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一種單晶樣片制樣機(jī)的制作方法

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一種單晶樣片制樣機(jī)的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及一種單晶樣片制樣機(jī),適用于5-12英寸單晶拉制后取樣檢測(cè)單晶電阻率的過(guò)程,屬于半導(dǎo)體材料晶圓制造技術(shù)領(lǐng)域。



背景技術(shù):

在半導(dǎo)體單晶生產(chǎn)中,必須要測(cè)定單晶頭尾或是單晶段頭尾電阻率和電阻率均勻性。通常是從單晶頭尾一定厚度樣片,通過(guò)四探針測(cè)定硅片表面特定方位的電阻率,來(lái)評(píng)判單晶質(zhì)量。四探針測(cè)量需要測(cè)量區(qū)域相對(duì)平整粗糙度適中,探針和硅材料形成完美的金半接觸。在加工廠(chǎng)中直接切割的樣片無(wú)法直接測(cè)試,硅片研磨表面最適合做測(cè)試,但單晶樣片邊緣未經(jīng)處理,研磨設(shè)備無(wú)法進(jìn)行加工。通常生產(chǎn)廠(chǎng)制樣時(shí)使用干法噴砂打毛測(cè)試表面,制樣在噴砂機(jī)中完成,噴砂過(guò)程會(huì)形成嚴(yán)重粉塵污染,影響作業(yè)人員健康。另外噴砂表面不容易做到平整均勻,影響測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種單晶樣片制樣機(jī),適用于5-12英寸單晶拉制后取樣檢測(cè)單晶電阻率的過(guò)程。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取以下技術(shù)方案:

一種單晶樣片制樣機(jī),包括載物平臺(tái)、研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、升降機(jī)構(gòu);載物平臺(tái)邊緣設(shè)置三組用于固定樣片的卡爪和壓片;研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在載物平臺(tái)上方,該研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上設(shè)有五個(gè)研磨頭,相對(duì)于安裝在載物平臺(tái)上的樣片,其中一個(gè)研磨頭設(shè)置在樣片的中心位置,其余四個(gè)研磨頭均勻分布在樣片的邊緣位置;通過(guò)升降機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)研磨頭的上下位置。

所述升降機(jī)構(gòu)由手輪和齒條組合控制,該手輪外緣設(shè)有多個(gè)加重點(diǎn),用來(lái)加載砝碼,控制研磨壓力。

所述研磨頭的直徑為1-2cm,研磨加工面積大于四探針測(cè)試探頭面積。

所述研磨頭的材質(zhì)可以為球墨鑄鐵或剛玉。

所述研磨頭表面設(shè)有開(kāi)槽,用于浸潤(rùn)研磨液,槽口寬度為1-2mm。

所述研磨頭的轉(zhuǎn)速?gòu)?-50轉(zhuǎn)/分可調(diào)。

所述研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)內(nèi)部設(shè)有一系列齒輪傳動(dòng),并設(shè)有適合多組直徑樣片的研磨頭連桿的安裝孔,同一組研磨頭的位置距離樣片中心的距離相等,距離符合半導(dǎo)體 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

位于載物平臺(tái)邊緣的三組卡爪和壓片可以獨(dú)立調(diào)節(jié)位置,適用于不同外形單晶樣片。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:

本發(fā)明的單晶樣片制樣機(jī)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)單晶樣片進(jìn)行多點(diǎn)位同時(shí)研磨處理,加工位置與表面質(zhì)量符合四探針測(cè)試要求,通過(guò)調(diào)整研磨頭位置可以對(duì)適應(yīng)多種不同直徑單晶樣片要求。制樣加工與更換工裝方便迅速,省時(shí)高效。同時(shí)避免使用噴砂機(jī),減少粉塵危害作業(yè)員健康。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明的研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)部分內(nèi)部的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明,但并不意味著對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制。

如圖1所示,本發(fā)明的單晶樣片制樣機(jī)包括載物平臺(tái)1、研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2、升降機(jī)構(gòu)3;載物平臺(tái)邊緣設(shè)置三組用于固定樣片的卡爪4和壓片9;研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2設(shè)置在載物平臺(tái)1的上方,包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)10、以及五個(gè)研磨頭5,相對(duì)于安裝在載物平臺(tái)1上的樣片8,其中一個(gè)研磨頭設(shè)置在樣片8的中心位置,其余四個(gè)研磨頭均勻分布在樣片8的邊緣位置;通過(guò)升降機(jī)構(gòu)3調(diào)節(jié)研磨頭的上下位置。升降機(jī)構(gòu)3由手輪7和齒條6組合控制,該手輪6外緣設(shè)有多個(gè)加重點(diǎn)11,用來(lái)加載砝碼,控制研磨壓力。

在本發(fā)明中,研磨頭的直徑為1-2cm,研磨加工面積大于四探針測(cè)試探頭面積。研磨頭的材質(zhì)可以為球墨鑄鐵或剛玉。研磨頭表面設(shè)有開(kāi)槽,用于浸潤(rùn)研磨液,槽口寬度為1-2mm。研磨頭的轉(zhuǎn)速?gòu)?-50轉(zhuǎn)/分可調(diào)。如圖2所示,研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)內(nèi)部設(shè)有一系列齒輪傳動(dòng),并設(shè)有適合多組直徑樣片的研磨頭連桿的安裝孔,同一組研磨頭的位置距離樣片中心的距離相等,距離符合半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

本發(fā)明在工作時(shí),操作人員搖動(dòng)手輪7提升研磨驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)2高度,將樣片8放置在載物平臺(tái)1上,樣片8的中心與載物平臺(tái)1的中心大致重合,調(diào)整載物平臺(tái)1邊緣的卡爪4的位置,使卡爪4卡住樣片8的邊緣,壓片9壓住樣片表面。根據(jù)樣片8的直徑,將研磨頭的連桿插入驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相應(yīng)位置孔中,設(shè)置工作完成。

制樣加工時(shí),啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī)10,搖動(dòng)手輪7使研磨頭5接觸樣片表面,在研磨頭接觸位置人工涂一些研磨膏或研磨液幫助研磨。通過(guò)在手輪7上的加重點(diǎn)11加掛 砝碼控制研磨壓力,經(jīng)過(guò)一定時(shí)間的研磨后,樣片表面測(cè)試點(diǎn)表面達(dá)到均勻平整的效果,樣片加工完成。搖動(dòng)手輪,提升研磨頭,松開(kāi)固定卡爪后即可取出加工好的樣片。

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