1.一種光學玻璃的材料均勻性檢測方法，其特征在于，所述方法包括：
將待檢測光學玻璃進行拋光得到平行平板作為被檢鏡；
將所述被檢鏡至少劃分為三個子孔徑區(qū)域，其中，相鄰的兩個子孔徑區(qū)域具有重疊區(qū)域；
獲取每個子孔徑區(qū)域的材料均勻性；
利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進行拼接計算以獲得所述大口徑光學玻璃的材料均勻性。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將待檢測光學玻璃進行拋光得到平行平板作為被檢鏡具體包括：
將待檢測光學玻璃的上下表面進行拋光得到平行平板作為被檢鏡。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述獲取每個子孔徑區(qū)域的材料均勻性具體包括：
調(diào)整所述被檢鏡的位置使得所述多個子孔徑區(qū)域中的任一個子孔徑區(qū)域與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋；
調(diào)節(jié)反射平面鏡頭位置使得所述反射平面鏡頭與所述透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋，其中，所述透射平面鏡頭與所述被檢鏡前表面形成第一干涉腔，所述被檢鏡上下兩個表面形成第二干涉腔，所述被檢鏡后表面與所述反射平面鏡頭形成第三干涉腔；
根據(jù)波長移相干涉原理計算得出所述第一干涉腔、所述第二干涉腔及所述第三干涉腔的檢測結果；
獲取所述透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭形成的第四干涉腔，根據(jù)波長移相干涉原理計算得出所述第四干涉腔的檢測結果；
根據(jù)所述第一干涉腔、所述第二干涉腔、所述第三干涉腔以及所述第四干涉腔的檢測結果計算得出所述子孔徑區(qū)域的材料均勻性。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法，其特征在于，將所述被檢鏡至少劃分為三個子孔徑區(qū)域具體包括：
將所述被檢鏡劃分為三個子孔徑區(qū)域，分別為第一子孔徑區(qū)域、第二子孔徑區(qū)域以及第三子孔徑區(qū)域。
5.根據(jù)權利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取所述透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭形成的第四干涉腔，根據(jù)波長移相干涉原理計算得出所述第四干涉腔的檢測結果之前，所述方法還包括：
將所述被檢鏡從所述透射平面鏡頭和所述透射平面鏡頭之間取出。
6.根據(jù)權利要求3所述的方法，其特征在于，所述調(diào)整所述被檢鏡的位置使得所述多個子孔徑區(qū)域中的任一個子孔徑區(qū)域與透射平面鏡頭形成的干涉條紋為零條紋之后，所述方法還包括：
獲取被檢鏡的傾斜量；
所述利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進行拼接計算以獲得所述大口徑光學玻璃的材料均勻性具體包括：
所述利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進行拼接計算以及所述被檢鏡的傾斜量以獲得所述大口徑光學玻璃的材料均勻性。
7.一種光學玻璃的材料均勻性檢測裝置，其特征在于，所述裝置包括用于進行波長移相干涉測量的干涉儀、透射平面鏡頭、位于所述透射平面鏡頭下方的被檢鏡、用于調(diào)整所述透射平面鏡頭位置以使得與所述被檢鏡形成的干涉條紋為零條紋的五維調(diào)整臺、位于所述被檢鏡下方的反射平面鏡頭、用于調(diào)整所述反射平面鏡頭位置以使得與所述被檢鏡形成的干涉條紋為零條紋的三維調(diào)整臺；
所述被檢鏡為待檢測光學玻璃進行拋光得到平行平板；
所述被檢鏡表面至少劃分為三個子孔徑區(qū)域，其中相鄰的兩個子孔徑區(qū)域；
所述干涉儀分別對已劃分的每個子孔徑區(qū)域進行材料均勻性檢測得到檢測結果并利用所屬檢測結果進行拼接計算以獲得所述被檢鏡的材料均勻性。
8.根據(jù)權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：
平面反射鏡，用于校正所述被檢鏡的傾斜姿態(tài)；
監(jiān)視干涉儀，用于監(jiān)測所述被檢鏡的傾斜姿態(tài)；
所述干涉儀還用于根據(jù)所述平面反射鏡和所述監(jiān)視干涉儀的監(jiān)測數(shù)據(jù)確定所述被檢鏡的傾斜量以及利用子孔徑拼接算法將全部的子孔徑區(qū)域的材料均勻性進行拼接計算和所述被檢鏡的傾斜量以獲得所述被檢鏡的材料均勻性。