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間隙量測(cè)方法

文檔序號(hào):6168796閱讀:339來源:國(guó)知局
間隙量測(cè)方法
【專利摘要】一種間隙量測(cè)方法用于量測(cè)間隔迭置的導(dǎo)電薄膜及導(dǎo)電基板的間隙。其提供一量測(cè)裝置并存取一量測(cè)裝置影像及導(dǎo)電薄膜反射的一量測(cè)裝置反射影像。將量測(cè)裝置移向?qū)щ姳∧ぶ钡搅繙y(cè)裝置影像接觸量測(cè)裝置反射影像,并且定義其為第一位置。對(duì)導(dǎo)電薄膜施一預(yù)定壓力使其朝向?qū)щ娀遄冃?。將量測(cè)裝置再次移向?qū)щ姳∧ぶ钡搅繙y(cè)裝置影像再次接觸量測(cè)裝置反射影像,并且定義其為第二位置。依據(jù)第一位置與第二位置產(chǎn)生一間距值。本發(fā)明的間隙量測(cè)方法所需的設(shè)備取得容易且價(jià)格低于習(xí)知量測(cè)設(shè)備(如電子顯微鏡或雷射量測(cè)儀),因此本發(fā)明的間隙量測(cè)方法不單操作簡(jiǎn)便、量測(cè)精確而且成本低廉。
【專利說明】【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001] 本發(fā)明涉及一種間隙量測(cè)方法,具體涉及一種應(yīng)用于電阻式觸控面板檢測(cè)的間隙 量測(cè)方法。 間隙量測(cè)方法 【【背景技術(shù)】】
[0002] 在電子產(chǎn)品制造完成后的檢驗(yàn)工作中,量測(cè)電子產(chǎn)品的組件間隙及尺寸公差為常 見的檢驗(yàn)方法。一般來說,電子顯微鏡或是雷射量測(cè)儀是習(xí)知量測(cè)微小間距的常用儀器。
[0003] 電子顯微鏡或是雷射量測(cè)儀的單價(jià)皆相當(dāng)高。當(dāng)電子產(chǎn)品處于非量產(chǎn)階段時(shí),如 生產(chǎn)少量樣品或是小量試產(chǎn),為電子產(chǎn)品的檢驗(yàn)而購買電子顯微鏡或是雷射量測(cè)儀相當(dāng)不 符合經(jīng)濟(jì)效益。再者,人員在訓(xùn)練后才會(huì)操作電子顯微鏡或是雷射量測(cè)儀,因此人員的量測(cè) 儀器訓(xùn)練將會(huì)增加成本。故當(dāng)電子產(chǎn)品處于非量產(chǎn)階段時(shí),電子顯微鏡或是雷射量測(cè)儀等 并非適合的量測(cè)儀器。 【
【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的,在于提供一種間隙量測(cè)方法,其用于量測(cè)一電阻式觸控面板中的 導(dǎo)電薄膜及導(dǎo)電基板的間隙。前述電阻式觸控面板的導(dǎo)電薄膜與導(dǎo)電基板為間隔迭置。
[0005] 為了達(dá)成上述目的,本發(fā)明提供一種間隙量測(cè)方法,其概述如后:
[0006] 提供一量測(cè)裝置,而且量測(cè)裝置鄰近于電阻式觸控面板。接著,存取一影像數(shù)據(jù), 影像數(shù)據(jù)中包含有一量測(cè)裝置影像及導(dǎo)電薄膜上所反射的一量測(cè)裝置反射影像。
[0007] 將量測(cè)裝置朝向?qū)щ姳∧ひ苿?dòng)。當(dāng)量測(cè)裝置影像接觸量測(cè)裝置反射影像時(shí),即停 止移動(dòng)量測(cè)裝置。并且,定義量測(cè)裝置的當(dāng)前位置為第一位置。
[0008] 對(duì)導(dǎo)電薄膜施以一預(yù)定壓力,使導(dǎo)電薄膜朝向?qū)щ娀瀹a(chǎn)生變形。再將量測(cè)裝置 再次朝向?qū)щ姳∧ひ苿?dòng)。當(dāng)量測(cè)裝置影像再次接觸量測(cè)裝置反射影像時(shí),即再次停止移動(dòng) 量測(cè)裝置。并且,定義量測(cè)裝置的當(dāng)前位置為第二位置。最后,依據(jù)第一位置與第二位置的 差異產(chǎn)生導(dǎo)電薄膜朝與導(dǎo)電基板之間的間距值。
[0009] 相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的間隙量測(cè)方法所需的設(shè)備取得容易且價(jià)格低于習(xí)知量 測(cè)設(shè)備(如電子顯微鏡或雷射量測(cè)儀),因此本發(fā)明的間隙量測(cè)方法不單操作簡(jiǎn)便、量測(cè)精 確而且成本低廉。 【【專利附圖】

【附圖說明】】
[0010] 圖1繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第一實(shí)施例的流程圖。
[0011] 圖2繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第一實(shí)施例中所提供組件的示意圖。
[0012] 圖3繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第一實(shí)施例中定義第一位置的一實(shí)施示意圖。
[0013] 圖4繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第一實(shí)施例中定義第一位置的另一實(shí)施示意 圖。
[0014] 圖5繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第一實(shí)施例中定義第二位置的一實(shí)施示意圖。
[0015] 圖6繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第一實(shí)施例中定義第二位置的另一實(shí)施示意 圖。
[0016] 圖7繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第二實(shí)施例的流程圖。
[0017] 圖8繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第三實(shí)施例中所提供組件的示意圖。
[0018] 圖9繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第三實(shí)施例中的一實(shí)施示意圖。
[0019] 圖10繪示為本發(fā)明間隙量測(cè)方法于第三實(shí)施例中的另一實(shí)施示意圖。 【【具體實(shí)施方式】】
[0020] 參閱圖1及圖2,本發(fā)明的較佳實(shí)施例提供一種間隙量測(cè)方法,此間隙量測(cè)方法應(yīng) 用于一電阻式觸控面板10。另參閱圖3,前述的電阻式觸控面板10包含有一導(dǎo)電薄膜11 及一導(dǎo)電基板12。導(dǎo)電薄膜11與導(dǎo)電基板12為間隔迭置,因此在導(dǎo)電薄膜11與導(dǎo)電基 板12之間形成一間隙。電阻式觸控面板10較佳地放置在一置放面20上以待量測(cè)。本發(fā) 明的間隙量測(cè)方法用于量測(cè)前述的間隙,其步驟詳述如后。
[0021] 步驟a :首先提供一量測(cè)裝置100。量測(cè)裝置100包含有一支架110、一量測(cè)表120 以及一探針130。支架110設(shè)置在置放面20之上,支架110包含有一底座111以及一組活 動(dòng)連桿112。底座111支撐在前述的放置面20?;顒?dòng)連桿112的其中一端連結(jié)在底座111, 活動(dòng)連桿112的另一端則連結(jié)量測(cè)表120。探針130設(shè)置在量測(cè)表120上,而且探針130可 以相對(duì)于量測(cè)表120軸向移動(dòng)。量測(cè)表120包含一個(gè)計(jì)算單元(圖中未示)。計(jì)算單元用 以偵測(cè)探針130的位置并且依此產(chǎn)生一數(shù)值以供量測(cè)表120顯示。
[0022] 在本實(shí)施例中,借由調(diào)整活動(dòng)連桿112,探針130接近于電阻式觸控面板10的導(dǎo)電 薄膜11。另外,探針130建議被調(diào)整為實(shí)質(zhì)上垂直于導(dǎo)電薄膜11。當(dāng)探針130接近于電阻 式觸控面板10的導(dǎo)電薄膜11時(shí),在導(dǎo)電薄膜11上反射探針130的影像而形成一個(gè)探針倒 影 131。
[0023] 于本實(shí)施例中,本發(fā)明的間隙量測(cè)方法還提供一影像存取裝置200、一影像分析單 元300以及一壓力裝置400。影像存取裝置200可以包含一個(gè)數(shù)字?jǐn)z影鏡頭。影像分析單 元300可以包含一計(jì)算機(jī),而且影像分析單元300連接影像存取裝置200。于本實(shí)施例中, 如圖5、6所不,壓力裝置400為一破碼。借由破碼的固定質(zhì)量而能夠在電阻式觸控面板10 上產(chǎn)生一預(yù)定壓力。
[0024] 步驟b :參閱圖1至圖3,將影像存取裝置200朝向量測(cè)裝置100以及電阻式觸控 面板10設(shè)置。接著,以影像存取裝置200連續(xù)地存取一影像數(shù)據(jù)500,并以影像分析單元 300接收影像數(shù)據(jù)500。此影像數(shù)據(jù)500較佳地可以透過影像分析單元300顯示。
[0025] 其中,前述的影像數(shù)據(jù)500中包含有一個(gè)量測(cè)裝置影像510以及一個(gè)量測(cè)裝置反 射影像520。量測(cè)裝置影像510為量測(cè)裝置100 (含探針130)的數(shù)字影像。量測(cè)裝置反射 影像520為在電阻式觸控面板10上量測(cè)裝置100倒影(含探針倒影131)的數(shù)字影像。
[0026] 步驟c :參閱圖1、圖2及圖4,將量測(cè)裝置100的探針130朝向?qū)щ姳∧?1移動(dòng), 借此使得影像數(shù)據(jù)500中的量測(cè)裝置影像510與量測(cè)裝置反射影像520相互靠攏。
[0027] 步驟d :當(dāng)影像數(shù)據(jù)500中的量測(cè)裝置影像510接觸到量測(cè)裝置反射影像520時(shí), 即停止移動(dòng)探針130。較佳地,可以借由影像分析單元300判定量測(cè)裝置影像510是否接觸 到量測(cè)裝置反射影像520。
[0028] 步驟e :接續(xù)步驟d,以計(jì)算單元偵測(cè)探針130的當(dāng)前位置,并且依據(jù)此當(dāng)前位置產(chǎn) 生一數(shù)值以供量測(cè)表120指示。紀(jì)錄量測(cè)表120所指示的數(shù)值,并且根據(jù)此數(shù)值定義探針 130的當(dāng)前位置為第一位置。
[0029] 其中,當(dāng)探針130位于第一位置時(shí),探針130接觸到導(dǎo)電薄膜11,而且導(dǎo)電薄膜11 的外形實(shí)質(zhì)上保持初始狀態(tài)。
[0030] 步驟f :參閱圖1、圖2及圖5,本發(fā)明的間隙量測(cè)方法借由壓力裝置400對(duì)導(dǎo)電薄 膜11提供預(yù)定壓力。于本實(shí)施例中,提供預(yù)定壓力的較佳方式為:將壓力裝置400放置于 導(dǎo)電薄膜11上,借此使得導(dǎo)電薄膜11朝向?qū)щ娀?2產(chǎn)生變形而觸及導(dǎo)電基板12。
[0031] 前述的導(dǎo)電薄膜11受預(yù)定壓力而產(chǎn)生變形,因此使得探針130與導(dǎo)電薄膜11分 離。同時(shí),影像數(shù)據(jù)500中的量測(cè)裝置影像510與量測(cè)裝置反射影像520也分離。
[0032] 步驟g :參閱圖1、圖2及圖6,將量測(cè)裝置100的探針130移動(dòng)朝向已變形的導(dǎo)電 薄膜11 (在此所稱?已變形?,指導(dǎo)電薄膜11變形后與其初始外形的差異)。同時(shí),影像數(shù) 據(jù)500中的量測(cè)裝置影像510與量測(cè)裝置反射影像520再次相互靠攏。
[0033] 步驟h :當(dāng)影像數(shù)據(jù)500中的量測(cè)裝置影像510再次接觸到量測(cè)裝置反射影像520 時(shí),即停止移動(dòng)探針130。較佳地可以借由影像分析單元300判定量測(cè)裝置影像510是否接 觸到量測(cè)裝置反射影像520。
[0034] 步驟i :接續(xù)步驟h,以計(jì)算單元偵測(cè)探針130的當(dāng)前位置,并且依此當(dāng)前位置產(chǎn)生 一數(shù)值以供量測(cè)表120指示。紀(jì)錄量測(cè)表120所指示的數(shù)值,并且依據(jù)此數(shù)值定義探針130 的當(dāng)前位置為第二位置。
[0035] 步驟j :以計(jì)算單元依據(jù)第一位置與第二位置產(chǎn)生一間距值。其中,探針130位于 第一位置與第二位置時(shí),計(jì)算單元分別測(cè)得不同的二個(gè)數(shù)值,此二個(gè)數(shù)值之差而即為間距 值。
[0036] 參閱圖7,本發(fā)明的第二實(shí)施例提供一種間隙量測(cè)方法,其大致如同前述第一實(shí)施 例,故相同之處不再贅述。本實(shí)施例與第一實(shí)施例不同之處說明如后。
[0037] 于本實(shí)施例中,本發(fā)明的間隙量測(cè)方法還包含有接續(xù)于步驟d的一步驟k。在步 驟k中以計(jì)算單元將量測(cè)表120歸零,借此定義探針130所在的當(dāng)前位置為量測(cè)表120的 零點(diǎn)。步驟e接續(xù)于步驟k。在步驟e中將量測(cè)表120的零點(diǎn)定義為第一位置。最后,在步 驟j中,由于量測(cè)表120的零點(diǎn)已被定義為第一位置,因此量測(cè)表120所指示的第二位置的 數(shù)值即為第一位置與第二位置的間距值。
[0038] 另外,本實(shí)施例步驟a中所提供的壓力裝置400是連接在一個(gè)具有壓力探針的壓 力量測(cè)表。壓力量測(cè)表借由壓力探針在電阻式觸控面板10上產(chǎn)生一預(yù)定壓力。借此能夠 更精確地在相同的位置產(chǎn)生相同的預(yù)定壓力,因此重復(fù)量測(cè)的精確性更佳。
[0039] 前述量測(cè)表120所指示的數(shù)值是依據(jù)偵測(cè)探針130的當(dāng)前位置與量測(cè)表120零點(diǎn) 的位置的差異所產(chǎn)生,因此量測(cè)表120每次量測(cè)時(shí)所指示的數(shù)值皆存在誤差。借由較少的 數(shù)值所計(jì)算得到的間距值必然較精確。在本實(shí)施例的步驟k中,只需要取得偵測(cè)探針130 在第二位置時(shí)的數(shù)值即能夠計(jì)算間距值。因此相較于第一實(shí)施例,本實(shí)施例借由步驟k能 夠較為簡(jiǎn)易地計(jì)算第一位置與第二位置的間距值,并且能夠計(jì)算得到較精確的間距值。
[0040] 參閱圖8及圖9,本發(fā)明的第三實(shí)施例提供一種間隙量測(cè)方法,其步驟大致如同前 述第一實(shí)施例,故相同之處不再贅述。
[0041] 本實(shí)施例與第一實(shí)施例不同之處在于,步驟a中另提供一參考圖像600,并且將參 考圖像600設(shè)置鄰近于導(dǎo)電薄膜11。因此參考圖像600反映在導(dǎo)電薄膜11上形成一個(gè)參 考圖像倒影610。于步驟b中,透過影像存取裝置200所存取影像數(shù)據(jù)500中還包含有一參 考影像530。參考影像530為參考圖像倒影610所形成。于步驟d中借由參考影像530可 以輔助判斷量測(cè)裝置影像510與量測(cè)裝置反射影像520是否接觸,其輔助判斷方式如后所 述。
[0042] 當(dāng)探針130觸及導(dǎo)電薄膜11時(shí),量測(cè)裝置影像510與量測(cè)裝置反射影像520。同 時(shí),探針130觸及導(dǎo)電薄膜11也使導(dǎo)電薄膜11產(chǎn)生變形,此變形的變形量可以是微小的變 形量。導(dǎo)電薄膜11變形造成參考圖像倒影610伴隨變形,因此影像數(shù)據(jù)500中的參考影像 530也對(duì)應(yīng)參考圖像倒影610產(chǎn)生變形。借由影像分析單元300可以分析判定參考影像530 產(chǎn)生變形,因此得知量測(cè)裝置影像510觸及量測(cè)裝置反射影像520,故停止移動(dòng)探針130。
[0043] 參閱圖10,于步驟h中,導(dǎo)電薄膜11因受預(yù)定壓力擠壓變形而觸及導(dǎo)電基板12。 探針130觸及導(dǎo)電薄膜11使得導(dǎo)電基板12與導(dǎo)電薄膜11產(chǎn)生變形(在此所稱變形指導(dǎo) 電薄膜11外形發(fā)生改變的動(dòng)作,而非指導(dǎo)電薄膜11變形后與其初始外形的差異)。導(dǎo)電 薄膜11產(chǎn)生變形造成參考影像530也對(duì)應(yīng)產(chǎn)生變形。以影像分析單元300判定參考影像 530產(chǎn)生變形,借此可得知探針130已觸及導(dǎo)電薄膜11,故停止移動(dòng)探針130。
[0044] 于本實(shí)施例中,前述的參考圖像600較佳地可以包含有直線線條,例如包含有方 格的參考圖像600。由于直線線條所產(chǎn)生變形較易于被偵測(cè),因此利于影像分析單元300判 定參考影像530的變形。參考影像530的變形越易于被判定,則步驟j中所得到間距值越 精確。
[0045] 綜上所述,本發(fā)明的間隙量測(cè)方法所需的設(shè)備取得容易且價(jià)格低于習(xí)知量測(cè)設(shè)備 (如電子顯微鏡或雷射量測(cè)儀),因此本發(fā)明的間隙量測(cè)方法不單操作簡(jiǎn)便、量測(cè)精確而且 成本低廉。
【權(quán)利要求】
1. 一種間隙量測(cè)方法,其用于量測(cè)一電阻式觸控面板中的一導(dǎo)電薄膜及一導(dǎo)電基板的 間隙,所述導(dǎo)電薄膜與所述導(dǎo)電基板間隔迭置,其特征在于,該間隙量測(cè)方法包含: a、 提供一量測(cè)裝置,其中該量測(cè)裝置鄰近所述電阻式觸控面板; b、 存取一影像數(shù)據(jù),其中該影像數(shù)據(jù)中包含有一量測(cè)裝置影像及所述導(dǎo)電薄膜上所反 射的一量測(cè)裝置反射影像; c、 將該量測(cè)裝置朝向所述導(dǎo)電薄膜移動(dòng); d、 當(dāng)該量測(cè)裝置影像接觸該量測(cè)裝置反射影像,停止移動(dòng)該量測(cè)裝置; e、 接續(xù)步驟d,定義該量測(cè)裝置的當(dāng)前位置為一第一位置; f、 對(duì)所述導(dǎo)電薄膜施以一預(yù)定壓力,使所述導(dǎo)電薄膜朝向所述導(dǎo)電基板產(chǎn)生變形; g、 將該量測(cè)裝置再次朝向所述導(dǎo)電薄膜移動(dòng); h、 當(dāng)該量測(cè)裝置影像再次接觸該量測(cè)裝置反射影像,再次停止移動(dòng)該量測(cè)裝置; i、 接續(xù)步驟h,定義該量測(cè)裝置的當(dāng)前位置為一第二位置; j、 依據(jù)該第一位置與該第二位置的差異產(chǎn)生一間距值。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,于步驟a中還提供一影像存取裝 置借以在步驟b中存取該影像數(shù)據(jù)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,于步驟a中還提供一影像分析單 元借以在步驟b中接收該影像數(shù)據(jù),以及在步驟d中分析該影像數(shù)據(jù)而得知該量測(cè)裝置影 像接觸該量測(cè)裝置反射影像。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,于步驟a中還提供一影像分析單 元借以在步驟b中接收該影像數(shù)據(jù),以及在步驟h中分析該影像數(shù)據(jù)而得知該量測(cè)裝置影 像再次接觸該量測(cè)裝置反射影像。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,該量測(cè)裝置包含可活動(dòng)的一探 針,借以相對(duì)于所述導(dǎo)電薄膜移動(dòng)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,在步驟c中將該探針朝向所述導(dǎo) 電薄膜移動(dòng),并且于步驟d中停止移動(dòng)該探針。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,于步驟g中將該探針再次朝向所 述導(dǎo)電薄膜移動(dòng),并且于步驟h中再次停止移動(dòng)該探針。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,該量測(cè)裝置包含一計(jì)算單元借 以定義該探針?biāo)挥诘脑摰谝晃恢眉霸摰诙恢谩?br> 9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,該計(jì)算單元依據(jù)該第一位置與 該第二位置產(chǎn)生該間距值。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的間隙量測(cè)方法,其特征在于,于步驟a中還提供一壓力裝置 借以在步驟f中對(duì)所述導(dǎo)電薄膜施以該預(yù)定壓力。
【文檔編號(hào)】G01B11/14GK104061870SQ201310084699
【公開日】2014年9月24日 申請(qǐng)日期:2013年3月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月18日
【發(fā)明者】傅明芳, 廖梓宏 申請(qǐng)人:神訊電腦(昆山)有限公司, 神基科技股份有限公司
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