(chǎng)從所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到所述鄰近裸片上的所述參考位點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其進(jìn)一步包括：
針對(duì)所述特定類型的每一缺陷從所述差光譜導(dǎo)出元素信息。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其進(jìn)一步包括：
產(chǎn)生組合形態(tài)信息與元素信息的缺陷帕累托。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中產(chǎn)生所述缺陷帕累托包括：
取決于元素信息基于所述缺陷的所述形態(tài)而將所述特定類型的缺陷劃分成多個(gè)類型。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述缺陷帕累托包括缺陷頻率與類型關(guān)系的條形圖。
10.一種用于對(duì)在目標(biāo)襯底上檢測(cè)到的缺陷進(jìn)行自動(dòng)化復(fù)檢的設(shè)備，所述設(shè)備包括：
電子束柱，其用于產(chǎn)生初級(jí)電子束且將所述初級(jí)電子束聚焦到所述目標(biāo)襯底的表面上；
可移動(dòng)載臺(tái)，其用于將所述目標(biāo)襯底固持在所述初級(jí)電子束下方；
偏轉(zhuǎn)器，其用于使所述初級(jí)電子束偏轉(zhuǎn)；
電子檢測(cè)器，其用于檢測(cè)由于所述初級(jí)電子束的碰撞而從所述目標(biāo)襯底的所述表面發(fā)射的次級(jí)電子；
x射線檢測(cè)器，其經(jīng)配置以檢測(cè)由于所述初級(jí)電子束的碰撞而從所述目標(biāo)襯底的所述表面發(fā)射的x射線；及
控制系統(tǒng)，其包括用于存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)可讀代碼及數(shù)據(jù)的非暫態(tài)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置且進(jìn)一步包括用于執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)可讀代碼的處理器，其中所述計(jì)算機(jī)可讀代碼包括用以進(jìn)行以下操作的指令：
獲得結(jié)果文件，所述結(jié)果文件包含在所述目標(biāo)襯底上的有缺陷裸片中檢測(cè)到的所述缺陷的位置；
執(zhí)行所述缺陷的自動(dòng)化次級(jí)電子顯微鏡SEM復(fù)檢以便獲得所述缺陷的電子束圖像；
執(zhí)行基于如根據(jù)所述電子束圖像確定的所述缺陷的形態(tài)而將所述缺陷自動(dòng)化分類成若干類型；
選擇特定類型的缺陷以用于自動(dòng)化能量分散式x射線EDX復(fù)檢；及
對(duì)所述特定類型的所述缺陷執(zhí)行所述自動(dòng)化EDX復(fù)檢。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中所述用以執(zhí)行所述自動(dòng)化EDX復(fù)檢的指令進(jìn)一步包括用以進(jìn)行以下操作的指令：
移動(dòng)到缺陷位點(diǎn)；
從所述缺陷位點(diǎn)獲得EDX光譜；
從所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到參考位點(diǎn)；
從所述參考位點(diǎn)獲得所述EDX光譜；及
從來自所述缺陷位點(diǎn)的所述EDX光譜及來自所述參考位點(diǎn)的所述EDX光譜產(chǎn)生差光譜。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述缺陷位點(diǎn)被指示為處于重復(fù)單元陣列中，且其中所述用以從所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到所述參考位點(diǎn)的指令包括用以使初級(jí)電子束沿一個(gè)方向偏轉(zhuǎn)單元尺寸的指令。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述缺陷位點(diǎn)被指示為處于非陣列經(jīng)圖案化結(jié)構(gòu)中，且其中所述用以執(zhí)行所述自動(dòng)化EDX復(fù)檢的指令進(jìn)一步包括用以進(jìn)行以下操作的指令：
使用電子束成像來獲得圍繞所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點(diǎn)的區(qū)域的第一圖像；
使用電子束成像來獲得圍繞鄰近裸片上的所述參考位點(diǎn)的區(qū)域的第二圖像；及
在將所述第二圖像對(duì)準(zhǔn)到所述第一圖像之后，確定所述第二圖像中的所述參考位點(diǎn)的位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其中所述用以從所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到所述參考位點(diǎn)的指令包括用以使固持所述目標(biāo)襯底的所述載臺(tái)平移以便使所述SEM的視場(chǎng)從所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到所述鄰近裸片上的所述參考位點(diǎn)的指令。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述用以執(zhí)行所述自動(dòng)化EDX復(fù)檢的指令進(jìn)一步包括用以進(jìn)行以下操作的指令：
針對(duì)所述特定類型的每一缺陷從所述差光譜導(dǎo)出元素信息。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其中所述用以執(zhí)行所述自動(dòng)化EDX復(fù)檢的指令進(jìn)一步包括用以進(jìn)行以下操作的指令：
產(chǎn)生組合形態(tài)信息與元素信息的缺陷帕累托。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其中所述用以產(chǎn)生所述缺陷帕累托的指令進(jìn)一步包括用以進(jìn)行以下操作的指令：
取決于元素信息基于所述缺陷的所述形態(tài)而將所述特定類型的缺陷劃分成多個(gè)類型。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其中所述缺陷帕累托包括缺陷頻率與類型關(guān)系的條形圖。
19.一種對(duì)有缺陷裸片上的缺陷進(jìn)行自動(dòng)化能量分散式x射線EDX復(fù)檢的方法，所述方法在計(jì)算機(jī)可讀指令的控制下是自動(dòng)化的且包括：
移動(dòng)到缺陷位點(diǎn)；
從所述缺陷位點(diǎn)獲得EDX光譜；
從所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到參考位點(diǎn)；
從所述參考位點(diǎn)獲得所述EDX光譜；及
從來自所述缺陷位點(diǎn)的所述EDX光譜及來自所述參考位點(diǎn)的所述EDX光譜產(chǎn)生差光譜。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中所述缺陷位點(diǎn)被指示為處于重復(fù)單元陣列中，且其中通過以下方式執(zhí)行所述從所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到所述參考位點(diǎn)：使初級(jí)電子束沿一個(gè)方向偏轉(zhuǎn)單元尺寸使得所述參考位點(diǎn)處于鄰近單元中對(duì)應(yīng)于所述缺陷位點(diǎn)的位置。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中所述缺陷位點(diǎn)被指示為處于非陣列經(jīng)圖案化結(jié)構(gòu)中，所述方法進(jìn)一步包括：
進(jìn)行電子束成像以獲得圍繞所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點(diǎn)的區(qū)域的第一圖像；
進(jìn)行電子束成像以獲得圍繞鄰近裸片上的所述參考位點(diǎn)的區(qū)域的第二圖像；及
在將所述第二圖像對(duì)準(zhǔn)到所述第一圖像之后，確定所述第二圖像中的所述參考位點(diǎn)的位置。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中通過以下方式執(zhí)行所述從所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到所述參考位點(diǎn)：使固持所述目標(biāo)襯底的載臺(tái)平移以便使掃描電子顯微鏡的視場(chǎng)從所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點(diǎn)移動(dòng)到所述鄰近裸片上的所述參考位點(diǎn)。