專利名稱：一種平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)檢測(cè)裝置，特別是一種平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置，屬于光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
平面反射鏡在日常生活中有著廣泛的使用，同時(shí)在光學(xué)實(shí)驗(yàn)中也是非常重要的光學(xué)儀器之一。在精密的光學(xué)實(shí)驗(yàn)中，平面鏡的反射系數(shù)可能直接關(guān)系到實(shí)驗(yàn)最終結(jié)果。因此，測(cè)量平面鏡的反射系數(shù)就顯得尤為必要。目前，在測(cè)量平面鏡的反射系數(shù)時(shí)，主要有絕對(duì)測(cè)量法和相對(duì)測(cè)量法兩種，其中絕對(duì)測(cè)量法是相對(duì)測(cè)量法的基礎(chǔ)，為相對(duì)測(cè)量法提供數(shù)據(jù)對(duì)比，因此絕對(duì)測(cè)量法中各種測(cè)試單元要求都非常嚴(yán)格，設(shè)備比較復(fù)雜，操作不便。 發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供了一種平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置，利用簡(jiǎn)單的光路結(jié)構(gòu)，可以精確，方便，有效的測(cè)量平面鏡的反射系數(shù)。本實(shí)用新型的采用的技術(shù)方案平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置包括激光器I、支架
2、載物臺(tái)3、待測(cè)平面鏡4、光功率測(cè)試儀I 5和光功率測(cè)試儀II 6 ;將待測(cè)平面鏡4水平固定在載物臺(tái)3上，激光器I固定在支架2上，固定位置與待測(cè)平面鏡4不垂直，光功率測(cè)試儀I 5固定在入射光的光路上、光功率測(cè)試儀II 6固定在反射光的光路上。所述的光功率測(cè)試儀I 5和光功率測(cè)試儀II 6固定時(shí)要與分別與所測(cè)光路垂直。所述的光功率測(cè)試儀I 5和光功率測(cè)試儀II 6為相同結(jié)構(gòu)元件，激光器I、支架2、載物臺(tái)3、待測(cè)平面鏡4、光功率測(cè)試儀I 5和光功率測(cè)試儀II 6都是市售的普通元件。本實(shí)用新型優(yōu)點(diǎn)及效果可以準(zhǔn)確測(cè)出平面反射鏡的反射系數(shù)，同時(shí)測(cè)量精度高，使用方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。

圖I為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；圖中1-激光器、2-支架、3-載物臺(tái)、4-待測(cè)平面鏡、5-光功率測(cè)試儀I、6-光功率測(cè)試儀II。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。如圖I所示平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置包括激光器I、支架2、載物臺(tái)3、待測(cè)平面鏡4、光功率測(cè)試儀I 5和光功率測(cè)試儀II 6 ;將待測(cè)平面鏡4水平固定在載物臺(tái)3上，激光器I固定在支架2上，固定位置與待測(cè)平面鏡4不垂直，光功率測(cè)試儀I 5固定在入射光的光路上、光功率測(cè)試儀II 6固定在反射光的光路上；光功率測(cè)試儀I 5和光功率測(cè)試儀II 6固定時(shí)要與分別與所測(cè)光路垂直。[0012] 本實(shí)用新型裝配好以后，打開激光器1，是入射光線通過光功率測(cè)試儀I 5，利用光功率測(cè)試儀I 5測(cè)量入射光的光強(qiáng)Al,然后把光功率測(cè)試儀I 5移開,使入射光射向待測(cè)平面鏡4，在待測(cè)平面鏡4發(fā)生反射以后，反射光通過光功率測(cè)試儀II 6，利用光功率測(cè)試儀II 6測(cè)量反射光的光強(qiáng)A2，根據(jù)光功率數(shù)據(jù)Al和A2，通過計(jì)算得到平面鏡的反射系數(shù)A2/Al。本實(shí)用新型是通過具體實(shí)施過程進(jìn)行說明的，在不脫離本實(shí)用新型范圍的情況下，還可以對(duì)實(shí)用新型進(jìn)行各種變換及等同代替，因此，本實(shí)用新型不局限于所公開的具體實(shí)施過程，而應(yīng)當(dāng)包括落入本實(shí)用新型權(quán)利要求范圍內(nèi)的全部實(shí)施方案。
權(quán)利要求1.一種平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在于包括激光器(I)、支架(2)、載物臺(tái)(3)、待測(cè)平面鏡(4)、光功率測(cè)試儀I (5)和光功率測(cè)試儀II (6);將待測(cè)平面鏡(4)水平固定在載物臺(tái)(3)上，激光器(I)固定在支架(2)上，固定位置與待測(cè)平面鏡(4)不垂直，光功率測(cè)試儀1(5)固定在入射光的光路上、光功率測(cè)試儀II (6)固定在反射光的光路上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的所述的一種平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在于所述的光功率測(cè)試儀I (5)和光功率測(cè)試儀II (6)固定時(shí)要與分別與所測(cè)光路垂直。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種平面鏡反射系數(shù)的測(cè)量裝置，屬于光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域；測(cè)量裝置包括激光器、支架、載物臺(tái)、待測(cè)平面鏡、光功率測(cè)試儀Ⅰ和光功率測(cè)試儀Ⅱ；將待測(cè)平面鏡水平固定在載物臺(tái)上，激光器固定在支架上，固定位置與待測(cè)平面鏡不垂直，光功率測(cè)試儀Ⅰ固定在入射光的光路上、光功率測(cè)試儀Ⅱ固定在反射光的光路上。本實(shí)用新型可以準(zhǔn)確的測(cè)出平面反射鏡的反射系數(shù)，同時(shí)測(cè)量精度高，使用方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。
文檔編號(hào)G01M11/02GK202735064SQ20112053542
公開日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2011年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月20日
發(fā)明者蔣鑫巍, 張永安 申請(qǐng)人:昆明理工大學(xué)