本發(fā)明涉及光學(xué)干涉測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法及裝置。

背景技術(shù)：

高精度光學(xué)成像鏡頭通常由多個(gè)光學(xué)透鏡組成，為了達(dá)到理想的成像質(zhì)量，要求光學(xué)鏡頭的透射波前達(dá)到衍射極限，而光學(xué)玻璃的材料均勻性是光學(xué)鏡頭透射波前誤差的主要來(lái)源之一。此外，采用零位補(bǔ)償鏡法檢測(cè)非球面鏡面形時(shí)，為了獲得高精度非球面面形檢測(cè)結(jié)果，需要校正零位補(bǔ)償鏡的各種誤差源，其中就包括補(bǔ)償鏡玻璃材料均勻性對(duì)補(bǔ)償鏡非球面波前的影響。在上述應(yīng)用領(lǐng)域，光學(xué)玻璃材料均勻性的絕對(duì)檢測(cè)技術(shù)是研制高精度光學(xué)成像鏡頭和零位補(bǔ)償鏡不可或缺的重要環(huán)節(jié)。

現(xiàn)有技術(shù)中，通常利用基于移相干涉儀的透射法檢測(cè)光學(xué)玻璃材料均勻性，該方法通過(guò)幾次不同配置的檢測(cè)可以消除干涉儀、光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)具、被檢鏡兩表面面形在檢測(cè)過(guò)程中引入的系統(tǒng)誤差，從而實(shí)現(xiàn)光學(xué)玻璃材料均勻性的絕對(duì)檢測(cè)。針對(duì)大口徑光學(xué)玻璃材料均勻性的檢測(cè)，直接利用大口徑干涉儀解決上述問(wèn)題成本太高，現(xiàn)有技術(shù)甚至無(wú)法制造滿足口徑和測(cè)試精度要求的干涉儀和光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)具，因此通常采用基于小口徑干涉儀結(jié)合子孔徑拼接技術(shù)解決大口徑光學(xué)玻璃材料均勻性的檢測(cè)問(wèn)題。然而，上述解決方案無(wú)法高精度測(cè)試材料均勻性中的離焦和像散，而且由于被檢鏡移動(dòng)時(shí)傾斜姿態(tài)容易發(fā)生變化，導(dǎo)致拼接過(guò)程在最終的均勻性檢測(cè)結(jié)果中留下不連續(xù)的拼接痕跡，從而導(dǎo)致均勻性測(cè)試誤差增大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法及裝置。

本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法，所述方法包括：

將待檢測(cè)光學(xué)玻璃進(jìn)行拋光得到平行平板作為被檢鏡；

將所述被檢鏡至少劃分為三個(gè)子孔徑區(qū)域，其中，相鄰的兩個(gè)子孔徑區(qū)域具有重疊區(qū)域；

獲取每個(gè)子孔徑區(qū)域的材料均勻性；

利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算以獲得所述大口徑光學(xué)玻璃的材料均勻性。

可選地，所述將待檢測(cè)光學(xué)玻璃進(jìn)行拋光得到平行平板作為被檢鏡具體包括：將待檢測(cè)光學(xué)玻璃的上下表面進(jìn)行拋光得到平行平板作為被檢鏡。

可選地，所述獲取每個(gè)子孔徑區(qū)域的材料均勻性具體包括：

調(diào)整所述被檢鏡的位置使得所述多個(gè)子孔徑區(qū)域中的任一個(gè)子孔徑區(qū)域與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋；

調(diào)節(jié)反射平面鏡頭位置使得所述反射平面鏡頭與所述透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，其中，所述透射平面鏡頭與所述被檢鏡前表面形成第一干涉腔，所述被檢鏡上下兩個(gè)表面形成第二干涉腔，所述被檢鏡后表面與所述反射平面鏡頭形成第三干涉腔；

根據(jù)波長(zhǎng)移相干涉原理計(jì)算得出所述第一干涉腔、所述第二干涉腔及所述第三干涉腔的檢測(cè)結(jié)果；

獲取所述透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭形成的第四干涉腔，根據(jù)波長(zhǎng)移相干涉原理計(jì)算得出所述第四干涉腔的檢測(cè)結(jié)果；

根據(jù)所述第一干涉腔、所述第二干涉腔、所述第三干涉腔以及所述第四干涉腔的檢測(cè)結(jié)果計(jì)算得出所述子孔徑區(qū)域的材料均勻性。

可選地，將所述被檢鏡至少劃分為三個(gè)子孔徑區(qū)域具體包括：

將所述被檢鏡劃分為三個(gè)子孔徑區(qū)域，分別為第一子孔徑區(qū)域、第二子孔徑區(qū)域以及第三子孔徑區(qū)域；

可選地，所述獲取所述透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭形成的第四干涉腔，根據(jù)波長(zhǎng)移相干涉原理計(jì)算得出所述第四干涉腔的檢測(cè)結(jié)果之前，所述方法還包括：

將所述被檢鏡從所述透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭之間取出。

可選地，所述調(diào)整所述被檢鏡的位置使得所述多個(gè)子孔徑區(qū)域中的任一個(gè)子孔徑區(qū)域與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋之后，所述方法還包 括：

獲取被檢鏡的傾斜量；

所述利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算以獲得所述大口徑光學(xué)玻璃的材料均勻性具體包括：

所述利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算以及所述被檢鏡的傾斜量以獲得所述大口徑光學(xué)玻璃的材料均勻性。

本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)裝置，所述裝置包括用于進(jìn)行波長(zhǎng)移相干涉測(cè)量的干涉儀、透射平面鏡頭、位于所述透射平面鏡頭下方的被檢鏡、用于調(diào)整所述透射平面鏡頭位置以使得與所述被檢鏡形成的干涉條紋為零條紋的五維調(diào)整臺(tái)、位于所述被檢鏡下方的反射平面鏡頭、用于調(diào)整所述反射平面鏡頭位置以使得與所述被檢鏡形成的干涉條紋為零條紋的三維調(diào)整臺(tái)；

所述被檢鏡為待檢測(cè)光學(xué)玻璃進(jìn)行拋光得到平行平板；

所述被檢鏡表面至少劃分為三個(gè)子孔徑區(qū)域，其中相鄰的兩個(gè)子孔徑區(qū)域；

所述干涉儀分別對(duì)已劃分的每個(gè)子孔徑區(qū)域進(jìn)行材料均勻性檢測(cè)得到檢測(cè)結(jié)果并利用所屬檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行拼接計(jì)算以獲得所述被檢鏡的材料均勻性。。

可選地，所述裝置還包括：

平面反射鏡，用于校正所述被檢鏡的傾斜姿態(tài)；

監(jiān)視干涉儀，用于監(jiān)測(cè)所述被檢鏡的傾斜姿態(tài)；

所述干涉儀還用于根據(jù)所述平面反射鏡和所述監(jiān)視干涉儀的監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)確定所述被檢鏡的傾斜量以及利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算和所述被檢鏡的傾斜量以獲得所述被檢鏡的材料均勻性。

本發(fā)明提出一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法，將被檢鏡劃分為至少三個(gè)子孔徑區(qū)域，分別對(duì)每個(gè)子孔徑區(qū)域計(jì)算材料均勻性，再利用子孔徑拼接算法計(jì)算得到被檢鏡的材料均勻性，另外，被檢鏡的傾斜姿態(tài)由監(jiān)視干涉儀和側(cè)面的平面反射鏡監(jiān)視和校正，因此不同子孔徑的均勻性測(cè)試結(jié)果的傾斜狀態(tài)完全一致，而由均勻性中的離焦和像散在子孔徑干涉檢測(cè)結(jié)果中引入 的“傾斜”量可以被真實(shí)地保留，從而避免了被檢鏡全口徑均勻性中出現(xiàn)不連續(xù)的拼接痕跡。本發(fā)明提出的方法在利用小口徑移相干涉儀實(shí)現(xiàn)大口徑光學(xué)玻璃材料均勻性的檢測(cè)過(guò)程中，不僅可以實(shí)現(xiàn)材料均勻性的全部波像差絕對(duì)檢測(cè)，而且可以消除不連續(xù)的拼接痕跡造成的檢測(cè)誤差。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法的一種實(shí)施例的流程圖；

圖2是本發(fā)明的光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法的另一種實(shí)施例的流程圖；

圖3是本發(fā)明的光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法的被檢鏡劃分為多個(gè)子孔徑區(qū)域的示意圖；

圖4是本發(fā)明的光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)裝置的一種結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分的實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明的說(shuō)明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”“第四”等是用于區(qū)別類似的對(duì)象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應(yīng)該理解這樣使用的數(shù)據(jù)在適當(dāng)情況下可以互換，以便這里描述的實(shí)施例能夠以除了在這里圖示或描述的內(nèi)容以外的順序?qū)嵤?。此外，術(shù)語(yǔ)“包括”和“具有”以及他們的任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含，例如，包含了一系列步驟或單元的過(guò)程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元，而是可包括沒(méi)有清楚地列出的或?qū)τ谶@些過(guò)程、方法、產(chǎn)品或設(shè)備固有的其它步驟或單元。

結(jié)合圖1所示，本發(fā)明提供的一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法的一種實(shí)施例，所述方法包括：

S101、將待檢測(cè)光學(xué)玻璃進(jìn)行拋光得到平行平板作為被檢鏡。

S102、將所述被檢鏡至少劃分為三個(gè)子孔徑區(qū)域，其中，相鄰的兩個(gè)子 孔徑區(qū)域具有重疊區(qū)域。

S103、獲取每個(gè)子孔徑區(qū)域的材料均勻性。

S104、利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算以獲得所述大口徑光學(xué)玻璃的材料均勻性。

本發(fā)明提出一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法，將被檢鏡劃分為至少三個(gè)子孔徑區(qū)域，分別對(duì)每個(gè)子孔徑區(qū)域計(jì)算材料均勻性，再利用子孔徑拼接算法計(jì)算得到被檢鏡的材料均勻性，另外，被檢鏡的傾斜姿態(tài)由監(jiān)視干涉儀和側(cè)面的平面反射鏡監(jiān)視和校正，因此不同子孔徑的均勻性測(cè)試結(jié)果的傾斜狀態(tài)完全一致，而由均勻性中的離焦和像散在子孔徑干涉檢測(cè)結(jié)果中引入的“傾斜”量可以被真實(shí)地保留，從而避免了被檢鏡全口徑均勻性中出現(xiàn)不連續(xù)的拼接痕跡。本發(fā)明提出的方法在利用小口徑移相干涉儀實(shí)現(xiàn)大口徑光學(xué)玻璃材料均勻性的檢測(cè)過(guò)程中，不僅可以實(shí)現(xiàn)材料均勻性的全部波像差絕對(duì)檢測(cè)，而且可以消除不連續(xù)的拼接痕跡造成的檢測(cè)誤差。

結(jié)合圖2和圖3所示，本發(fā)明提供的一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法的另一種實(shí)施例，所述方法包括：

S201、將待檢測(cè)光學(xué)玻璃的上下表面進(jìn)行拋光得到平行平板作為被檢鏡。

S202、將所述被檢鏡至少劃分為三個(gè)子孔徑區(qū)域，其中，相鄰的兩個(gè)子孔徑區(qū)域具有重疊區(qū)域。

S203、調(diào)整所述被檢鏡的位置使得所述多個(gè)子孔徑區(qū)域中的任一個(gè)子孔徑區(qū)域與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋。

S204、調(diào)節(jié)反射平面鏡頭位置使得所述反射平面鏡頭與所述透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，其中，所述透射平面鏡頭與所述被檢鏡前表面形成第一干涉腔，所述被檢鏡上下兩個(gè)表面形成第二干涉腔，所述被檢鏡后表面與所述反射平面鏡頭形成第三干涉腔。

S205、根據(jù)波長(zhǎng)移相干涉原理計(jì)算得出所述第一干涉腔C1、所述第二干涉腔C2及所述第三干涉腔C3的檢測(cè)結(jié)果。

利用波長(zhǎng)移相干涉1可以利用一次測(cè)量獲得三個(gè)干涉腔的檢測(cè)結(jié)果：

C₁＝-S₁-S₂+k₁，

C₂＝nS₂-nS₃+nT+k₂，

C₃＝-S₃-S₄+k₃

其中，S₁，S₂，S₃和S₄分別為透射平面鏡頭、被檢鏡前表面、被檢鏡后表面和反射平面鏡頭的面形誤差，n為被檢鏡材料折射率，T為被檢鏡厚度，k₁，k₂和k₃為三個(gè)常數(shù)項(xiàng)。

S206、獲取所述透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭形成的第四干涉腔，根據(jù)波長(zhǎng)移相干涉原理計(jì)算得出所述第四干涉腔的檢測(cè)結(jié)果。

在獲取第四干涉腔之前將位于透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭之間的被檢鏡取出再進(jìn)行第四干涉腔的檢測(cè)，對(duì)于第四干涉腔的計(jì)算方式可以為：

C_EC＝-S₁-S₄+k₄

其中，k₄為常數(shù)項(xiàng)。

S207、根據(jù)所述第一干涉腔、所述第二干涉腔、所述第三干涉腔以及所述第四干涉腔的檢測(cè)結(jié)果計(jì)算得出所述子孔徑區(qū)域的材料均勻性。

被檢鏡上一個(gè)子孔徑區(qū)域的材料均勻性H1的計(jì)算方式可以采用：

H₁＝nT＝C₂-n(C_EC-C₃-C₁)

通過(guò)利用前面的計(jì)算過(guò)程得到的參數(shù)進(jìn)行計(jì)算可以得到一個(gè)子孔徑區(qū)域的材料均勻性。

需要指出的是，對(duì)于每個(gè)子孔徑區(qū)域的材料均勻性檢測(cè)的步驟相類似，按照步驟S203至S207重復(fù)進(jìn)行即可，此處不做贅述。

可選地，在進(jìn)行另一個(gè)子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行檢測(cè)時(shí)候，重新將被檢鏡放回干涉腔中，在反復(fù)取放過(guò)程中，被檢鏡支撐機(jī)構(gòu)需確保低應(yīng)力和高位置復(fù)現(xiàn)性，重新調(diào)整被檢鏡傾斜姿態(tài)，使被檢鏡與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，利用監(jiān)視干涉儀測(cè)量被檢鏡支撐裝置側(cè)面的平面反射鏡干涉條紋的傾斜T₁和T₂，利用五維調(diào)整臺(tái)調(diào)整被檢鏡位置，使被檢鏡第二個(gè)子孔徑與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，觀察監(jiān)視干涉儀測(cè)量的平面反射鏡干涉條紋的傾斜T′₁和T′₂，利用五維調(diào)整臺(tái)微調(diào)被檢鏡傾斜使平面反射鏡的干涉條紋傾斜為T₁和T₂，重復(fù)步驟S203至S207的操作過(guò)程，可以獲得被檢鏡第二個(gè)子孔徑的材料均勻性H₂。

S208、利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算以獲得所述大口徑光學(xué)玻璃的材料均勻性。

對(duì)于子孔徑拼接算法，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)了解，具體拼接過(guò)程不進(jìn)行贅述，需要指出的是，在拼接的過(guò)程中還增加的對(duì)被檢鏡的傾斜量，利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算以及所述被檢鏡的傾斜量以獲得所述大口徑光學(xué)玻璃的材料均勻性，避免了被檢鏡全口徑均勻性中出現(xiàn)不連續(xù)的拼接痕跡。

對(duì)于被檢鏡傾斜量的獲取，本發(fā)明提供了一種實(shí)現(xiàn)方式，具體包括：

為了便于理解本申請(qǐng)的技術(shù)方案，下面提供一種使用場(chǎng)景加以解釋。

1、將大口徑光學(xué)玻璃兩表面拋光為平行平板作為被檢鏡，兩表面要求達(dá)到較高的面形精度。

2、構(gòu)建基于小口徑波長(zhǎng)移相干涉儀的材料均勻性測(cè)量裝置，包括波長(zhǎng)移相干涉儀主機(jī)、透射平面鏡頭、被檢鏡、五維調(diào)整臺(tái)、反射平面鏡頭、三維調(diào)整臺(tái)、監(jiān)視干涉儀和平面反射鏡，將大口徑被檢鏡劃分為多個(gè)子孔徑區(qū)域，每個(gè)子孔徑區(qū)域均可以利用波長(zhǎng)移相干涉儀測(cè)量，且相鄰兩個(gè)子孔徑區(qū)域具有足夠大的重疊區(qū)域，以保證后續(xù)的拼接精度。

3、在干涉儀主機(jī)上安裝透射平面鏡頭，將被檢鏡安裝在檢測(cè)裝置中，利用五維調(diào)整臺(tái)調(diào)整被檢鏡位置使其第一個(gè)子孔徑區(qū)域與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，將反射平面鏡頭安裝在檢測(cè)裝置中，利用三維調(diào)整臺(tái)調(diào)整傾斜使其與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，最后調(diào)整干涉儀聚焦位置使反射平面鏡頭成為干涉儀成像鏡的物面。透射平面鏡頭、被檢鏡和反射平面鏡頭三者之間的位置關(guān)系需滿足波長(zhǎng)移相干涉儀的檢測(cè)要求，以防止測(cè)試過(guò)程中出現(xiàn)倍頻干涉信號(hào)的干擾。

4、在包含被檢鏡的滿腔情況下，透射平面鏡頭與被檢鏡前表面形成干涉腔C₁，被檢鏡前后表面形成干涉腔C₂，被檢鏡后表面與反射平面鏡頭形成干涉腔C₃。利用波長(zhǎng)移相干涉儀可以利用一次測(cè)量獲得如下三個(gè)干涉腔的檢測(cè)結(jié)果：

C₁＝-S₁-S₂+k₁，

C₂＝nS₂-nS₃+nT+k₂，

C₃＝-S₃-S₄+k₃

其中，S₁，S₂，S₃和S₄分別為透射平面鏡頭、被檢鏡前表面、被檢鏡后 表面和反射平面鏡頭的面形誤差，n為被檢鏡材料折射率，T為被檢鏡厚度，k₁，k₂和k₃為三個(gè)常數(shù)項(xiàng)。

5、取出被檢鏡3，透射平面鏡頭與反射平面鏡頭形成空腔C_EC，利用波長(zhǎng)移相干涉儀1獲得空腔的檢測(cè)結(jié)果如下：

C_EC＝-S₁-S₄+k₄

其中，k₄為常數(shù)項(xiàng)。因此，被檢鏡3第一個(gè)子孔徑的材料均勻性H₁可由上述滿腔和空腔的測(cè)試結(jié)果推導(dǎo)得：

H₁＝nT＝C₂-n(C_EC-C₃-C₁)

6、重新將被檢鏡3放回干涉腔中，在反復(fù)取放過(guò)程中，被檢鏡支撐機(jī)構(gòu)需確保低應(yīng)力和高位置復(fù)現(xiàn)性。重新調(diào)整被檢鏡傾斜姿態(tài)，使其與透射平面鏡頭形成的干涉圖為零條紋，利用監(jiān)視干涉儀7測(cè)量被檢鏡支撐裝置側(cè)面的平面反射鏡8干涉條紋的傾斜T₁和T₂。

利用五維調(diào)整臺(tái)4調(diào)整被檢鏡位置，使其第二個(gè)子孔徑與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，觀察監(jiān)視干涉儀7測(cè)量的平面反射鏡8干涉條紋的傾斜T′₁和T′₂，利用五維調(diào)整臺(tái)4微調(diào)被檢鏡傾斜使平面反射鏡8的干涉條紋傾斜為T₁和T₂。然后，重復(fù)步驟4和5的操作過(guò)程，可以獲得被檢鏡第二個(gè)子孔徑的材料均勻性H₂。重復(fù)進(jìn)行每個(gè)子孔徑區(qū)域的測(cè)量，可以獲得被檢鏡3所有子孔徑區(qū)域的材料均勻性H₁,H₂,H₃…，H_n。

7、利用經(jīng)典的子孔徑拼接算法將被檢鏡3全部子孔徑區(qū)域的材料均勻性數(shù)據(jù)H₁,H₂,H₃…，H_n拼接在一起獲得大口徑被檢鏡全部區(qū)域的材料均勻性H。

上文介紹了一種方法，對(duì)應(yīng)的，本發(fā)明還提供了一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)裝置，應(yīng)用于上述光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法，下面進(jìn)行介紹。

結(jié)合圖3和圖4所示，本發(fā)明提供一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)裝置的一種實(shí)施例，所述裝置包括用于進(jìn)行波長(zhǎng)移相干涉測(cè)量的干涉儀1、透射平面鏡頭2、位于所述透射平面鏡頭下方的被檢鏡3、用于調(diào)整所述透射平面鏡頭位置以使得與所述被檢鏡形成的干涉條紋為零條紋的五維調(diào)整臺(tái)4、位于所述被檢鏡下方的反射平面鏡頭5、用于調(diào)整所述反射平面鏡頭位置以使得與所述被檢鏡形成的干涉條紋為零條紋的三維調(diào)整臺(tái)6；

所述被檢鏡3為待檢測(cè)光學(xué)玻璃進(jìn)行拋光得到平行平板；

所述被檢鏡3表面至少劃分為三個(gè)子孔徑區(qū)域，其中相鄰的兩個(gè)子孔徑區(qū)域；

所述干涉儀1分別對(duì)已劃分的每個(gè)子孔徑區(qū)域進(jìn)行材料均勻性檢測(cè)得到檢測(cè)結(jié)果并利用所屬檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行拼接計(jì)算以獲得所述被檢鏡的材料均勻性。

本發(fā)明提出一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)裝置，將被檢鏡3劃分為至少三個(gè)子孔徑區(qū)域，分別對(duì)每個(gè)子孔徑區(qū)域計(jì)算材料均勻性，再利用子孔徑拼接算法計(jì)算得到被檢鏡3的材料均勻性，另外，被檢鏡3的傾斜姿態(tài)由監(jiān)視干涉儀8和側(cè)面的平面反射鏡7監(jiān)視和校正，因此不同子孔徑的均勻性測(cè)試結(jié)果的傾斜狀態(tài)完全一致，而由均勻性中的離焦和像散在子孔徑干涉檢測(cè)結(jié)果中引入的“傾斜”量可以被真實(shí)地保留，從而避免了被檢鏡3全口徑均勻性中出現(xiàn)不連續(xù)的拼接痕跡。本發(fā)明提出的方法在利用小口徑移相干涉儀實(shí)現(xiàn)大口徑光學(xué)玻璃材料均勻性的檢測(cè)過(guò)程中，不僅可以實(shí)現(xiàn)材料均勻性的全部波像差絕對(duì)檢測(cè)，而且可以消除不連續(xù)的拼接痕跡造成的檢測(cè)誤差。

可選地，所述裝置還包括：

平面反射鏡7，用于校正所述被檢鏡的傾斜姿態(tài)；

監(jiān)視干涉儀8，用于監(jiān)測(cè)所述被檢鏡的傾斜姿態(tài)；

所述干涉儀1還用于根據(jù)所述平面反射鏡7和所述監(jiān)視干涉儀8的監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)確定所述被檢鏡3的傾斜量以及利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進(jìn)行拼接計(jì)算和所述被檢鏡3的傾斜量以獲得所述被檢鏡的材料均勻性。

所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到，為描述的方便和簡(jiǎn)潔，上述描述的系統(tǒng)，裝置和單元的具體工作過(guò)程，可以參考前述方法實(shí)施例中的對(duì)應(yīng)過(guò)程，在此不再贅述。

在本申請(qǐng)所提供的幾個(gè)實(shí)施例中，應(yīng)該理解到，所揭露的系統(tǒng)，裝置和方法，可以通過(guò)其它的方式實(shí)現(xiàn)。例如，以上所描述的裝置實(shí)施例僅僅是示意性的，例如，所述單元的劃分，僅僅為一種邏輯功能劃分，實(shí)際實(shí)現(xiàn)時(shí)可以有另外的劃分方式，例如多個(gè)單元或組件可以結(jié)合或者可以集成到另一個(gè) 系統(tǒng)，或一些特征可以忽略，或不執(zhí)行。另一點(diǎn)，所顯示或討論的相互之間的耦合或直接耦合或通信連接可以是通過(guò)一些接口，裝置或單元的間接耦合或通信連接，可以是電性，機(jī)械或其它的形式。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例方法中的全部或部分步驟是可以通過(guò)程序來(lái)指令相關(guān)的硬件完成，所述的程序可以存儲(chǔ)于一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中，上述提到的存儲(chǔ)介質(zhì)可以是只讀存儲(chǔ)器，磁盤或光盤等。

以上對(duì)本發(fā)明所提供的一種光學(xué)玻璃的材料均勻性檢測(cè)方法及裝置進(jìn)行了詳細(xì)介紹，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的思想，在具體實(shí)施方式及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說(shuō)明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。