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一種基于左手材料的光鑷的制作方法

文檔序號(hào):6025894閱讀:444來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種基于左手材料的光鑷的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于生物樣品(例如蛋白質(zhì)、DNA以及抗體等)檢測(cè)領(lǐng)域,涉及一種基于左手材料的光鑷,可應(yīng)用于疾病治療診斷和生物醫(yī)學(xué)。
背景技術(shù)
生命科學(xué)的發(fā)展為疾病的診斷、治療及預(yù)防提供了高效便捷的手段,同時(shí)也面臨著新的挑戰(zhàn),即如何操縱具有微小尺寸的組織、細(xì)胞、藥物、生物大分子和生物活性分子等, 提供即時(shí)、在線、準(zhǔn)確和全面的分析。為了解決這些問(wèn)題,人們嘗試將激光微束光阱效應(yīng)與生物工程、微電子工藝、以及光電子學(xué)等學(xué)科有機(jī)結(jié)合,由此形成了生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的一個(gè)新的熱點(diǎn)光鑷技術(shù)。1986年美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室科學(xué)家Arthur Ashkin首次將光鑷技術(shù)應(yīng)用于生命科學(xué)的研究,他利用單束激光引入高數(shù)值孔徑物鏡形成了三維光學(xué)阱,并證明了這種光阱可以無(wú)損傷地操縱基于微米級(jí)及亞微米級(jí)的活體物質(zhì)。(Opt. Lett. 1986,11 :288-290)。由于光鑷技術(shù)可以定量測(cè)試生物體所產(chǎn)生的PN級(jí)的生物微作用力以及nm級(jí)的微小位移,因此,目前已成為最前沿的生命科技領(lǐng)域之一,得到了人們的廣泛關(guān)注。目前廣泛研究的光鑷技術(shù)有傳統(tǒng)光鑷技術(shù),多光束光鑷技術(shù),近場(chǎng)光鑷技術(shù)和特殊光鑷技術(shù)等。其中傳統(tǒng)光鑷技術(shù)是激光束經(jīng)過(guò)擴(kuò)束和反射光路后,聚焦到樣品池中。樣品池隨樣品臺(tái)二維移動(dòng),與被撲獲得微粒產(chǎn)生相對(duì)位移。但該技術(shù)只能操控單個(gè)微粒。 Nature, 1987 (330) :769-771,其在多光鑷技術(shù)中,每個(gè)光鑷都由獨(dú)立的光束形成,因此一次可以形成多個(gè)光阱,并同時(shí)撲獲多個(gè)微粒,極大增強(qiáng)了光鑷的效率。但是難以對(duì)單個(gè)納米量級(jí)的生物分子進(jìn)行撲獲和操縱。激光與光電子學(xué)進(jìn)展,2007,44(5) :62-66,其近場(chǎng)光鑷技術(shù)的撲獲范圍具有高度局域性,可以做到這一點(diǎn),是中分子水平操縱的有力工具之一,但是其結(jié)構(gòu)復(fù)雜,操作難度較高。光學(xué)技術(shù),2003,四(3) :266-272,其特殊光鑷技術(shù)主要采用貝塞爾光束和拉蓋爾.高斯光束,它可以在光束的傳播方向上同時(shí)撲獲多個(gè)粒子和對(duì)任意粒子的光致旋轉(zhuǎn)。但是,其不能對(duì)納米量級(jí)的粒子進(jìn)行操作,且成本較高,詳見激光與光電子學(xué)進(jìn)展,2007,44 (6) :15-260上述傳光鑷系統(tǒng)都屬于分立器件結(jié)構(gòu),具有體積大、結(jié)構(gòu)復(fù)雜、成本高的缺點(diǎn),同時(shí)他們撲獲納米級(jí)或亞微米量級(jí)的分子能力較低、靈敏度較差。因此設(shè)計(jì)研發(fā)具有尺寸小、 靈敏度高、納米級(jí)或亞微米量級(jí)粒子撲獲能力強(qiáng)的光鑷技術(shù)是目前亟需解決的問(wèn)題?;谥芷谛钥钻嚵薪Y(jié)構(gòu)的左手材料的尺寸可以達(dá)到< 6um,(PRL 106,067402, 2011)。由于其具有磁偶極子,在光源照射下,會(huì)產(chǎn)生一個(gè)沿光照方向的pN級(jí)的負(fù)向光學(xué)力 (negative optical force)。因此,將基于周期性孔陣列結(jié)構(gòu)的左手材料應(yīng)用于光鑷技術(shù), 實(shí)現(xiàn)對(duì)納米量級(jí)粒子的準(zhǔn)確抓獲和操縱是本發(fā)明的創(chuàng)研動(dòng)機(jī)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)上述光鑷系統(tǒng)的問(wèn)題,提供了一種基于左手材料(Metamaterial)的光鑷,該集成器件具有尺寸小、靈敏度高、撲獲納米級(jí)或亞微米量級(jí)粒子能力強(qiáng)、準(zhǔn)確率高的特點(diǎn)。本發(fā)明解決問(wèn)題采用的技術(shù)方案如下左手材料光鑷該光鑷具有一層或多層三明治結(jié)構(gòu),所述的三明治結(jié)構(gòu)是通過(guò)在襯底上交替生長(zhǎng)金屬層、絕緣層、金屬層而成;其上具有周期性結(jié)構(gòu)的孔陣列,使其具有磁偶極子,并在光源照射下,產(chǎn)生一個(gè)沿光照方向的負(fù)向光學(xué)力,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)微小粒子的抓獲和選擇。所述的三明治結(jié)構(gòu)是通過(guò)在襯底上交替生長(zhǎng)金屬層、絕緣層、金屬層而成。金屬層的寬度在ι微米至10厘米之間、高度在20納米至500微米之間,絕緣層在1微米至10厘米之間、高度在20納米至500微米之間。金屬層包括Al、Ag、Au、Cu等,絕緣層包括A1203、 MgF2、HSQ(Hydrogen silsesquioxane)等。所述的襯底可以采用晶體材料、有機(jī)材料,其中晶體材料包括硅、砷化鎵、磷化銦等半導(dǎo)體襯底。所述的周期性孔矩陣孔可以是矩形、方形、圓形、橢圓形、弧形、十字形等,孔的寬度在20納米至10微米之間、高度在60納米至10厘米之間。周期性孔矩陣可以通過(guò)干法或者濕法刻蝕工藝實(shí)現(xiàn),如電子束曝光(Ε-beam lithography)、聚焦離子束曝光(Focus Ion Beam lithography)和反應(yīng)離子束刻蝕(Reactive Ion Etching,RIE)等,其特點(diǎn)是底部平坦,空壁光滑,側(cè)面形狀不限。左手材料光鑷的制備過(guò)程是在襯底上通過(guò)生長(zhǎng)工藝制備三明治結(jié)構(gòu)(金屬層-絕緣層-金屬層);然后在三明治結(jié)構(gòu)上通過(guò)掩模和刻蝕工藝制備周期性孔矩陣。本發(fā)明的測(cè)試系統(tǒng)由光源、顯微鏡和光力顯示器構(gòu)成。測(cè)試前將左手材料光鑷置于樣品池上方,左手材料在光源的照射下,在磁偶極子震蕩頻率附近會(huì)產(chǎn)生一個(gè)沿光照方向的負(fù)向光學(xué)力,從而形成光鑷射向樣品池,實(shí)現(xiàn)對(duì)某一特定尺寸微粒的抓獲和操縱。然后降低或者升高光源的輸入頻率,改變左手材料光鑷對(duì)粒子的作用力,實(shí)現(xiàn)對(duì)其他特定尺寸微粒的選取。此時(shí),光力顯示器顯示的數(shù)據(jù),即為左手材料光鑷對(duì)不同尺寸微粒的吸附力大小。顯微鏡可以用來(lái)觀測(cè)微粒在所述光鑷作用下所產(chǎn)生的位移。光源采用波長(zhǎng)可調(diào)諧激光器、半導(dǎo)體連續(xù)或準(zhǔn)連續(xù)激光、或者發(fā)光二極管。顯微鏡可以采用普通熒光垂直或正置顯微
^Mi ο本發(fā)明的左手材料光鑷具有特有的磁偶極子,可以使其在很小功率光源的作用下即可實(shí)現(xiàn)對(duì)納米或者亞微米粒子的抓獲,減少了由于光源功率過(guò)大所導(dǎo)致的光鑷對(duì)生物樣本的活力影響和擾動(dòng)。因此,該光鑷具有體積小、抓獲力大、穩(wěn)定性高、抓獲準(zhǔn)確率高等特
點(diǎn)ο


圖1為左手材料光鑷工作示意圖。圖2為左手材料光鑷的各種形狀示意圖。圖3為左手材料光鑷制作流程示意圖。圖4為左手材料光鑷系統(tǒng)測(cè)試示意圖。圖中1襯底,2三明治結(jié)構(gòu),3掩膜,4周期性孔矩陣,5單層的左手材料光鑷,6金屬層,7絕緣層,8多層的左手材料光鑷,9光源,10顯微鏡,11光力顯示器,12樣品池,13控溫器,14CXD攝像機(jī)。
具體實(shí)施例方式為使得本發(fā)明的技術(shù)方案的內(nèi)容更加清晰,以下結(jié)合技術(shù)方案和附圖詳細(xì)敘述本發(fā)明的具體實(shí)施方式
。其中的薄膜生長(zhǎng)技術(shù)包括蒸發(fā)、濺射、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積 (MOCVD)、分子束外延(MBE)、電子束蒸發(fā)(Ε-beam evaporation)或液相外延(LPE)等常用技術(shù)。其中的掩模工藝包括電子束曝光(E-beamlith0graphy,EBL)、聚焦離子束曝光(Focus Ion Beam lithography,FIBL)等常用技術(shù)。其中的刻蝕工藝包括濕法刻蝕和干法刻蝕,如酸法刻蝕、電子束刻蝕、聚焦離子束刻蝕和反應(yīng)離子束刻蝕(Reactive Ion Etching, RIE) 等常用工藝。首先,利用薄膜生長(zhǎng)工藝在玻璃襯底1上形成N(N>= 1)層三明治結(jié)構(gòu)(金屬層-絕緣層-金屬層)2,如附圖3 (a)所示。其次,在三明治結(jié)構(gòu)2上沉積薄膜作為掩模3, 其中3可以是SiO2等,如附圖3(b)所示。然后,將根據(jù)理論計(jì)算的結(jié)果,定義滿足填充因子和刻蝕圖形要求的周期性孔矩陣樣板(Pattern),并通過(guò)掃描式離子束曝光(EBL)或聚焦離子束曝光(FIBL)將樣本轉(zhuǎn)換到掩模上,如附圖3(c)所示。其中,理論計(jì)算可以采用有限時(shí)域差分法、有限元法等算法。通過(guò)刻蝕工藝,在2材料上制備周期性孔矩陣4,如附圖3(d)所示。最后,移除掩模3,得到左手材料光鑷5,如附圖3(e)所示。其中基于多層三明治結(jié)構(gòu)的左手材料光鑷8 如附圖3(f)所示。本發(fā)明測(cè)試系統(tǒng)主要由光源9、顯微鏡10和光力顯示器11構(gòu)成。測(cè)試前可以將左手材料光鑷8直接置于樣品池12上方,左手材料在光源9的照射下,形成光鑷射向樣品池, 實(shí)現(xiàn)對(duì)某一特定尺寸微粒的抓獲和操縱。顯微鏡10可以用來(lái)觀測(cè)微粒在所述光鑷作用下所產(chǎn)生的位移。左手材料光鑷對(duì)不同尺寸微粒的吸附力由光力顯示器11顯示。本發(fā)明系統(tǒng)同時(shí)還包括控溫器13、(XD攝像機(jī)14。(附圖4所示)利用CXD攝像機(jī)14對(duì)光鑷作用下的微粒進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),并將所得的視頻信號(hào)在顯示器顯示。樣品池12與控溫器13相連,使樣品在光鑷的作用下始終處于常溫狀態(tài)。顯微鏡10用來(lái)采集視場(chǎng)信息。綜上所述,本發(fā)明提供的左手材料光鑷具有磁偶極子特性,該特性使其利用很小功率光源實(shí)現(xiàn)對(duì)納米或者亞微米粒子的抓獲,減少了由于光源功率過(guò)大所導(dǎo)致的光鑷對(duì)生物樣本的活力影響和擾動(dòng),從而顯著提高了光鑷的靈敏度、分辨率和抗干擾性。以上所述是本發(fā)明應(yīng)用的技術(shù)原理和具體實(shí)例,依據(jù)本發(fā)明的構(gòu)想所做的等效變換,只要其所運(yùn)用的方案仍未超出說(shuō)明書和附圖所涵蓋的精神時(shí),均應(yīng)在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基于左手材料的光鑷,其特征在于,該光鑷具有一層或多層三明治結(jié)構(gòu),其上具有周期性結(jié)構(gòu)的孔陣列;所述的三明治結(jié)構(gòu)是通過(guò)在襯底上交替生長(zhǎng)金屬層、絕緣層、金屬層而成,金屬層的寬度在1微米至10厘米、高度在20納米至500微米,絕緣層在1微米至10厘米、高度在20納米至500微米;所述的襯底采用晶體材料、有機(jī)材料;所述的周期性孔矩陣孔是矩形、方形、圓形、橢圓形、弧形、十字形;孔的寬度在20納米至10微米、高度在60納米至10厘米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于左手材料的光鑷,其特征在于,金屬層包括Al、Ag、Au、Cu。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于左手材料的光鑷,其特征在于,絕緣層包括A1203、MgF2、HSQ。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于左手材料的光鑷,其特征在于,所述的晶體材料包括硅、砷化鎵、磷化銦。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于左手材料的光鑷,其特征在于,周期性孔矩陣通過(guò)干法或者濕法刻蝕工藝實(shí)現(xiàn),包括電子束曝光、聚焦離子束曝光和反應(yīng)離子束刻蝕。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基于左手材料的光鑷,通過(guò)在一層或多層三明治結(jié)構(gòu)上(金屬層-絕緣層-金屬層),制備具有周期性結(jié)構(gòu)的孔陣列,使其具有磁偶極子,并在光源照射下,產(chǎn)生一個(gè)沿光照方向的負(fù)向光學(xué)力,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)微小粒子的準(zhǔn)確抓獲和選擇。該光鑷所特有的磁偶極子,可以使其在很小功率光源的作用下即可實(shí)現(xiàn)對(duì)微小粒子的抓獲,減少了由于光源功率過(guò)大所導(dǎo)致的光鑷對(duì)生物樣本的活力影響和擾動(dòng)。該光鑷具有體積小、抓獲力大、穩(wěn)定性高等特點(diǎn)。
文檔編號(hào)G01N21/84GK102565057SQ20111042157
公開日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月15日
發(fā)明者曹暾 申請(qǐng)人:大連理工大學(xué)
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