技術(shù)總結(jié)
一種成像系統(tǒng)（100）包括輻射源（110）和輻射敏感探測器陣列（116），所述輻射敏感探測器陣列包括閃爍體陣列（118）和被光學耦合到所述閃爍體陣列的光傳感器陣列（120），其中，所述閃爍體陣列包括Gd2O2S：Pr，Tb，Ce。一種方法，包括利用成像系統(tǒng)（100）的輻射敏感探測器陣列（116）探測輻射，其中，所述輻射敏感探測器陣列包括基于Gd2O2S：Pr，Tb，Ce的閃爍體陣列（118）。一種輻射敏感探測器陣列（116）包括閃爍體陣列（118）和被光學耦合到所述閃爍體陣列的光傳感器陣列（120），其中，所述閃爍體陣列包括Gd2O2S：Pr，Tb，Ce，并且Gd2O2S：Pr，Tb，Ce中Tb3+的量等于或小于200摩爾百萬分率。

技術(shù)研發(fā)人員：C·R·龍達;N·康拉茨;H·奧蘭德;H·施賴訥馬赫爾
受保護的技術(shù)使用者：皇家飛利浦有限公司
文檔號碼：201280037639
技術(shù)研發(fā)日：2012.07.03
技術(shù)公布日：2017.04.26